DE10226448B4 - Verfahren zur Herstellung eines SiO2 und einen Dotierstoff enthaltenden Rohlings - Google Patents

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Abstract

Verfahren zur Herstellung eines SiO2 und einen Dotierstoff enthaltenden Rohlings durch Abscheiden aufeinanderfolgender SiO2 enthaltender Partikelschichten auf einer Mantelfläche eines um seine Längsachse rotierenden Trägers, unter Einsatz einer eine Vielzahl von Abscheidebrennern umfassenden Brenneranordnung, die in einem vorgegebenen Bewegungsablauf parallel zur Träger-Längsachse und von einem stirnseitigen Ende des sich bildenden SiO2-Rohlings zum gegenüberliegenden Ende oszillierend hin- und herbewegt wird, wobei die Brenneranordnung mehrere, jeweils mindestens einen Abscheidebrenner aufweisende Brennergruppen aufweist, umfassend eine vordere Brennergruppe zum Abscheiden einer unteren Schicht, und eine der vorderen Brennergruppe beim Bewegungsablauf folgende, hintere Brennergruppe zum Abscheiden mindestens einer oberen Schicht, wobei mindestens einem Teil der Abscheidebrenner eine Ausgangssubstanz für die Bildung des Dotierstoffs in Form von GeO2 zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidebrenner (9) der hinteren Brennergruppe (23) beim Abscheiden der oberen Schicht (6) eine höhere Flammentemperatur erzeugen als die Abscheidebrenner (7, 7a; 7b) der vorderen Brennergruppe (21) beim Abscheiden der unteren Schicht...

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines SiO2 und einen Dotierstoff enthaltenden Rohlings durch Abscheiden aufeinanderfolgender SiO2 enthaltender Partikelschichten auf einer Mantelfläche eines um seine Längsachse rotierenden Trägers, unter Einsatz einer eine Vielzahl von Abscheidebrennern umfassenden Brenneranordnung, die in einem vorgegebenen Bewegungsablauf parallel zur Träger-Längsachse und von einem stirnseitigen Ende des sich bildenden SiO2-Rohlings zum gegenüberliegenden Ende oszillierend hin- und herbewegt wird, wobei die Brenneranordnung mehrere, jeweils mindestens einen Abscheidebrenner aufweisende Brennergruppen aufweist, umfassend eine vordere Brennergruppe zum Abscheiden einer unteren Schicht, und eine der vorderen Brennergruppe beim Bewegungsablauf folgende, hintere Brennergruppe zum Abscheiden mindestens einer oberen Schicht, wobei mindestens einem Teil der Abscheidebrenner eine Ausgangssubstanz für die Bildung des Dotierstoffs in Form von GeO2 zugeführt wird.
  • Bei Anwendungen, bei denen es auf hohe Reinheit, chemische Beständigkeit oder Temperaturfestigkeit ankommt, werden häufige Bauteile aus Quarzglas eingesetzt. Beispielsweise werden aus SiO2-Rohlingen Bauteile und Gerätschaften für Optik, Lithographie und für den Einsatz bei der Halbleiterherstellung gefertigt. Außerdem werden SiO2-Rohlinge als Halbzeug für die Herstellung optischer Fasern verwendet, wobei insbesondere für die Herstellung kernnaher Bereiche der Faser hohe Anforderungen an die optischen Eigenschaften der SiO2-Rohlinge gestellt werden. Ein typisches Beispiel hierfür ist ein sogenannter „Kernstab", der das Quarzglas für den Kernbereich der optischen Faser und den inneren Teil des Mantels bereitstellt. Kern- und Mantelbereich unterscheiden sich in ihrem Brechungsindex. Dies wird durch Zugabe von Dotierstoffen erreicht. Dabei wird in der Regel eine axial homogene Dotierstoffverteilung über der Länge des Kernstabs angestrebt. Dies kann im einfachsten Fall dadurch erreicht werden, dass für die Abscheidung der den Dotierstoff enthaltenden SiO2-Partikel ein einzelner Abscheidebrenner eingesetzt wird, der von einem stirnseitigen Ende des sich bildenden Sootzylinders bis zum anderen Ende oszillierend hin- und herbewegt wird.
  • Ein derartiges Verfahren ist aus der US-A-4,251,251 bekannt. Darin wird die Herstellung eines Kernglases einer optischen Vorform für eine Lichtleitfaser nach dem sogenannten OVD-Verfahren (outside vapour deposition) beschrieben. Hierzu wird in einem ersten Verfahrensschritt ein poröser SiO2-Zylinder (im folgenden als „Sootzylinder" bezeichnet) hergestellt. Der Sootzylinder besteht aus einer mit Germaniumdioxid (25 Gew.-%) und Boroxid (5 Gew.-%) dotierten zentralen SiO2-Innenschicht, die von einer mit Boroxid (2 Gew.-%) dotierten SiO2-Außenschicht umgeben ist. Der Sootzylinder wird durch Flammenhydrolyse von SiCl4 (bzw. von GeCl4 und BCl3) hergestellt, indem mittels eines Flammhydrolysebrenners dotierte SiO2-Partikel erzeugt und auf der Mantelfläche eines um seine Längsachse rotierenden Dorns abgeschieden werden. In einem zweiten Verfahrensschritt wird auf der so erzeugten SiO2-Innenschicht die SiO2-Außenschicht nach dem gleichen Verfahren abgeschieden. Anschließend wird der Dorn aus dem Sootzylinder herausgezogen, der poröse Sootzylinder gesintert und dabei gleichzeitig die Bohrung kollabiert. Die so hergestellte Vorform hat einen Kern aus Quarzglas, das mit Boroxid und Germaniumdioxid dotiert ist, dessen Brechungsindex 1,476 beträgt und das von einem Mantelglas mit einem Brechungsindex von 1,457 umhüllt ist.
  • Infolge des Einsatzes von nur einem Abscheidebrenner sind Abscheiderate und Wirtschaftlichkeit dieses Verfahrens jedoch gering.
