KR20070111481A - 지형적으로 패턴화된 코팅의 제조 방법 - Google Patents

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피터 이. 프라이스
윌리엄 비. 콜브
미카일 엘. 페쿠로브스키
스티븐 디. 솔로몬슨
미첼 에이. 에프. 존슨
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쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
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Abstract

패턴화된 코팅의 형성 방법이 개시되어 있다. 이 방법은 조성물을 기재 상에 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 단계와, 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 에너지를 제거하거나 제공하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 단계를 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 제1 패턴 부위들에 상응한다.
패턴화, 코팅, 고형화, 에너지, 중합체, 조성물

Description

지형적으로 패턴화된 코팅의 제조 방법{METHOD OF MAKING TOPOGRAPHICALLY PATTERNED COATINGS}
본 발명은 일반적으로 패턴화된 코팅의 제조 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 액체 코팅에 소정 패턴의 에너지를 제공하거나 액체 코팅으로부터 소정 패턴의 에너지를 제거하고 생성된 패턴화된 코팅을 고형화함으로써 패턴화된 코팅을 제조하는 방법에 관한 것이다.
다수의 산업용 및 소비자용 제품은, 액체 필름을 다른 물질에 배치하고 이어서 그 액체 필름을 고형화함으로써 생성된 물질의 박층들을 포함한다. 예로는 접착 테이프, 연마 시트, 도장면(painted surface), 자기 매체, LCD 디스플레이에서의 구성 필름(component film) 등이 포함된다. 흔히, 그러한 층에는 미적 특성 또는 성능 상의 특성을 부여하기 위하여 지형적 특징부 또는 패턴이 있는 것이 바람직하다. 지형적 패턴은 제한된 수의 기술을 이용하여 그러한 층에 생성되었다. 이들 기술은 예를 들어 에칭에 의해 고형 물질로써 또는 고형 물질 내에서 패턴을 생성하는 것과, 후속적으로 고형화되는 액체 물질로써 또는 액체 물질 내에서 패턴을 생성하는 것의 두 가지 부류로 나뉘어질 수 있다.
본 출원은 액체 물질에 패턴을 형성하고 패턴화된 물질을 고형화하여 지형적 으로 패턴화된 코팅을 형성하는 것에 관한 것이다. 관련 패턴화 기술은 패턴 코팅 및 인쇄 방법; 다양한 몰딩(molding), 엠보싱(embossing) 및 리소그래픽 공정을 비롯한 복제 방법과; 자기 조직화 현상(self-organizing phenomena)을 포함한다.
패턴 코팅 및 인쇄 기술은 액체 물질을 표면 영역들 상에 선택적으로 침적시키기 위하여 이용된다. 패턴 코팅 방법은 특정 패턴의 셀을 갖는 롤을 사용하여 코팅액을 전사 및 배치시키는 그라비어(gravure) 코팅법; 패턴화된 오리피스(orifice)를 갖는 다이를 사용하여 액체를 표면의 소정 부위에 배치시키는 패턴화 다이 코팅법; 스프레이 노즐 또는 브러시 하의 선택된 표면 부위 상에 액체를 침적시키는 스프레이 코팅법 및 일반적인 페인트 브러시법을 포함한다. 패턴화된 인쇄 방법은 패턴화된 스크린을 통하여 표면에 액체를 배치시키는 스크린 인쇄법; 패턴화된 탄성중합체 표면 또는 인쇄판을 사용하여 액체를 표면에 전사하는 플렉소 인쇄법; 액체가 패턴화 표면으로부터 매끄러운 중간 표면으로 전사되고 이어서 코팅될 표면으로 다시 전사되는 오프셋 인쇄법; 및 액체의 드롭, 연무 또는 분사물(jet)이 표면에 배치되는 잉크젯 인쇄법을 포함한다. 이들 방법은 물질을 표면에 불균일한 방식으로 배치시키는 공통적인 특징을 갖는다. 이어서, 생성된 불균일 액체 코팅은 고형화되어 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성할 수도 있다.
복제 방법은 액체가 패턴화된 마스터(master)에 배치되고, 고형화되고, 이어서 마스터로부터 제거되는 것과, 원래 매끄러운 액체 표면이 패턴화된 도구로 압인되고, 고형화되고, 도구로부터 제거되는 것으로 나뉘어질 수 있다. 전자는 몰딩의 변형이다. 후자는 엠보싱의 변형이다. 이러한 모든 복제 기술의 공통적인 특징은 액체가 패턴화 도구와 접촉하게 된다는 것이다.
