JP2008531248A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008531248A5
JP2008531248A5 JP2007556206A JP2007556206A JP2008531248A5 JP 2008531248 A5 JP2008531248 A5 JP 2008531248A5 JP 2007556206 A JP2007556206 A JP 2007556206A JP 2007556206 A JP2007556206 A JP 2007556206A JP 2008531248 A5 JP2008531248 A5 JP 2008531248A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
substrate
energy
pattern region
topographically patterned
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007556206A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008531248A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/US2006/004567 external-priority patent/WO2006088721A1/en
Publication of JP2008531248A publication Critical patent/JP2008531248A/ja
Publication of JP2008531248A5 publication Critical patent/JP2008531248A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Claims (7)

  1. トポグラフィ的にパターン化されたコーティングの形成方法であって、
    組成物を基材上に配置して、該基材上に液体コーティングを形成する工程と、
    前記液体コーティングの第1パターン領域を通してエネルギーを除去して、該第1パターン領域にトポグラフィ的パターンが対応するように、トポグラフィ的にパターン化されたコーティングを形成するエネルギー除去工程と、
    を含む方法。
  2. 前記エネルギー除去工程は、前記液体コーティング上の第1パターン領域を通すとともに前記基材を通してエネルギーを除去して、前記第1パターン領域に前記トポグラフィ的パターンが対応するように、トポグラフィ的にパターン化されたコーティングを形成する工程を含む、請求項1に記載の方法。
  3. トポグラフィ的にパターン化されたコーティングの形成方法であって、
    組成物を基材上に配置して、該基材上に液体コーティングを形成する工程と、
    前記液体コーティングの第1パターン領域を通してエネルギー源からエネルギーを供給して、該第1パターン領域にトポグラフィ的パターンが対応し、かつ前記液体コーティングが前記基材と該エネルギー源との間に配置されるように、トポグラフィ的にパターン化されたコーティングを形成するエネルギー供給工程と、
    を含む方法。
  4. 前記基材を実質的に平滑なエネルギー転移表面に配置する工程をさらに含む、請求項3に記載の方法。
  5. 前記エネルギー供給工程は、前記液体コーティングの第1パターン領域を通して光子源からエネルギーを供給して、該第1パターン領域に前記トポグラフィ的パターンが対応し、かつ前記コーティングが前記基材と該光子源との間に配置されるように、トポグラフィ的にパターン化されたコーティングを形成する工程を含む、請求項3に記載の方法。
  6. 前記トポグラフィ的にパターン化されたコーティングを固化する工程をさらに含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
  7. トポグラフィ的にパターン化されたコーティングの形成方法であって、
    感圧接着剤形成組成物とナノ粒子を含む組成物とから選択された組成物を、基材上に配置して、該基材上に液体コーティングを形成する工程と、
    前記液体コーティングの第1パターン領域を通してエネルギーを供給して、該第1パターン領域にトポグラフィ的パターンが対応するように、トポグラフィ的にパターン化されたコーティングを形成する工程と、
    を含む方法。
JP2007556206A 2005-02-16 2006-02-09 トポグラフィ的にパターン化されたコーティングの製造方法 Withdrawn JP2008531248A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US65335805P 2005-02-16 2005-02-16
PCT/US2006/004567 WO2006088721A1 (en) 2005-02-16 2006-02-09 Method of making topographically patterned coatings

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008531248A JP2008531248A (ja) 2008-08-14
JP2008531248A5 true JP2008531248A5 (ja) 2009-04-02

Family

ID=36283893

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007556206A Withdrawn JP2008531248A (ja) 2005-02-16 2006-02-09 トポグラフィ的にパターン化されたコーティングの製造方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US8182871B2 (ja)
EP (1) EP1858959A1 (ja)
JP (1) JP2008531248A (ja)
KR (1) KR20070111481A (ja)
CN (1) CN101120042A (ja)
BR (1) BRPI0608156A2 (ja)
MX (1) MX2007009841A (ja)
WO (1) WO2006088721A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008532737A (ja) * 2005-02-16 2008-08-21 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー モルフォロジー的にパターン化されたコーティングを製造する方法
JP5250383B2 (ja) * 2008-10-27 2013-07-31 日本たばこ産業株式会社 塗工ウエブの製造装置及びその製造方法
US20170226642A1 (en) * 2016-02-04 2017-08-10 Mimaki Engineering Co., Ltd. Plating method
WO2023114495A1 (en) * 2021-12-17 2023-06-22 Gottlieb Eric R Device and method for making shear-aligned, solvent-cast films