  • Ein gattungsgemäßes OVD-Verfahren zur Herstellung einer Vorform aus porösem Quarzglas unter Einsatz einer Brenneranordnung mit mehreren, in einer Reihe angeordneter Abscheidebrenner (im folgenden auch als „Brennerreihe" bezeichnet) ist aus der EP 0 154 342 A2 bekannt. Dabei werden SiO2-Sootschichten auf einem um seine Längsachse rotierenden Träger abgeschieden, indem eine Gruppe von zwei Abscheidebrennern reversierend entlang des Trägers bewegt werden. Beiderseits der Brennerreihe ist jeweils ein Heizbrenner vorgesehen, der jeweils dem letzten der Abscheidebrenner folgt. Mittels des nachfolgenden Heizbrenners soll die darunter liegende SiO2-Soot verdichtet werden. Durch diese Maßnahme soll bei der Sootabscheidung selbst eine geringere Oberflächentemperatur eingestellt werden können, was sich günstig auf die Sootabscheiderate auswirkt. Der nachlaufende Heizbrenner sorgt für eine ausreichende Festigkeit des SiO2-Soots.
  • Dem jeweils nachlaufenden Heizbrenner wird eine Ausgangssubstanz für die Bildung von SiO2 oder eines Dotierstoffes nicht zugeführt, er ist daher weder zur Abscheidung einer SiO2-Schicht geeignet noch dafür vorgesehen.
  • In der JP 2000-351645 A ist ein sogenanntes VAD-Verfahren zur Herstellung einer Vorform für optische Fasern beschrieben. Dabei werden ein Abscheidebrenner zum Abscheiden der Kernglasschicht, ein erster Abscheidebrenner zur Bildung einer unteren Mantelglasschicht und ein zweiter Abscheidebrenner für die Erzeugung einer oberen Mantelglasschicht eingesetzt. Der erste Abscheidebrenner erzeugt dabei eine niedrigere Temperatur als der zweite Abscheidebrenner. Mit dieser Maßnahme soll erreicht werden, dass die untere Mantelglasschicht eine geringere Dichte aufweist. Der Unterschied zwischen den Dichten der unteren Mantelglasschicht und der oberen Mantelglasschicht soll ≤ 0,2 g/cm3 betragen. Die Flammentemperaturen des ersten und des zweiten Abscheidebrenners haben bei diesem Verfahren keinerlei Rückwirkungen zueinander, was die Thermophorese anbelangt.
  • In der EP 476 218 A1 ist ein Verfahren beschrieben, bei dem ein SiO2-Rohling als Halbzeug für die Herstellung optischer Fasern erzeugt wird, indem SiO2-Sootpartikel mittels einer Brennerreihe aus drei Abscheidebrennern erzeugt und auf der Zylindermantelfläche eines rotierenden Trägers abgeschieden werden, indem die Brennerreihe von einem Ende des sich bildenden Rohlings zum gegenüberliegenden Ende verfahren wird.
  • Bei diesem Verfahren ergibt sich infolge des Einsatzes von drei Abscheidebrennern eine höhere Abscheiderate (Masse/Zeiteinheit). Im Vergleich zu einer Abscheidung mit Einfachbrenner wird jedoch eine Verringerung der Abscheide-Effizienz (= Masse/(Zeit × Anzahl der Abscheidebrenner)) beobachtet. Außerdem weist das bekannte Verfahren Defizite hinsichtlich der axialen und radialen Homogenität der Dotierstoffverteilung auf.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt unter Berücksichtigung des oben genannten gattungsgemäßen Verfahrens die Aufgabe zugrunde, die Abscheideeffizienz und Ausbeute an GeO2 bei einem dotierten SiO2-Rohling weiter zu verbessern. t.
  • Diese Aufgabe wird ausgehend von dem eingangs genannten Verfahren erfindungsgemäß dadurch gelöst. dass die Abscheidebrenner der hinteren Brennergruppe beim Abscheiden der oberen Schicht eine höhere Flammentemperatur erzeugen als die Abscheidebrenner der vorderen Brennergruppe beim Abscheiden der unteren Schicht, wobei beim Abscheiden der unteren Schicht ein höherer Gehalt an dem Dotierstoff abgeschieden wird als beim Abscheiden der oberen Schicht.
  • Die vordere Brennergruppe und die hinterer Brennergruppe umfassen jeweils einen oder mehrere Abscheidebrenner. Aus Gründen der Verständlichkeit wird bei folgenden Ausführungen grundsätzlich von Brennergruppen mit jeweils nur einem Abscheidebrenner ausgegangen, wobei aber – sofern nicht ausdrücklich anderes vermerkt wird – auch Ausführungsformen mit zwei oder mehr Abscheidebrennern pro Brennergruppe umfasst sein sollen.
  • Dem Abscheidebrenner wird eine Ausgangssubstanz für die Bildung von SiO2 durch Flammenhydrolyse zugeführt. Zusätzlich können dem Abscheidebrenner Ausgangssubstanzen für die Bildung eines Dotierstoffs oder mehrerer Dotierstoffe zugeführt werden.
  • Beim Bewegungsablauf des Abscheidebrenners kommt es jeweils im Bereich des stirnseitigen Endes des sich bildenden SiO2-Rohlings zu einer Umkehr der Bewe gungsrichtung. Dabei kehrt sich die Reihenfolge der Brennergruppen um; so wird beispielsweise aus der vordem vorderen Brennergruppe die hintere Brennergruppe, und umgekehrt.
  • Mittels des Verfahrens wird im Wechsel eine radiale Abfolge einer Vielzahl oberer Sootschichten und unterer Sootschichten erzeugt, wobei insbesondere die beiden folgenden Aspekte wesentlich sind:
    • 1. Zum einen wird eine Brenneranordnung eingesetzt, die mindestens zwei Abscheidebrenner in vorgegebenem, festem Abstand oder in axial flexibler Aneinanderreihung umfasst. Die Brennaranordnung wird beim Abscheideprozess oszillierend von einem stirnseitigen Ende des sich bildenden Rohlings bis zum gegenüberliegenden stirnseitigen Ende bewegt. Wendepunkte und die damit verbundenen Dichteänderungen auf der Rohlingoberfläche werden vermieden. Dieser – bekannte – Bewegungsablauf einer Brennerreihe über die gesamte Länge des Rohlings ist Voraussetzung einerseits für eine wirtschaftliche Herstellung des SiO2-Rohlings, und andererseits für das Erzielen axial homogener Materialeigenschaften, insbesondere einer homogenen axialen Dichteverteilung.