최근에, 여러 새로운 리소그래픽 기술이 개시되었다. 전기수력학적 리소그래피 및 열역학적 리소그래피는 대전되거나 가열된 마스크를 액체 포토레지스트 층에 매우 근접하게 배치하는 것을 포함한다. 전기-수력학적 또는 열-모세관(thermo-capillary) 효과에 의해 액체 표면이 변형되게 되고 결국 마스크 표면 상의 돌출부와 접촉하게 되어, 마스크 구조체의 양화를 형성하게 된다. 이어서, 액체는 적소에서 고형화되어 후속 가공을 위한 소정 패턴의 부위들을 형성한다. 이들 복제 기술은, 두 공정 모두에서 고체 표면이 궁극적으로 액체와 접촉하게 되지만, 액체 표면의 변형을 위하여 고체 접촉에 의존하지 않는 소수의 기술 중 일부이다.
마지막으로, 자기 조직화 거동에 의해 지형적 패턴이 생성될 수 있다. 베르나르(Benard) 및 마란고니(Marangoni) 불안정성은 일반적인 지형적 패턴 형성 현상이다. 베르나르 불안정성은 액체 층에서의 밀도의 구배로부터 발생한다. 마란고니 불안정성은 액체 층에서의 농도 또는 온도 구배로 인한 표면 장력의 구배로부터 발생한다. 베르나르 및 마란고니 불안정성 둘 모두는 전형적으로 셀 또는 롤 유사 패턴을 생성하며, 상기 패턴의 크기 및 형상은 그의 자연 발생적 한계 내에서만 조절될 수 있다. 소정 조건 하에서, 이들 구조체는 적소로 고형화되어, 액체 유동 패턴에 상응하는 지형적 패턴을 남길 수도 있다. 다수의 코팅에서, 이들 패턴은 결함으로 여겨진다. 자기 조직화 패턴을 의도적으로 적용하는 것에 있어서의 주요 제한 사항은 이 패턴이 유체 불안정성 구조에 의해 현저히 속박된다는 것이다.
발명의 개요
일반적으로, 본 발명은 패턴화된 코팅의 제조 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 액체 코팅에 소정 패턴의 에너지를 제공하거나 액체 코팅으로부터 소정 패턴의 에너지를 제거하고 생성된 패턴화된 코팅을 고형화함으로써 패턴화된 코팅을 제조하는 방법에 관한 것이다.
일 실시 형태에서, 패턴화된 코팅의 형성 방법이 개시된다. 이 방법은 조성물을 기재 상으로 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 단계, 및 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 에너지를 제거하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 단계를 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 제1 패턴 부위에 상응한다.
추가의 실시 형태에서, 패턴화된 코팅을 형성하는 방법은 조성물을 기재 상으로 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 단계, 및 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 에너지 공급원으로부터 에너지를 제공하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 단계를 포함한다. 지형적 패턴은 제1 패턴 부위들에 상응하며, 이 코팅은 기재와 에너지 공급원 사이에 배치된다.
다른 실시 형태에서, 패턴화된 코팅의 형성 방법은 조성물을 기재 상으로 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 단계, 실질적으로 매끄러운 에너지 전달 표면 상에 기재를 배치하는 단계, 및 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 에너지 전달 표면으로부터 에너지를 제공하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 단계를 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 제1 패턴 부위들에 상응한다.
본 출원의 이들 및 기타 태양은 하기의 상세한 설명으로부터 자명해질 것이 다. 그러나, 어떠한 경우에도 상기 개요는 특허 청구된 기술적 요지를 한정하는 것으로 파악되어서는 아니되며, 보호 대상은 특허 절차의 수행 동안 보정될 수도 있는 첨부된 청구의 범위에 의해서만 한정된다.
도 1은 패턴화된 코팅의 예시적인 연속 제조 공정의 개략도이다.
도 2는 패턴화된 코팅의 다른 예시적인 연속 제조 공정의 개략도이다.
도 3은 에너지 전달 표면 패턴의 개략적인 평면도이다.
도 4는 선 4-4를 따라 취해진, 도 3에 도시된 에너지 전달 표면 패턴의 개략적인 단면도이다.
