JP2008542751A5

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Info

Publication number: JP2008542751A5
Application number: JP2008514618A
Authority: JP
Filing date: 2006-01-04
Publication date: 2009-04-30
Anticipated expiration: 2026-01-04

Claims

試料を分析するための２次元Ｘ線散乱カメラにおいて、
Ｘ線を放出する線源と、
前記Ｘ線がビームを形成するように調整し、前記ビームを前記試料と相互作用するように導く２次元光学素子と、
前記試料により散乱されたＸ線放射線を検出する検出器と、
一対のコリメーション・ブロックであって、該一対のコリメーション・ブロックは、前記ビームを視準するために、前記光学素子と前記検出器との間に置かれ、寄生散乱のない領域を形成するために、１つのコリメーション・ブロックの第１の面は他のコリメーション・ブロックの第２の面と整列させられている、一対のコリメーション・ブロックと
を含む２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記カメラの角度範囲が前記一対のコリメーション・ブロックの位置によって調節される、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
旋回軸線が前記一対のコリメーション・ブロックの間に設置され、前記コリメーション・ブロックは前記旋回軸線の周りで前記ビームに対して回転可能である、請求項２に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
旋回軸線が前記一対のコリメーション・ブロックのうちの１つのコリメーション・ブロックの縁部に設置され、前記コリメーション・ブロックは前記旋回軸線の周りで前記ビームに対して回転可能である、請求項２に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記光学素子が前記一対のコリメーション・ブロックと前記線源との間に設置される、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記一対のコリメーション・ブロックが２つの分離した構造体である、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記一対のコリメーション・ブロックが単一の一体化されたユニットである、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
ビーム・ストップをさらに含み、前記ビームが前記検出器に集束されるようになっている、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記線源が微小焦点線源である、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記２次元光学素子が、２次元ビームを形成するように構成され、フラックスを増大させ、発散を低減させるようになっている、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記２次元光学素子が、前記ビームを視準させるように構成されている、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記２次元光学素子が、前記ビームを集束させるように構成されている、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記２次元光学素子が、前記ビームを単色化するように構成されている、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記２次元光学素子が、２次元多層光学素子である、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記一対のコリメーション・ブロックのうちの１つのコリメーション・ブロックが、Ｕ型構造体により形成される、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記一対のコリメーション・ブロックのうちの他のコリメーション・ブロックが、前記Ｕ型構造体に取り付けられる、請求項１５に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記寄生散乱のない領域が、前記第１の面と前記第２の面に沿って延びる線の上方に形成される、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
前記１つのコリメーション・ブロックの前記第１の面が、前記他のコリメーション・ブロックの前記第２の面とひとつの平面内で整列される、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。
２次元Ｘ線ビームを用いて試料を分析する方法において、
線源からＸ線を放出する段階と、
前記Ｘ線を、ビームを形成するために、前記線源から前記試料の方へ２次元で反射する段階と、
一対のコリメーション・ブロックを前記線源と検出器との間に置き、寄生散乱のない領域を形成するために、１つのコリメーション・ブロックの第１の面を他のコリメーション・ブロックの第２の面と整列させ、前記一対のコリメーション・ブロックを用いて前記ビームを視準する段階と、
前記検出器を用いて前記試料により散乱されたＸ線放射線を検出する段階と
を含む、試料分析方法。
２次元Ｘ線ビームを形成し、フラックスを増大させ、発散を低減させる段階をさらに含む、請求項１９に記載された試料分析方法。
前記ビームを視準させる段階をさらに含む、請求項１９に記載された試料分析方法。
前記ビームを集束させる段階をさらに含む、請求項１９に記載された試料分析方法。
旋回軸線が前記一対のコリメーション・ブロックの間に設置される段階をさらに含む、請求項１９に記載された試料分析方法。
旋回軸線が前記一対のコリメーション・ブロックのうちの１つのコリメーション・ブロックの縁部に設置される段階をさらに含む、請求項１９に記載された試料分析方法。
光学素子が前記一対のコリメーション・ブロックと前記線源との間に設置される段階をさらに含む、請求項１９に記載された試料分析方法。
前記ビームを前記検出器に集束させる段階をさらに含む、請求項１９に記載された試料分析方法。
異方性の試料の全範囲のデータを得るために、試料を前記ビームの長手方向軸線の周りで回転させるように、試料が取り付けられる回転装置をさらに含む、請求項１に記載された２次元Ｘ線散乱カメラ。