    • 2. Zum anderen wird beim Abscheiden der jeweils oberen Schicht beim Abscheidebrenner der hinteren Brennergruppe eine höhere Flammentemperatur eingestellt als sie der Abscheidebrenner der vorderen Brennergruppe beim Abscheiden der unteren Schicht aufweist.
  • Beim erfindungsgemäßen Verfahren unterscheiden sich somit die Flammentemperaturen der Abscheidebrenner der vorderen und der hinteren Brennergruppe, und zwar in der Art, dass die Flammentemperatur – in Bewegungsrichtung der Brenneranordnung gesehen – von vorne nach hinten zunimmt.
  • Es hat sich gezeigt, dass durch dieses „Temperaturprofil" der Brenneranordnung eine Erhöhung der Abscheiderate einhergeht. Diese überraschende Wirkung des „Temperaturprofils" kann darauf zurückgeführt werden, dass es dazu beiträgt, beim Brennerdurchgang – bezogen auf einen bestimmten Punkt der Rohling-Oberfläche – einen ansonsten vorhandenen Abfall der Thermophorese ganz oder teilweise zu kompensieren. Die Thermophorese ist eine physikalische Erscheinung, die eine Anziehung der heißen SiO2-Partikel in Richtung auf die kältere Rohling-Mantelfläche bewirkt. Wesentliche Triebkraft bei der Thermophorese ist die Temperaturdifferenz; je höher die Temperaturdifferenz zwischen der kälteren Rohling-Oberfläche (genauer: in der laminaren Grenzschicht der Strömung an der Oberfläche des Rohlings) und der heißen Brennerflamme ist (Flammentemperatur), um so stärker ist die Wirkung der Thermophorese. Bedingt durch den Brennerdurchgang beim Abscheiden der unteren Schicht kommt es im Bereich der Oberfläche des SiO2-Rohlings zu einer Temperaturerhöhung, die die Abscheideeffizienz der folgenden Abscheidebrenner der hinteren Brennergruppe beeinträchtigt. Die erwärmte Rohling-Oberfläche weist eine geringere Temperaturdifferenz zur Brennerflamme auf und bewirkt somit eine Verringerung der thermophoretischen Wirkung beim Abscheiden der SiO2-Partikel durch den Abscheidebrenner der hinteren Brennergruppe. Eine geringere thermophoretische Wirkung führt zu einer Verschlechterung der Abscheideeffizienz.
  • Beim erfindungsgemäßen Verfahren wird der Verlust der thermophoretischen Wirkung bei der Abscheidung durch den Abscheidebrenner der hinteren Brennergruppe jedoch ganz oder teilweise dadurch kompensiert, dass die Temperatur der Brennerflamme der hinteren Brennergruppe erhöht wird. Die Temperaturdifferenz zwischen Brennerflamme und vorab erhitzter Oberfläche kann so dem Niveau der Temperaturdifferenz beim Durchgang der ersten Brennergruppe angenähert werden. Im Idealfall ergibt sich eine konstante Thermophorese beim Durchgang der Brenneranordnung.
  • Hierzu weist der Abscheidebrenner der hinteren Brennergruppe eine höhere Flammentemperatur auf als der Abscheidebrenner der vorderen Brennergruppe. Die Temperaturerhöhung vergrößert die Temperaturdifferenz zwischen der Brennerflamme und dem SiO2-Rohling, so dass die thermophoretische Wirkung auf die SiO2-Partikelabscheidung erhöht und damit die Abscheideeffizienz erhöht wird. Eine Änderung der Flammentemperatur kann durch Ändern der dem Abscheidebrenner zugeführten Medienströme, wie Brennstoffe, Sauerstoff, Glasausgangsstoffe oder Inertgasströme erreicht werden. So wird die Flammentemperatur beispielsweise erhöht, indem die Zufuhrrate von Brenngasen relativ zu den Zufuhrraten von anderen dem Abscheidebrenner zugeführten Gasen vergrößert wird.
  • Unter den Brenngasen werden diejenigen Gase verstanden, deren exotherme Reaktion miteinander die Brennerflamme im Wesentlichen speist. Bei einem Knallgasbrenner handelt es sich beispielsweise um die Brenngase Sauerstoff und Wasserstoff. Eine Erhöhung der Flammentemperatur wird hierbei entweder durch eine Verringerung der Zufuhr von Sauerstoff und/oder Wasserstoff zu dem Abscheidebrenner oder durch eine Verringerung der Zufuhr anderer Gase, wie beispielsweise von Inertgas oder von Ausgangsstoffen für die Bildung der SiO2-Partikel erreicht.
  • Bei der Umkehr der Bewegungsrichtung der Brenneranordnung wird aus der vordem vorderen Brennergruppe die hintere Brennergruppe, und umgekehrt. Das bedeutet zum Beispiel, dass die Flammentemperatur des Abscheidebrenners der hinteren Brennergruppe bei der Umkehr der Bewegungsrichtung entweder gesenkt, oder die Flammentemperatur des Abscheidebrenner der vordem vorderen Brennergruppe höher als diejenige des Abscheidebrenners der vordem hinteren Brennergruppe eingestellt wird. Die Anpassung der Flammentemperaturen bei der Umkehr der Bewegungsrichtung erfordert eine möglichst rasche Änderung der den jeweiligen Abscheidebrennern zugeführten Medienströme.