도 5는 실시예 1에 따라 형성되는 패턴화된 코팅의 표면 프로파일(profile)의 사시도이다.
도 6은 실시예 2에 따라 형성되는 패턴화된 코팅의 표면 프로파일의 사시도이다.
도 7은 실시예 3에 따라 형성되는 패턴화된 코팅의 광학 현미경 사진이다.
도 8은 실시예 4에 따라 형성되는 패턴화된 코팅의 광학 현미경 사진이다.
도 9는 실시예 5에 따라 형성되는 패턴화된 코팅의 광학 현미경 사진이다.
도 10은 실시예 6에 따른 에너지 전달 표면 패턴의 개략적인 평면도이다.
도 11은 실시예 6에 따라 형성되는 패턴화된 코팅의 표면 프로파일의 사시도이다.
본 발명의 패턴화된 코팅의 제조 방법은 패턴화된 코팅이 이용되는 다양한 용도에 적용가능할 것으로 생각된다. 몇몇 실시 형태에서, 지형적 패턴 부위들은 코팅 상의 상응하는 패턴 부위들을 통하여 에너지를 제거하거나 제공함으로써 코팅 상에 형성된다. 이들 실시예 및 하기에 논의되는 실시예는 개시된 내용의 적용 가능성을 올바로 인식하게 하는 것이지만, 제한적 의미로 해석되어서는 아니된다.
"코팅"이라는 용어는 물질 상에 배치되는 물질을 말한다.
"부위"라는 용어는 2차원 표면, 예를 들어 물질의 경계면, 또는 물질의 영역 또는 부분을 이를 수 있다. 적절한 정의는 문맥에서 결정된다.
달리 나타내지 않는 한, "중합체"라는 용어는 중합체, 올리고머 또는 공중합체 뿐만 아니라 중합체, 공중합체(예를 들어, 2종 이상의 상이한 단량체를 사용하여 생성되는 중합체), 올리고머 및 이들의 조합도 포함하는 것으로 이해될 것이다. 달리 나타내지 않는 한, 블록 공중합체 및 랜덤 공중합체 둘 모두가 포함된다.
달리 나타내지 않는 한, 명세서 및 청구의 범위에서 사용되는, 특징부의 크기, 양 및 물리적 특성을 표현하는 모든 수치는 모든 경우 "약"이라는 용어에 의해 수식되는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 반대로 나타내지 않는 한, 전술한 명세서 및 첨부된 청구의 범위에 나타낸 수치적 파라미터는 근사치이며, 이 근사치는 본 명세서에 개시된 교시 내용을 이용하는 당업계의 숙련자가 추구하는 원하는 특성에 따라 달라질 수 있다.
중량 퍼센트, 중량을 기준으로 한 퍼센트, 중량％ 등은 물질의 중량을 조성물의 중량으로 나누고 이것에 100을 곱한 것으로서 상기 물질의 농도를 이르는 동의어들이다.
종점(endpoint)에 의한 수치 범위의 언급은 그 범위 내에 포함되는 모든 수(예를 들어, 1 내지 5는 1, 1.5, 2, 2.75, 3, 3.80, 4 및 5를 포함함)와 그 범위 내의 임의의 범위를 포함한다.
본 명세서 및 첨부된 청구의 범위에서 사용되는 바와 같이, 단수 형태는 그 내용이 명백하게 다르게 지시하지 않는 한 복수 형태를 포함한다. 따라서, 예를 들어, "중합체"를 함유하는 조성물에 대한 언급은 2종 이상의 중합체들을 포함한다. 본 명세서 및 첨부된 청구의 범위에서 사용되는 바와 같이, "또는"이라는 용어는 일반적으로 그 내용이 명백하게 다르게 지시하지 않는 한 "및/또는"을 포함하는 의미로 이용된다.
"액체"라는 용어는 전단 응력을 받을 때 계속적으로 변형되는 물질을 말한다. 현재의 문맥에서 액체는, 예를 들어 슬러리, 현탁물 또는 분산물에서와 같이 입자를 포함하거나 고형 물질의 영역을 포함할 수 있다.
"패턴"이라는 용어는 공간적으로 변하는 구조체를 말한다. "패턴"이라는 용어는 균일하거나 주기적인 패턴, 가변 패턴, 랜덤 패턴 등을 포함한다.
