JP2008539596A5 - - Google Patents

Claims (6)

1. プラズマリアクタチャンバから真空ポンプへのガス伝導度又はチャンバ圧力のうちの１つを制御するための弁アセンブリにおいて、
   第１及び第２の対向表面を有する弁ハウジングと、
   大面積開口及び大面積回転フラップを備える高伝導度弁であって、前記大面積開口は、前記第１及び第２の対向表面において前記弁ハウジングを通して延長していて、前記第１及び第２の表面の間に延長する弧状断面を有する側壁部を画成し、前記大面積回転フラップは、前記大面積開口において前記側壁部の弧状断面と概ね整合する弧状断面を有する滑らかな連続する周辺縁部を有し且つ閉フラップ位置において前記周辺縁部と前記側壁部との間に小さなギャップを画成する、前記高伝導度弁と、
   小面積開口及び小面積回転フラップを備える微細制御弁であって、前記小面積開口は、前記第１及び第２の対向表面において前記弁ハウジングを通して延長していて、前記第１及び第２の表面の間に延長する滑らかな連続する弧状断面を有する側壁部を画成、前記小面積回転フラップは、前記小面積開口において前記側壁部の弧状断面と概ね整合する弧状断面を有する周辺縁部を有し且つ閉フラップ位置において前記周辺縁部と前記側壁部との間に小さなギャップを画成する、前記微細制御弁と、
   前記大面積開口の前記側壁部における、前記弁ハウジングの一方の面から延長し且つ前記一方の面で最大であり次第に減じて前記一方の面より下の所定の距離のところで最小の深さとなる半径方向の深さを有する断面が欠けた円形である丸い孔を備えた第一の複数の軸方向スロットであって、前記大面積開口の前記側壁が前記軸方向のスロットの間に滑らかな連続する表面を有する、前記軸方向スロットと、
   を備える弁アセンブリ。
2. 前記高伝導度弁と前記微細制御弁とに結合されたコントローラであって、前記高伝導度弁で大きな流れの変化をもたらすように及び前記微細制御弁で流量の微調整を行うようにプログラムされている前記コントローラを更に備える、請求項１に記載の装置。
3. 前記小さなギャップの各々は、所定の最小ガス流量にて所望の圧力範囲内で前記弁アセンブリを通してのガス伝導度を制限するに十分なほど小さく、前記圧力範囲は約２００ミリトールまでに亘り、且つ前記最小ガス流量は約１０ｓｃｃｍである、請求項１に記載の装置。
4. 前記小さなギャップの各々は、約１０００分の２０インチの程度である、請求項１に記載の装置。
5. 前記ギャップの各々は、２００ミリトールの圧力までガスの平均衝突パス長より小さい、請求項１に記載の装置。
6. 前記大面積開口の前記側壁部に、前記弁ハウジングの反対側の面から延長し且つ前記反対側の面で最大であり次第に減じて前記反対側の面より下の所定の距離のところで最小の深さとなる深さを有する断面が欠けた円形である丸い孔を備えた第二の複数のスロットを更に備える、請求項１に記載の装置。