  • Die sich unter der Brennerflamme bewegende Rohlingoberfläche ist von einer Strömungsgrenzschicht (genauer gesagt, einer Temperaturgrenzschicht) umgeben. Für die vorliegende Erfindung ist die Flammentemperatur unmittelbar vor dem Auftreffen auf die Strömungsgrenzschicht entscheidend – genauer: am Staupunkt vor der Strömungsgrenzschicht –, die in der Regel oberhalb der Reaktionszone, in der die Brenngase reagieren, liegt, also im Bereich der Abgaszone der Brennerflamme. Die Ermittlung der exakten Temperatur in diesem Staupunkt ist schwierig, jedoch ist die Kenntnis der exakten Temperatur für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens nicht erforderlich, da es im Wesentlichen auf die Temperaturdifferenz zwischen den Brennerflammen ankommt. Für eine qualitative Betrachtung genügt eine rechnerische Ermittlung der Flammentemperatur unter Annahme eines adiabatischen chemischen Gleichgewichts der jeweiligen Brenngasmischung.
  • Nach dem oben beschriebenen Verfahren wird ein „Sootkörper" aus porösem Quarzglas erhalten. Durch Sintern (Verglasen) des Sootkörpers wird daraus ein Rohling aus Quarzglas erzeugt, der als Halbzeug für die Herstellung von Bauteilen oder Gerätschaften für Optik, Lithographie, für den Einsatz bei der Halbleiterherstellung und insbesondere als Halbzeug für die Herstellung optischer Fasern verwendet wird. Dem Verglasen können noch Prozessschritte folgen oder diesem vorgeschaltet sein, wie beispielsweise ein Reinigen und Dehydratisieren des Sootkörpers.
  • Im Hinblick auf die Herstellung eines mit GeO2 dotierten SiO2-Rohlings, bei welchem mindestens einem Teil der Abscheidebrenner eine Ausgangssubstanz für die Bildung des Dotierstoffs in Form von GeO2 zugeführt wird, zeichnet sich das erfindungsgemäße Verfahren dadurch aus beim Abscheiden der unteren Schicht ein höherer Gehalt des Dotierstoffs GeO2 abgeschieden wird als beim Abscheiden der oberen Schicht.
  • Beim Abscheiden der oberen Schicht wird eine höhere Flammentemperatur eingestellt als beim Abscheiden der unteren Schicht. Darüber hinaus wird beim Abscheiden der unteren Schicht ein höherer Gehalt an dem Dotierstoff GeO2 abgeschieden als beim Abscheiden der oberen Schicht. Hierzu werden dem Abscheidebrenner der hinteren Brennergruppe keine Ausgangssubstanzen für die Bildung von GeO2 zugeführt, oder weniger davon, als dem Abscheidebrenner der vorderen Brennergruppe.
  • Somit wechseln sich im Verlauf der Bildung des SiO2-Rohlings solche Schichten, die bei vergleichsweise geringer Flammentemperatur und mit hohem Gehalt an Dotierstoff abgeschieden werden, ab, mit solchen Schichten, die bei vergleichs weise hoher Temperatur und keinem oder einem geringeren GeO2-Gehalt abgeschieden werden. Diese Schichtenfolge kann jeweils durch eine Zwischenschicht oder durch mehrere Zwischenschichten unterbrochen sein. Diese Maßnahme bringt im Wesentlichen folgende vorteilhafte Wirkungen mit sich:
    • 1. Sowohl die Bildung von SiO2 bzw. von GeO2 aus den jeweiligen Ausgangssubstanzen, als auch die Abscheideeffizienz hängen von den Temperaturen der Brennerflamme und der Rohlingoberfläche ab. Im Vergleich zu SiO2 sind für eine optimale Bildung und Abscheidung von GeO2 niedrigere Temperaturen günstiger. Denn bei Temperaturen unterhalb von etwa 2000 K verschiebt sich das chemische Gleichgewicht der Reaktion GeO2(liquid) → ½O2(gas) + GeO(gas) deutlich zu Gunsten des gewünschten Dotierstoffs GeO2, der in amorpher Form vorliegt (liquid). Andererseits ergibt sich bei den für die GeO2-Bildung optimalen Temperaturen eine geringere Abscheideeffizienz für SiO2. Dieser Problematik wird beim erfindungsgemäßen Verfahren dadurch Rechnung getragen, dass die vordere Brennergruppe durch eine niedrigere Flammentemperatur eher im Hinblick auf die Bildung und Abscheideeffizienz von GeO2, und die hintere Brennergruppe durch eine höhere Flammentemperatur eher im Hinblick auf die Bildung und Abscheideeffizienz von SiO2 optimiert ist. Da dem Abscheidebrenner der vorderen Brennergruppe gleichzeitig eine relativ größere Menge an Ausgangssubstanz für die Bildung von GeO2, und dem Abscheidebrenner der hinteren Brennergruppe eine relativ größere Menge an Ausgangssubstanz für die Bildung von SiO2 zugeführt wird, ergibt sich eine verbesserte Ausbeute der jeweiligen Ausgangssubstanz. Durch diese Maßnahme wird somit den gegensätzlichen Forderungen nach möglichst effektiver Ausbeute des eingesetzten, teuren A – 7b – Materials für GeO2 und der Beibehaltung einer möglichst hohen SiO2-Abscheiderate Rechnung getragen.
    • 2. Weiterhin wird eine bessere Fixierung des Dotierstoffs im SiO2-Rohling erreicht. Dies lässt sich durch die höhere Temperatur beim Abscheiden der oberen Schicht erklären, die zu einer lokal höheren Dichte des porösen SiO2- Rohlings führt, die einem Transport des Dotierstoffs (etwa durch Diffusion) entgegenwirkt.
  • Eine weitere Verbesserung wird erreicht, wenn eine Brenneranordnung eingesetzt wird, die zwischen der vorderen Brennergruppe und der hinteren Brennergruppe mindestens eine mittlere, einen Abscheidebrenner umfassende Brennergruppe zur Abscheidung mindestens einer mittleren Schicht aufweist, wobei der Abscheidebrenner der mittleren Brennergruppe beim Abscheiden der mittleren Schicht eine geringere Flammentemperatur erzeugt als der Abscheidebrenner der hinteren Brennergruppe beim Abscheiden der oberen Schicht.