"고형물"이라는 용어는 원래 액체일 수 있는 단량체와 같은 성분들을 비롯하여 고형 코팅에 포함되는 물질을 말한다.
본 개시 내용에는 패턴화된 코팅의 제조 방법이 일반적으로 설명되어 있다. 더욱 상세하게는, 본 출원은 액체 코팅에 소정 패턴의 에너지를 제공하거나 액체 코팅으로부터 소정 패턴의 에너지를 제거하고 생성된 패턴화된 코팅을 고형화함으로써 패턴화된 코팅을 제조하는 방법에 관한 것이다. 다수의 실시 형태에서, 코팅이 복제 도구와 물리적으로 접촉하지 않고도 패턴화된 코팅이 형성된다. 몇몇 실시 형태에서, 생성된 코팅 패턴은 자연적인 불안정성에 의해 일어나는 패턴 요소를 포함한다.
몇몇 실시 형태에서, 패턴화된 코팅의 형성 방법은 조성물을 기재 상에 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 단계를 포함한다. 액체 코팅 조성물은 필름의 형성에 유용한 임의의 물질을 함유할 수 있다. 기재는 필름 형성을 보조하는데 유용한 임의의 물질일 수 있다.
몇몇 실시 형태에서, 코팅 조성물은 액체 비히클 중 필름 형성 물질 또는 중합체성 수지의 용액이다. 유용한 중합체의 부분적 목록에는 아세탈, 아크릴, 아세테이트, 셀룰로오스 물질, 플루오로카본, 아미드, 에테르, 카르보네이트, 에스테르, 스티렌, 우레탄, 설폰, 젤라틴 등이 포함된다. 중합체는 단일중합체일 수 있거나, 2종 이상의 단량체로부터 형성되는 공중합체일 수 있다. 코팅 조성물에 사용하기 위한 액체 비히클은 넓은 범위의 적합한 물질로부터 선택될 수 있다. 예를 들어, 코팅 조성물은 유기 용매를 포함하는 유기 용액 또는 수성 조성물일 수 있다.
몇몇 실시 형태에서, 필름 형성 물질은 감압성 접착제를 형성한다. 몇몇 실시 형태에서, 감압성 접착제는 블록 공중합체 감압성 접착제, 점착성 탄성중합체 감압성 접착제, 수성 라텍스 감압성 접착제, 아크릴레이트계 감압성 접착제, 또는 실리콘계 감압성 접착제이다.
몇몇 실시 형태에서, 필름 형성 물질은 광학 필름을 형성한다. 광학 필름의 예에는 보상 필름(compensation film), 위상차 필름(retardation film), 휘도 향상 필름(brightness enhancing film), 확산 필름(diffuser film) 등이 포함된다. 광학 필름은, 예를 들어 올레핀, 아크릴레이트, 셀룰로오스 물질, 플루오로카본, 카르보네이트 등과 같은 임의의 유용한 중합체로부터 형성될 수 있다.
몇몇 실시 형태에서, 유기 용매는 케톤, 예를 들어 아세톤 또는 메틸 에틸 케톤, 탄화수소, 예를 들어 벤젠 또는 톨루엔, 알코올, 예를 들어 메탄올 또는 아이소프로판올, 할로겐화 알칸, 예를 들어 에틸렌 다이클로라이드 또는 프로필렌 다이클로라이드, 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트 또는 부틸 아세테이트 등을 포함한다. 물론, 2종 이상의 유기 용매의 조합이 액체 비히클로서 이용될 수 있거나, 액체 비히클은 수성-유기 혼합 시스템일 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 물이 액체 비히클이다.
몇몇 실시 형태에서, 코팅 조성물 중 고형물의 중량 백분율은 0.1 내지 100％, 또는 1 내지 40％ 또는 1 내지 20％일 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 코팅 조성물은 100％ 단량체이다. 코팅 조성물은 흐를 수 있는 정도의 점성을 갖는다. 코팅 조성물의 점도는 이용되는 코팅 장치의 유형에 따라 달라질 것이며, 최대 10 Pa.s(10,000 cP) 또는 그 이상이거나, 0.0001 Pa.s(0.1 cP) 내지 1 Pa.s(1,000 cP), 또는 0.0001 Pa.s(0.1 cP) 내지 0.1 Pa.s(100 cP), 또는 0.0005 Pa.s(0.5 cP) 내지 0.01 Pa.s(10 cP), 또는 0.001 Pa.s(1 cP) 내지 0.005 Pa.s(5 cP) 범위일 수 있다.