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1497404A1 (de) 1965-06-05 1969-08-07 Buckbee Mears Co Verfahren zum Aufkopieren eines Musters auf lichtempfindliches Material
US3544790A (en) * 1968-03-01 1970-12-01 Western Electric Co An electron beam masking arrangement
US3911191A (en) * 1970-01-12 1975-10-07 Blandin Paper Company Coated paper products
US3788846A (en) * 1971-06-28 1974-01-29 Rca Corp Method for printing negative tolerance matrix screen structure for a cathode-ray tube
US4698914A (en) * 1986-05-29 1987-10-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Setting/drying process for flexible web coating
DE3737455A1 (de) 1986-11-06 1988-05-19 Westinghouse Electric Corp Einrichtung und verfahren zum erzeugen von farbmustern
WO1994020223A1 (en) 1989-01-05 1994-09-15 Tamglass Engineering Oy Method and system for applying a marking to a substrate, particularly a painted border adjacent to and around a windshield plate
US5060396A (en) * 1989-08-17 1991-10-29 W. R. Grace & Co.-Conn. Zoned cylindrical dryer
US5744557A (en) * 1993-06-16 1998-04-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy-curable cyanate/ethylenically unsaturated compositions
HU217781B (hu) * 1994-07-29 2000-04-28 Wilhelm Barthlott Öntisztító felület tárgyakra és eljárás az öntisztító felület előállítására
US6296732B1 (en) * 1995-06-07 2001-10-02 Avery Dennison Corporation Extrusion process for protective coatings for outdoor siding panels and the like
US5581905A (en) * 1995-09-18 1996-12-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated substrate drying system
US5694701A (en) * 1996-09-04 1997-12-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated substrate drying system
US6207346B1 (en) * 1997-04-09 2001-03-27 Advanced Coatings International Waterborne photoresists made from urethane acrylates
DE19743014A1 (de) * 1997-09-29 1999-04-01 Basf Ag Verfahren zur Vernetzung von strahlungsvernetzbaren Haftklebstoffschichten
US6352758B1 (en) * 1998-05-04 2002-03-05 3M Innovative Properties Company Patterned article having alternating hydrophilic and hydrophobic surface regions
US6078713A (en) * 1998-06-08 2000-06-20 Uv Technology, Inc. Beam delivery system for curing of photo initiated inks
US6156478A (en) * 1998-10-30 2000-12-05 3M Innovative Properties Company Photocurable and photopatternable hydrogel matrix based on azlactone copolymers
US6203952B1 (en) * 1999-01-14 2001-03-20 3M Innovative Properties Company Imaged article on polymeric substrate
US6299799B1 (en) * 1999-05-27 2001-10-09 3M Innovative Properties Company Ceramer compositions and antistatic abrasion resistant ceramers made therefrom
US6395483B1 (en) 1999-09-02 2002-05-28 3M Innovative Properties Company Arrays with mask layers
ATE294648T1 (de) * 1999-12-23 2005-05-15 Univ Massachusetts Verfahren zur herstellung von submikron mustern auf filmen
DE10026299A1 (de) 2000-05-26 2001-11-29 Sunyx Surface Nanotechnologies Substrat mit gering lichtstreuender, ultraphober Oberfläche und Verfahren zu seiner Herstellung
DE10138036A1 (de) 2001-08-03 2003-02-20 Creavis Tech & Innovation Gmbh Strukturierte Oberflächen mit Lotus-Effekt
ATE401201T1 (de) * 2001-12-20 2008-08-15 Add Vision Inc Siebdruckfähige, elektrolumineszierende polymertinte
US20030229163A1 (en) * 2002-03-28 2003-12-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Dye-containing curable composition, color filter prepared using the same, and process of preparing color filter
EP1354638A3 (en) * 2002-04-15 2004-11-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method and apparatus for manufacturing pattern members using webs on which coating films have been formed
JP4029138B2 (ja) * 2002-05-20 2008-01-09 富士通株式会社 周波数シンセサイザ回路
AU2003251312A1 (en) * 2002-05-28 2003-12-12 3M Innovative Properties Company Curable adhesive articles having topographical features therein
US6957608B1 (en) * 2002-08-02 2005-10-25 Kovio, Inc. Contact print methods
TWI235890B (en) * 2003-03-31 2005-07-11 Chi Mei Corp photosensitive resin composition for color filter
CA2532827A1 (en) * 2003-04-03 2004-10-21 Isg Technologies Inc. Extruded molten polymeric film bonding of solid polymeric film to flat-rolled sheet metal continuous strip

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008517743A5 (ja)
JP2010512261A5 (ja)
WO2008076390A3 (en) Dry adhesives and methods for making dry adhesives
JP2010502010A5 (ja)
JP2007107047A5 (ja) 発光装置の作製方法
JP2010522102A5 (ja)
JP2008522038A5 (ja)
JP2010502488A5 (ja)
MY152467A (en) Large area roll-to-roll imprint lithography
JP2011514658A5 (ja)
JP2013541125A5 (ja)
JP2010539714A5 (ja)
JP2010506400A5 (ja)
JP2010533932A5 (ja)
JP2009518124A5 (ja)
JP2009529442A5 (ja)
JP2008540167A5 (ja)
JP2010509756A5 (ja)
PH12015502250A1 (en) Release film for green sheet production
JP2011508809A5 (ja)
JP2005529767A5 (ja)
SG131872A1 (en) Layer arrangement for the formation of a coating on a surface of a substrate,coating method,and substrate with a layer arrangement
WO2010015333A3 (en) High aspect ratio template for lithography, method of making the same template and use of the template for perforating a substrate at nanoscale
IN2015DN03284A (ja)
WO2009002644A3 (en) Methods of making hierarchical articles