  • Durch die nach der ersten Brennergruppe und vor der hinteren Brennergruppe durchlaufende, mittlere Brennergruppe wird eine Feinabstufung in der Temperaturdifferenz zwischen den jeweiligen Brennerflammen der vorderen Brennergruppe und der hinteren Brennergruppe ermöglicht. Dadurch ergibt sich eine weitere Verbesserung hinsichtlich der Konstanz der Thermophorese und damit der Abscheideeffizienz.
  • Es hat sich auch als günstig erwiesen, eine Brenneranordnung einzusetzen, die mindestens drei – in Bewegungsrichtung gesehen – aufeinanderfolgende Brennergruppen zum Abscheiden aufeinanderfolgender Sootschichten aufweist, wobei beim Abscheiden der Sootschichten die Flammentemperatur der Abscheidebrenner aufeinanderfolgender Brennergruppen sukzessive zunimmt. Jeder Punkt der Rohlingoberfläche wird beim Durchgang der Brenneranordnung sukzessive weiter erhitzt. Dieser an und für sich unerwünschte Effekt wird beim erfindungsgemäßen Verfahren noch verstärkt, da Abscheidebrenner nachfolgender Brennergruppen eine höhere Flammentemperatur aufweisen als ein vorhergehender Abscheidebrenner. Die zunehmende Erwärmung der Oberfläche wird jedoch erfindungsgemäß durch eine gleichermaßen zunehmende Erhöhung der Flammentemperatur aufeinanderfolgender Abscheidebrenner berücksichtigt. Idealerweise wird die Flammentemperatur aufeinanderfolgender Abscheidebrenner sukzessive gerade soweit erhöht, dass sich eine Konstanz in der thermophoretischen Wirkung ergibt. Dadurch wird eine besonders gleichmäßige und hohe Abscheideeffizienz erreicht.
  • Es hat sich als besonders günstig erwiesen, beim Abscheiden aufeinanderfolgender Schichten eine Differenz in der Flammentemperatur des jeweiligen Abscheidebrenners der Brennergruppen im Bereich von 50°C bis 600°C einzustellen. Bei einer Temperatur unterhalb der genannten Untergrenze wird eine nur geringe Verbesserung der Abscheideeffizienz erreicht, während sich die Obergrenze durch die Randbedingung ergibt, dass ein Dichtsintern des Rohlings vermieden werden sollte.
  • In einer besonders einfachen und daher bevorzugten Verfahrensweise wird jede Brennergruppe aus genau einem Abscheidebrenner bestehend eingesetzt. Die Brennerflammen der Abscheidebrenner werden individuell eingestellt, so dass eine besonders feine Abstufung und exakte Anpassung an den Idealverlauf der Thermophorese ermöglicht wird.
  • Ein weiterer Vorteil ergibt sich, wenn zusätzlich zu der vorderen Brennergruppe und der hinteren Brennergruppe mindestens eine mittlere Brennergruppe zur Abscheidung mindestens einer mittleren Schicht vorgesehen ist, wobei beim Abscheiden der mittleren Schicht der gleiche Gehalt oder ein geringerer Gehalt an dem Dotierstoff abgeschieden wird wie beim Abscheiden der unteren Schicht.
  • Bei dieser Modifikation des erfindungsgemäßen Verfahrens folgen im Verlauf der Bildung des SiO2-Rohlings jeweils einer Schicht, die bei vergleichsweise geringer Flammentemperatur und mit hohem Gehalt an Dotierstoff abgeschieden werden, eine „Zwischenschicht" mit dem gleichen oder einem geringeren Gehalt an dem Dotierstoff und eine Schicht, die bei vergleichsweise hoher Temperatur und geringem Dotierstoffgehalt abgeschieden wird. Die Zwischenschicht weist in der Regel einen höheren Gehalt an dem Dotierstoff auf als die darauf folgende, durch höhere Temperatur verdichtete, obere Schicht. Die Zwischenschicht wirkt beim Abscheiden der oberen Schicht thermisch isolierend und sie vermindert das Eindringen heißer Flammenabgase in die untere Schicht, und verhindert so eine Zersetzung und Ausdiffusion des Dotierstoffs GeO2. Diese Wirkung der Zwischenschicht wird noch verstärkt, wenn sie eine höhere Dichte aufweist als die untere Schicht. Vorzugsweise ist der GeO2-Gehalt der Zwischenschicht geringer als derjenige der unteren Schicht.
  • Vorzugsweise wird die obere Schicht ohne GeO2 abgeschieden. Die obere Schicht enthält somit keinen Dotierstoff in Form von GeO2. Dadurch wird teueres Ausgangsmaterial für diesen Dotierstoff eingespart, denn dieser wird in der erforderlichen Menge ausschließlich in die darunterliegende Schicht bzw. in die darunterliegenden Schichten eingebracht – und zwar bei einer geringeren Flammentemperatur und damit mit höherer Abscheideeffizienz.
  • Zusätzlich zu GeO2 können andere Dotierstoffe vorhanden sein, beispielsweise Boroxid, Phosphorpentoxid und/oder Titanoxid.
  • Die Erfindung wird nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispiels und einer Zeichnung näher erläutert. In der Zeichnung zeigen in schematischer Darstellung im einzelnen:
  • 1 eine Ausführungsform einer Anordnung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung eines dotierten SiO2-Rohlings, und
  • 2 eine Ausführungsform einer Anordnung zur Herstellung eines SiO2-Rohlings.
  • Die Anordnung gemäß 2 zeigt einen Träger 1 in Form eines Aluminiumoxidrohres, das um seine Längsachse 2 rotiert. Mittels des OVD-Verfahrens (Outside Vapour Deposition) wird auf dem Träger 1 ein poröser Sootkörper 3 gebildet, indem sukzessive aufeinanderfolgende Sootschichten 4; 5; 6 erzeugt werden. Zur Erzeugung der Sootschichten 4; 5; 6 sind insgesamt drei Abscheidebrenner 7; 8; 9 aus Quarzglas vorgesehen, die mit einem Abstand von jeweils 100 mm auf einem gemeinsamen Schlitten 10 montiert sind. Die Abscheidebrenner 7; 8; 9 bilden gleichzeitig Brennergruppen 21; 22; 23. Der Schlitten 10 ist entlang des Trägers 1 oszillierend zwischen den Enden 15 des sich bildenden Sootkörpers 3 hin- und herbewegbar. Die aktuelle Bewegungsrichtung des Schlittens 10 wird durch den Richtungspfeil 14 angedeutet.