몇몇 실시 형태에서, 액체 코팅은 고체상 물질을 포함한다. 고체상 물질은 평균 직경이 5 나노미터 내지 1 밀리미터 범위인 별개의 고체상 입자를 포함할 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 고체상 물질은 나노입자이다. 일 실시 형태에서, 고체상 물질은 평균 직경이 5 내지 75 나노미터 범위인 실리카 나노입자이다. 다른 실시 형태에서, 고체상 물질은 지르코니아, 다이아몬드, 또는 고형의 별개의 중합체 비드, 예를 들어 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA)이다.
코팅 조성물이 배치되는 기재는 액체 코팅 조성물의 적합한 배치를 허용하는 물질이라면 무엇이든지간에 임의의 물질로 구성될 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 이는 연속 코팅 공정에서 연속 웹으로서 코팅되는 시트 물질이다. 다른 실시 형태에서, 이는 컨베이어 벨트 또는 유사한 장치에 의해 코팅 및 건조 구역을 통하여 운반되는 개별 시트와 같은 별개의 형태이다. 유용한 기재는 예컨대 중합체 필름, 예를 들어 폴리에스테르, 폴리올레핀 또는 셀룰로오스 에스테르의 필름, 금속 호일, 예를 들어 알루미늄 또는 납 호일, 종이, 중합체 코팅 종이, 예를 들어 폴리에틸렌 코팅 종이, 고무, 및 중합체(들)와 금속 호일의 다양한 층들을 갖는 라미네이트를 포함한다.
임의의 적합한 유형의 코팅 장치가 하나 이상의 코팅 조성물을 (서로에 대해 상하로 또는 나란히) 기재 상으로 배치하기 위하여 사용될 수 있다. 따라서, 예를 들어 코팅 조성물은 침지 코팅법, 정방향 및 역방향 롤 코팅법(forward and reverse roll coating), 권선 로드 코팅법(wire-wound rod coating), 및 다이 타입 코팅법(die type coating)에 의해 배치될 수 있다. 다이 코터(die coater)는 특히 나이프 코터(knife coater), 슬롯 코터(slot coater), 슬라이드 코터(slide coater), 슬라이드 커튼 코터(slide curtain coater), 드롭 다이 커튼 코터(drop die curtain coater) 및 압출 코터(extrusion coater)를 포함한다. 몇몇 실시 형태에서, 하나 이상의 코팅 조성물은 기재 상으로 "스트립" 코팅될 수 있다. 또한, 코팅 조성물의 습식 커버리지(wet coverage)는 선택 사항이며, 이용되는 코팅 장치의 유형, 코팅 조성물의 특성, 및 건조 후 코팅된 층의 원하는 두께와 같은 다수의 요인에 따라 달라질 것이다.
배치된 코팅 조성물은 임의의 유용한 습윤 두께(wet thickness)를 가질 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 액체 코팅은 습윤 두께가 0.5 내지 5000 마이크로미터, 또는 1 내지 1000 마이크로미터, 또는 10 내지 1000 마이크로미터, 또는 50 내지 100 마이크로미터, 또는 100 내지 1000 마이크로미터 범위이다. 다른 실시 형태에서, 액체 코팅은 습윤 두께가 5 내지 1000 나노미터, 또는 50 내지 250 나노미터 범위이다. 다수의 실시 형태에서, 배치된 코팅 조성물은 균일한 공칭 습윤 두께를 갖는다.
코팅은 액체 코팅으로부터 에너지를 제거하거나 이에 에너지를 제공함으로써 지형적으로 패턴화될 수 있다. 에너지는 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 제공되거나 제거되어 제1 패턴 부위들에 상응하는 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성할 수 있다. 이어서, 지형적으로 패턴화된 코팅은, 예를 들어 지형적으로 패턴화된 코팅의 건조, 응고, 중합, 가교 결합 또는 경화에 의해 고형화될 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 지형적으로 패턴화된 코팅은 고형화되기 전에 다른 처리를 받는다. 몇몇 실시 형태에서, 지형적으로 패턴화된 코팅은 고형화되지 않는다.
