JP2008534428A - 光ファイバー用プリフォームの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
− 一方では、ケイ素含有出発物質のプラズマバーナへの供給を停止させるか又は減らす。
− 他方、プリフォーム表面の温度を上昇させる。このことは、プラズマバーナとプリフォーム表面との距離を変えるかもしくはプラズマバーナをプリフォーム表面に沿って移動させる相対速度を減らすか又は増大された火炎温度により行うことができる。増大された火炎温度は、例えば、プラズマ領域中のガス組成を変えるか、又は最も簡単な場合には、ケイ素含有出発物質の供給を断つか又は減らすことにより得る。
図1は、プリフォームを製造するためのPOD法を模式図的に示し、
図2は、いわゆる「ボックス及びウィスカープロット(box and whisker plot)」による堆積工程の結果の統計評価を示す。
Claims (12)
- 堆積段階及び平滑化段階で操作するプラズマバーナ1を使用して石英ガラスの光ファイバー用プレフォームを製造するにあたり、堆積段階の間にケイ素含有出発物質をプラズマバーナに供給し、プラズマバーナ(1)に位置するプラズマ火炎(2)中でこれからSiO2を形成させ、そしてこのSiO2を、その軸線(6)周りを回転する基体(3)の円柱ジャケット表面上に、プラズマバーナ(1)を基体(3)に沿って反転移動させることにより層状に堆積させ、そしてこの工程の間にプリフォームの石英ガラス(4)に直接ガラス化させ、そしてプリフォーム表面(9)を平滑化段階の間に、プリフォームに沿って少なくとも1回移動するプラズマ火炎(2)により、プリフォーム表面(9)の平滑化及び近表面の泡の溶融が生ずるように堆積段階と比べて高い温度で処理する方法において、堆積段階は複数の連続的な堆積下位段階を含み、この過程において石英ガラス層をそれぞれの下位段階で400μm未満の厚さで製造し、その際、この連続的な堆積下位段階を平滑化段階により中断させることを特徴とする方法。
- 堆積下位段階の過程において、石英ガラス層をそれぞれの場合に25〜300μm、好ましくは少なくとも50μmの範囲内の厚さで製造することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 堆積下位段階の過程において石英ガラス層をそれぞれの場合に最大150μmの厚さで製造することを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- プラズマバーナ(1)の反転移動が、50未満の堆積経路を堆積下位段階の過程に含むことを特徴とする、請求項1から3までの何れか1項に記載の方法。
- プラズマバーナ(1)の反転移動が、4〜38の堆積経路、好ましくは最大30の堆積経路を堆積下位段階の過程に含むことを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 連続的な堆積下位段階において、同数の堆積経路を実施することを特徴とする、請求項1から5までの何れか1項に記載の方法。
- 平滑化段階の間にプリフォーム表面(9)をフッ素含有エッチャントで処理することを特徴とする、請求項1から6までの何れか1項に記載の方法。
- 石英ガラスをフッ素でドープし、その際、エッチャントがドーパント源として作用することを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 平滑化段階の間にプラズマバーナ(1)をプリフォーム表面に沿って1回移動させることを特徴とする、請求項1から8までの何れか1項に記載の方法。
- プラズマバーナ(1)をプリフォーム表面(9)に沿って移動させ、その際、平滑化段階の間の移動速度が堆積段階の間の移動速度と比べて低いことを特徴とする、請求項1から9までの何れか1項に記載の方法。
- 平滑化段階の間において、堆積段階の間と比べて少量のケイ素含有出発物質をプラズマバーナ(1)に供給することを特徴とする、請求項1から10までの何れか1項に記載の方法。
- 堆積段階の間の形成又はSiO2のために、かつ平滑化段階の間のプリフォーム表面(9)の平滑化のために、同じプラズマバーナ(1)を使用することを特徴とする、請求項1から11までの何れか1項に記載の方法。
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