  • Die Darstellungen in den 1 und 2 sind nicht maßstabsgetreu; insbesondere sind die Dicken der Schichten (4; 5; 6) Im Sinne einer deutlicheren Darstellung übertrieben dick eingezeichnet. Die Dicken der von einem Abscheidebrenner erzeugten Sootschichten liegen in der Praxis in der Größenordnung von 30 μm bis 50 μm (bei einer Sootdichte von etwa 30% der Dichte von Quarzglas).
  • Nachfolgend wird ein Verfahren zur Herstellung eines SiO2-Sootkörpers 3 anhand der in 2 gezeigten Anordnung beispielhaft beschrieben:
    Zur Herstellung des SiO2-Sootkörpers 3 werden den Abscheidebrennern 7; 8; 9 gleiche Glasausgangsstoffe in Form von SiCl4, Sauerstoff und Brenngasen zugeführt und in der jeweiligen Brennerflamme 11; 12; 13 zu SiO2-Partikeln umgesetzt. Auf dem Träger 1 werden unter Bildung des porösen SiO2-Sootkörpers 3 schichtweise SiO2-Partikel abgeschieden, wobei der Schlitten 10 mit den Abscheidebrennern 7; 8; 9 mit einer Translationsgeschwindigkeit von 800 mm/min entlang des sich bildenden Sootkörpers 3 zwischen dessen Enden 15 hin- und herbewegt wird.
  • Mittels dem in Bewegungsrichtung vorderen Abscheidebrenner 7 wird die untere Schicht 4 abgeschieden. Hierzu wird dem Abscheidebrenner 7 SiCl4, O2 und H2 in folgendem Volumenverhältnis zugeführt: SiCl4 : O2 : H2 = 10 : 20 : 20 (auf 100 normiert: SiCl4 : O2 : H2 = 20 : 40 : 40). Im Bereich des Auftreffpunkts der Brennerflamme 11 stellt sich auf der Oberfläche des Sootkörpers 3 eine Maximaltemperatur von etwa 1880 K ein. Die Oberflächentemperatur des Sootkörpers wurde mittels Pyrometer bestimmt, wobei mangels verlässlichem Emissionskoeffizienten von heißem SiO2-Sootmaterial die Genauigkeit des Messergebnisses zwar fraglich, aber für das Anstellen von Vergleichen ausreichend ist. Die im folgenden genannten Oberflächentemperaturen wurden mit einem Emissionskoeffizienten von 0,98 ermittelt und sind als auf Messungen beruhenden Schätzwerte zu betrachten. Die Messung der Oberflächentemperatur erfolgte etwa in der Mitte der Soot körpers; am Rand des Sootkörpers ergeben sich andere Oberflächentemperaturen.
  • Mittels dem auf den vorderen Abscheidebrenner 7 folgenden mittleren Abscheidebrenner 8 wird die Zwischenschicht 5 erzeugt. Dabei werden dem Abscheidebrenner 8 der Glasausgangsstoff SiCl4 und die Brenngase O2 und H2 gemäß folgendem Volumenverhältnis zugeführt: SiCl4: O2 : H2 = 10 : 20 : 30 (auf 100 normiert: SiCl4 : O2 : H2 = 17 : 33 : 50). Im Auftreffpunkt der Brennerflamme 12 auf der Oberfläche des Sootkörpers 3 wird eine Maximaltemperatur von etwa 1880 K gemessen.
  • Die obere Schicht 6 wird mittels dem hinteren Abscheidebrenner 9 erzeugt. Diesem wird der Glasausgangsstoff und die Brenngase gemäß folgendem Volumenverhältnis zugeführt: SiCl4 : O2 : H2 = 10 : 20 : 35 (auf 100 normiert: SiCl4 : O2 : H2 = 15 : 31 : 54). Hierbei stellt sich im Bereich des Auftreffpunkts der Brennerflamme 13 auf der Oberfläche des Sootkörpers 3 eine Maximaltemperatur von etwa 1950°C ein.
  • Die unterschiedlichen Zufuhrmengen an Glasausgangsstoff und Brenngasen zu den jeweiligen Abscheidebrennern 7, 8 und 9 führen zu unterschiedlichen Temperaturen der jeweiligen Brennerflammen 11; 12; 13. Die dem jeweiligen Abscheidebrennern 7, 8 und 9 zugeführten Medienströme sind in den Spalten 2 bis 4 genannt (Volumenanteile, normiert auf 100) und die daraus unter Annahme eines adiabatischen Gleichgewichts berechneten Flammentemperaturen „T(F)" sind in Tabelle 1 zusammengefasst. Die Berechnung der Flammentemperatur erfolgt auf Basis einer Methode, die in der Promotionsarbeit von Dr. Sven Linow angegeben ist: "Über das Potential spektroskopischer Methoden zur Messung von Temperatur und Konzentration in reagierenden technischen Strömungen"; erschienen als Fortschrittsbericht VDI Reihe 8, Nr. 877; VDI Verlag Düsseldorf (2001) (ISBN-Nr.: 318-387708-2)
  • Tabelle 1
    Figure 00170001
  • Somit ist auf Basis der Berechnungen eine Temperatur der Brennerflamme T(F) 11 zu erwarten, die um 130 K niedriger ist als die Temperatur der Brennerflamme 12, und diese ist wiederum um 30 K niedriger als die Temperatur der Brennerflamme 13. Die Differenz zwischen den Temperaturen der Brennerflamme 11 des vorderen Abscheidebrenners 7 und der Brennerflamme 13 des hinteren Abscheidebrenner 9 beträgt somit insgesamt etwa 160 K.