에너지는 다양한 수단에 의해 액체 코팅 상의 패턴 부위들을 통하여 제공될 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 에너지 공급원은 액체 코팅이 에너지 공급원과 기재 사이에 배치되도록 에너지를 상기 액체 코팅 상으로 직접 인도한다. 몇몇 실시 형태에서, 기재는 에너지 공급원과 액체 코팅 사이에 배치된다. 몇몇 실시 형태에서, 에너지 전달 표면은 기재와 접촉하여 기재를 통하여 에너지를 액체 코팅에 제공한다. 몇몇 실시 형태에서, 에너지 전달 표면은 실질적으로 매끄러우며, 에너지는 액체 코팅 상의 패턴 부위들을 통하여 제공된다. 다른 실시 형태에서, 에너지 전달 표면은 매끄럽지 않으며, 에너지는 액체 코팅 상의 패턴 부위들을 통하여 제공된다.
몇몇 실시 형태에서, 에너지 공급원은 광자 에너지 공급원이다. 광자 에너지 공급원은 광자 에너지를 직접 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 인도할 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 광자 에너지 공급원은 적외선 에너지 공급원이다. 다른 실시 형태에서, 광자 에너지 공급원은 레이저 에너지 공급원이다.
에너지는 다양한 수단에 의해 액체 코팅 상의 패턴 부위들을 통하여 제거될 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 에너지 전달 표면은 기재와 접촉하여 이 기재를 통하여 에너지를 액체 코팅으로부터 제거한다. 몇몇 실시 형태에서, 에너지 전달 표면은 실질적으로 매끄러우며 에너지는 액체 코팅 상의 패턴 부위들을 통하여 제거된다. 다른 실시 형태에서, 에너지 전달 표면은 매끄럽지 않으며 에너지는 액체 코팅 상의 패턴 부위들을 통하여 제거된다. 몇몇 실시 형태에서, 에너지는 동시에 또는 순차적으로 액체 코팅에 제공되거나 이로부터 제거될 수 있다. 일 실시 형태에서, 에너지는 액체 코팅의 일면을 통하여 제공되며 이와 동시에 에너지는 액체 코팅의 반대면을 통하여 제거되어 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성한다.
에너지는 지형적 특징부를 생성하기에 유효한 임의의 양으로 액체 코팅으로부터 제거되거나 이에 제공될 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 소정량의 에너지가 의도적으로 액체 코팅에 제공되고/되거나 이로부터 제거되어 에너지가 제공되거나 제거되는 패턴 부위들과 나머지 부위들 사이에 온도차를 생성한다. 이 온도차는 임의의 유용한 온도차, 예를 들어 0.1℃ 초과, 또는 0.1 내지 100℃, 또는 1 내지 50℃, 또는 5 내지 50℃일 수 있다.
코팅 상에 형성되는 지형적 특징부는 임의의 유용한 크기일 수 있으며, 에너지가 액체 코팅에 제공되거나 액체 코팅으로부터 제거되는 패턴 부위들에 의해 구체적으로 결정될 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 지형적 특징부는 평균 높이가 10 나노미터 내지 1 밀리미터이며, 평균 폭이 10 나노미터 이상이다.
지형적 패턴 부위들의 형성 동안에 또는 그 이전에, 액체 코팅 및 기재의 위 및/또는 아래의 환경을 조절하여 패턴 형성에 적절한 코팅 상태를 확립할 수도 있다. 몇몇 실시 형태에서, 그러한 환경의 조절은 액체 코팅에 대한 성분의 추가 또는 제거 또는 제거의 지연을 위하여, 또는 코팅에서의 반응의 유도를 위하여, 또는 코팅의 용융 또는 코팅의 점도의 변경 등을 위하여 기체상 온도, 또는 기체상 조성 또는 기체상 속도를 조절하는 것을 포함할 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 그러한 환경의 조절은 열 조절되는 접촉 표면, 예를 들어 가열된 또는 냉각된 롤 또는 판의 제공, 또는 방사 에너지 공급원, 예를 들어 적외선 공급원의 제공, 또는 반응 유도용 에너지 공급원, 예를 들어 자외선 공급원의 제공 등을 포함한다. 코팅된 기재 주위의 환경의 그러한 조절 방법은 당업계의 숙련자에게 공지되어 있다.