  • Beim Zurückfahren des Schlittens 10 in entgegengesetzter Richtung bildet der Abscheidebrenner 9 den vorderen Brenner und der Abscheidebrenner 7 den hinteren Brenner der Brenneranordnung. Beim Zurückfahren werden daher dem Abscheidebrenner 9 der Glasausgangsstoff und die Brenngase gemäß dem oben für den Abscheidebrenner 7 angegebenen Volumenverhältnis zugeführt, und dem Abscheidebrenner 7 die entsprechenden Medien gemäß dem oben für den Abscheidebrenner 9 angegebenen Volumenverhältnis (wie dies aus in Klammern gesetzten Angaben aus Spalte 1 von Tabelle 1 zu entnehmen ist). Bei der Umkehrung der Bewegungsrichtung des Schlittens 10 ist ein schnelles Umschalten der Gasmengen von der einen Mengenkonfiguration auf die andere erwünscht. Zusätzlich sind in Tabelle 1 die jeweiligen maximalen Oberflächentemperaturen (T(O)) im Bereich des Auftreffpunkts der Brennerflammen aufgeführt.
  • Durch diese Verfahrensweise wird im Vergleich zu dem bisher üblichen Verfahren – mit im Wesentlichen homogenem Flammentemperatur-Profil – einer Verringe rung der thermophoretischen Wirkung vom vorderen Abscheidebrenner zum hinteren Abscheidebrenner – und damit einer Verringerung der Abscheiderate – entgegengewirkt, so dass sich durch das Verfahren eine insgesamt hohe Abscheideeffizienz bei gleichzeitig homogener axialer Dichteverteilung ergibt.
  • 1 zeigt eine erfindungsgemäße Abwandlung dieses Verfahrens zur Herstellung eines mit GeO2 dotierten SiO2-Sootkörpers 3, wobei die gleichen Bezugsziffern wie in 2 zur Bezeichnung gleicher oder äquivalenter Bauteile und Bestandteile verwendet werden.
  • Die Abscheidebrenner 7a, 7b bilden bei der Bewegung in Bewegungsrichtung 14 eine gemeinsame Brennergruppe 21. Der Abscheidebrenner bildet die Brennergruppe 22 und der Abscheidebrenner 9 die Brennergruppe 23.
  • Den Abscheidebrennern 7a, 7b und 8 werden Glasausgangsstoffe in Form von GeCl4 und SiCl4 sowie Brenngase in Form von Sauerstoff und Wasserstoff zugeführt und in der jeweiligen Brennerflamme 11a; 11b bzw. 12 zu SiO2- und GeO2-Partikeln umgesetzt. Hierbei wird den Abscheidebrennern 7a, 7b und 8 jeweils soviel GeCl4 zugeführt, dass sich nach dem Verglasen der Schichten 4 und 5 eine GeO2-Konzentration von 5 Gew.-% ergibt. Dem Abscheidebrenner 9 wird SiO2, jedoch kein GeCl4 zugeführt.
  • Der Schlitten 10 mit den Abscheidebrennern 7a; 7b; 8 und 9 wird mit einer Translationsgeschwindigkeit von 800 mm/min entlang des sich bildenden Sootkörpers 3 zwischen dessen Enden 15 hin- und herbewegt. Auf dem Träger 1 werden somit unter Bildung eines porösen, mit GeO2 dotierten SiO2-Sootkörpers 3 wechselweise eine SiO2 und GeO2 enthaltende Partikelschicht 4, eine SiO2 und GeO2 enthaltende Zwischenschicht 5 und eine ausschließlich SiO2 enthaltende Deckschicht 6 abgeschieden.
  • Die den Abscheidebrennern 7a, 7b, 8 und 9 zugeführten Medienströme sind in den Spalten 2 bis 4 von Tabelle 2 genannt (Volumenanteile, normiert auf 100) und die daraus unter Annahme eines adiabatischen Gleichgewichts berechneten Flammentemperaturen „T(F)" sowie die im Bereich des Flammenauftreffpunktes gemessenen maximalen Oberflächentemperaturen „T(O)" sind in Tabelle 2 zusammengefasst.
  • Tabelle 2
    Figure 00190001
  • Die Brennerflammen 11a und 11b der beiden Abscheidebrenner 7a und 7b weisen die niedrigste Flammentemperatur auf. Die Flammentemperatur T(F) des Abscheidebrenners 8 liegt etwas höher, und die höchste Flammentemperatur weist die Brennerflamme 13 des Abscheidebrenners 9 auf.
  • Mittels dem in Bewegungsrichtung 14 vorderen Abscheidebrenner 7a und dem folgenden Abscheidebrenner 7b wird die untere Schicht 4 abgeschieden. Den beiden Abscheidebrennern 7a und 7b werden SiCl4, GeCl4, H2 und O2 im gleichen Volumenverhältnis zugeführt (SiCl4 : O2 : H2 = 10,5 : 20 : 13,3 (auf 100 normiert: SiCl4 : O2 : H2 = 24 : 46 : 30)), so dass sich bei beiden Abscheidebrennern 7a, 7b gleiche Flammentemperaturen einstellen. Die jeweiligen maximalen Oberflächentemperaturen T(O) im Bereich des Auftreffpunkts der Brennerflamme 11a, 11b auf der Oberfläche des Sootkörpers 3 sind vergleichsweise niedrig, so dass die GeO2 -Bildung begünstigt ist und dadurch eine hohe Ausbeute an eingesetztem GeCl4 erreicht wird.
  • Mittels dem auf die Abscheidebrenner 7a, 7b folgenden Abscheidebrenner 8 der Brennergruppe 22 wird die Zwischenschicht 5 erzeugt. Dabei werden dem Abscheidebrenner 8 die Glasausgangsstoffe SiCl4 + GeCl4 und die Brenngase O2 und H2 gemäß dem in Tabelle 2 angegebenen Volumenverhältnis zugeführt. Im Auftreffpunkt der Brennerflamme 12 auf der Oberfläche des Sootkörpers 3 wird eine Maximaltemperatur von etwa 1600 K ermittelt. Die Dichte der sich bildenden Zwischenschicht 5 ist höher ist als diejenige der unteren Partikelschicht 4. Dadurch wird eine effektive Abschirmung der unteren Partikelschicht 4 gegenüber der Hitze des hinteren Abscheidebrenners 9 der Brenneranordnung erreicht.