지형적 패턴 부위들의 형성 동안 또는 그 이후, 액체 코팅은 원할 경우 건조시킬 수 있다. 코팅된 기재, 예를 들어 웹의 건조에는 코팅된 기재를 가열하여 휘발성 성분이 코팅으로부터 증발되게 하는 것을 필요로 할 수 있다. 이어서, 증발된 물질은 제거된다. 몇몇 실시 형태에서, 건조는 통상적인 건조 기술을 통하여 달성된다. 한 가지의 통상적인 건조 기술로는 충돌 건조(impingement drying)가 있다. 코팅된 기재용의 충돌 건조 시스템에서는 이동 기재의 일면 또는 양면에 공기를 충돌시키기 위하여 일면 또는 양면 충돌 건조 기술이 이용된다. 그러한 통상적인 충돌 건조 시스템에서, 공기는 코팅된 기재를 지지 및 가열하고 에너지를 기재의 코팅면 및 비코팅면 모두에 공급할 수 있다. 본 명세서에 참고로 포함되는 휼스맨(Huelsman) 등의 미국 특허 제5,581,905호 및 휼스맨 등의 미국 특허 제5,694,701호에 교시되어 있는 것과 같은 통상적인 갭 건조 시스템(gap drying system)에서, 코팅된 기재, 예를 들어 웹은 고형 표면과의 접촉없이 갭 건조 시스템을 통과하여 이동한다. 하나의 갭 건조 시스템 구성에서, 에너지는 이동 웹의 이면에 공급되어 용매를 증발시키며, 냉각된 압반(platen)은 이동 웹 위에 배치되어 응축에 의해 용매를 제거한다. 갭 건조 시스템에 의하여, 용매가 회수되고, 환경으로의 용매 방출이 감소되며, 조절되고 상대적으로 값싼 건조 시스템이 제공된다. 갭 건조 시스템에서, 웹은 유체, 예를 들어 공기에 의해 지원되는 건조 시스템을 통하여 이송되며, 이에 의해 웹 상의 스크래치(scratch)가 방지된다. 충돌 건조 시스템의 경우에서와 같이, 이동 웹과 접촉없이 이 웹을 운송하는 이전의 시스템에서는 에어 제트(air jet)를 웹에 대하여 충돌시키는 에어 제트 노즐이 이용될 수 있다. 대부분의 에너지는 에어 제트 노즐로부터의 고속의 공기 유동 때문에 대류에 의해 웹의 이면에 전달된다. 또한, 많은 충돌 건조 시스템은 웹의 전면에 에너지를 전달할 수 있다.
코팅시킨 기재는 건조 가스를 포함하는 건조 오븐을 사용하여 건조시킬 수 있다. 건조 가스, 일반적으로 공기를 적합한 승온으로 가열하고 코팅된 기재와 접촉시켜 용매를 증발시킨다. 건조 가스는 다양한 방법으로 건조 오븐 내로 도입할 수 있다. 몇몇 시스템에서, 건조 가스는 코팅이 최소한으로 교란되도록 설계된 주의 깊게 조절된 조건 하에 코팅된 기재의 표면 위로 건조 가스를 균일하게 분포시키는 방식으로 인도된다. 사용된 건조 가스, 즉, 코팅으로부터 증발되는 용매의 증기가 실린 건조 가스가 건조기로부터 계속적으로 배출된다. 많은 산업용 건조기에서는 개별적으로 격리된 다수의 구역을 사용하여 건조 통로를 따라 건조 특성의 유연성을 허용한다. 예를 들어, 미국 특허 제5,060,396호에는 움직이는 코팅된 기재로부터 용매를 제거하기 위한 구획된(zoned) 원통형 건조기가 설명되어 있다. 다수의 건조 구역은 물리적으로 분리되며, 각각의 건조 구역은 상이한 온도 및 압력에서 작동할 수도 있다. 다수의 건조 구역이 바람직하며, 이는 상기 구역이 단계적인 건조 가스의 온도 및 용매 증기의 조성의 사용을 가능하게 하기 때문이다.
지형적으로 패턴화된 코팅은 원할 경우 추가로 처리될 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 지형적으로 패턴화된 코팅은 열경화 또는 광경화 처리를 통하여 경화될 수 있는 경화성 성분을 포함한다.