  • Die Deckschicht 6 wird mittels des hinteren Abscheidebrenners 9 erzeugt. Diesem werden der Glasausgangsstoff SiCl4 und die Brenngase gemäß dem jeweils in Tabelle 2 angegebenen Volumenverhältnis zugeführt (SiCl4 : O2 : H2 = 10 : 20 : 35 (auf 100 normiert: SiCl4 : O2 : H2 = 15 : 31 : 54)). Hierbei stellt sich im Bereich des Auftreffpunkts der Brennerflamme 13 auf der Oberfläche des Sootkörpers 3 eine Maximaltemperatur T(O) von etwa 1950 K ein.
  • Die Medienzufuhr zum Abscheidebrenner 9 ist im Hinblick auf eine effiziente Bildung und Abscheiung von SiO2 optimiert, wobei zusätzlich die – in Bewegungsrichtung 14 gesehen – von vorne nach hinten zunehmende Temperatur der Brennerflammen (7a, 7b); 8; 9 einer in dieser Richtung abnehmenden Thermophorese entgegenwirkt. Außerdem ergibt sich durch die höhere Flammentemperatur des Abscheidebrenners 9 eine Verdichtung der Deckschicht 6, die eine gewisse Fixierung des Dotierstoffs (GeO2) bewirkt.
  • Bei der Zurückbewegung des Schlittens 10 in entgegengesetzter Richtung bildet der Abscheidebrenner 9 den vorderen Brenner und der Abscheidebrenner 7a den hinteren Brenner der Brenneranordnung. Die Bewegungsumkehr erfordert somit auch eine Anpassung der den Abscheidebrennern zugeführten Medienströme, wie dies aus in Klammern gesetzten Angaben aus Spalte 1 von Tabelle 2 zu entnehmen ist.

Claims (8)

  1. Verfahren zur Herstellung eines SiO2 und einen Dotierstoff enthaltenden Rohlings durch Abscheiden aufeinanderfolgender SiO2 enthaltender Partikelschichten auf einer Mantelfläche eines um seine Längsachse rotierenden Trägers, unter Einsatz einer eine Vielzahl von Abscheidebrennern umfassenden Brenneranordnung, die in einem vorgegebenen Bewegungsablauf parallel zur Träger-Längsachse und von einem stirnseitigen Ende des sich bildenden SiO2-Rohlings zum gegenüberliegenden Ende oszillierend hin- und herbewegt wird, wobei die Brenneranordnung mehrere, jeweils mindestens einen Abscheidebrenner aufweisende Brennergruppen aufweist, umfassend eine vordere Brennergruppe zum Abscheiden einer unteren Schicht, und eine der vorderen Brennergruppe beim Bewegungsablauf folgende, hintere Brennergruppe zum Abscheiden mindestens einer oberen Schicht, wobei mindestens einem Teil der Abscheidebrenner eine Ausgangssubstanz für die Bildung des Dotierstoffs in Form von GeO2 zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidebrenner (9) der hinteren Brennergruppe (23) beim Abscheiden der oberen Schicht (6) eine höhere Flammentemperatur erzeugen als die Abscheidebrenner (7, 7a; 7b) der vorderen Brennergruppe (21) beim Abscheiden der unteren Schicht (4), wobei beim Abscheiden der unteren Schicht (4) ein höherer Gehalt an dem Dotierstoff abgeschieden wird als beim Abscheiden der oberen Schicht (6).
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine Brenneranordnung eingesetzt wird, die zwischen der vorderen Brennergruppe (21) und der hinteren Brennergruppe (23) mindestens eine mittlere, einen Abscheidebrenner (8; 8a; 8b) umfassende Brennergruppe (22) zur Abscheidung mindestens einer mittleren Schicht (5) aufweist, wobei der Abscheidebrenner (8) der mittleren Brennergruppe (22) beim Abscheiden der mittleren Schicht (5) eine geringere Flammentemperatur erzeugt als der Abscheidebrenner (9) der hinteren Brennergruppe (23) beim Abscheiden der oberen Schicht (6).
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass eine Brenneranordnung eingesetzt wird, die mindestens drei – in Bewegungsrichtung (14) gesehen – aufeinanderfolgende Brennergruppen (21; 22; 23) zum Abscheiden aufeinanderfolgender Sootschichten (4; 5; 6) aufweist, und dass beim Abscheiden der Sootschichten (4; 5; 6) die Flammentemperatur der Abscheidebrenner (7; 7a; 7b; 8; 9) aufeinanderfolgender Brennergruppen (21; 22; 23) sukzessive zunimmt.
  4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass beim Abscheiden aufeinanderfolgender Schichten (4; 5; 6) eine Differenz in der Flammentemperatur der Abscheidebrenner (7; 7a; 7b; 8; 9) der Brennergruppen (21; 22, 23) im Bereich von 50°C bis 600°C eingestellt wird.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass jede Brennergruppe (21; 22; 23) aus genau einem Abscheidebrenner (7; 7a; 7b; 8; 9) bestehend eingesetzt wird.
  6. Verfahren nach Anspruch 1 und nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass beim Abscheiden der mittleren Schicht (5) der gleiche Gehalt oder ein geringerer Gehalt an dem Dotierstoff abgeschieden wird wie beim Abscheiden der unteren Schicht (4).
  7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass beim Abscheiden der mittleren Schicht (5) ein höherer Gehalt an dem Dotierstoff eingestellt wird als beim Abscheiden der oberen Schicht (6).
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass die obere Schicht (6) ohne GeO2 abgeschieden wird.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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EP0476218A1 (de) * 1990-09-20 1992-03-25 Corning Incorporated Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer porösen Glasvorform

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4251251A (en) * 1979-05-31 1981-02-17 Corning Glass Works Method of making optical devices
EP0154342A2 (de) * 1984-03-07 1985-09-11 Sumitomo Electric Industries Limited Verfahren zur Herstellung einer hochreinen Glasvorform für optische Faser
EP0476218A1 (de) * 1990-09-20 1992-03-25 Corning Incorporated Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer porösen Glasvorform

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