도 1은 패턴화된 코팅의 예시적인 연속 제조 공정(100)의 개략도(축척 없음)이다. 이 공정(100)은 풀림(unwind) 스테이션(102), 속도 조절 롤(104), 건조 스테이션(50), UV 경화 스테이션(60), 및 재권취 스테이션(110)을 포함한다. 필요할 경우 부가적인 아이들러 롤(idler roll)이 웹 이송에 사용될 수 있다. 웹 또는 기재(14)는 공정(100)을 통하여 속도(v)로 이송된다. 코팅 다이(35)는 코팅 조성물을 기재(14)에 배치한다. 펌프(30)는 코팅 다이에 코팅 조성물을 공급할 수 있다. 이어서, 액체 코팅은 기재(14)의 비코팅면과 열적으로 연결되는 온도 조절식의 패턴화된 롤(40)로 패턴화될 수 있다. 패턴화된 롤(40)은 63 라인/㎝의 피치와, 45도의 피치각(d)를 갖는 피라미드형 널(pyramidal knurl)을 가질 수 있다(도 3 참조). 롤 직경은 11.4 ㎝일 수 있다.
예시적인 에너지 전달 표면 패턴의 개략적인 평면도가 도 3에 도시되어 있다. 패턴 치수로는 63 마이크로미터의 랜드 폭(a) 및 95 마이크로미터의 셀 측면 길이(b)가 포함될 수 있으며, 이는 158 마이크로미터의 패턴 주기(c)를 초래한다. 셀의 내각(기호로 나타내지 않음)은 70도이다. 도 4는 선 4-4를 따라 취한 도 3에 도시된 에너지 전달 표면 패턴의 개략적인 단면도이다. 셀의 깊이(e)는 69 마이크로미터이다.
도 2는 패턴화된 코팅의 다른 예시적인 연속 제조 공정(100)의 개략도(축척 없음)이다. 이 공정(100)은 풀림 스테이션(102), 속도 조절 롤(104), 건조 스테이션(50), UV 경화 스테이션(60), 및 재권취 스테이션(110)을 포함한다. 필요할 경우 부가적인 아이들러 롤이 웹 이송에 사용될 수 있다. 웹 또는 기재(14)는 공정(100)을 통하여 속도(v)로 이송된다. 코팅 다이(35)는 코팅 조성물을 기재(14)에 배치한다. 펌프(30)는 코팅 다이에 코팅 조성물을 공급할 수 있다. 이어서, 액체 코팅은 레이저 시스템(40)으로 패턴화될 수 있다. 레이저 시스템(40)은 레이저(42), 기계적 초퍼(chopper)(44) 및 초점 렌즈(focusing lens)(46)를 포함할 수 있다. 기재(14)의 비코팅면은 지지 롤(52)과 접촉할 수 있다.
재료
CAB 171-15s: 셀룰로오스-아세테이트-부티레이트 (이스트맨 케미칼 컴퍼니(Eastman Chemical Company), 미국 테네시주 킹스포트 소재)
백랍 비드: 20％의 R104 TiO2 및 80％의 폴리왁스(Polywax) 1000 (베이커 페트로라이트(Baker Petrolite), 미국 텍사스주 슈가 랜드 소재)
SR-1000: MQ 수지 (지이 실리콘즈(GE Silicones), 미국 뉴욕주 워터포드 소재)
SR-545: 톨루엔 중 MQ 수지의 60％ 고형물 용액 (지이 실리콘즈, 미국 뉴욕주 워터포드 소재)
DMS-T11: 실리콘 유체 (겔리스트 인크.(Gelest Inc.), 미국 펜실베니아주 툴리타운 소재)
H-MDI: 메틸렌다이사이클로헥실렌-4,4 -다이아이소시아네이트, 데스모두 르(DESMODUR) W H12MDI (바이엘 케미칼즈(Bayer Chemicals), 미국 펜실베니아주 피츠버그 소재)
PDMS: 미국 특허 제5,512,650호의 실시예 2에서와 같이 제조된 폴리다이아민 실리콘
실로이드(Syloid) 803: 미국 21203 메릴랜드주 볼티모어 소재의 그레이스 데이비드슨 더블유알 그레이스 앤드 컴퍼니(Grace Davidson WR Grace & Co.)에 의해 제조된 마이크로 크기의 실리카 겔
부트바르(Butvar) B-79, 폴리비닐 부티랄 (솔루티아 인크(Solutia Inc.), 미국 미주리주 세인트 루이스 소재)
실시예 1
갭 설정치가 254 마이크로미터인 BWK 가드너 멀티플 클리어런스 어플리케이터(Gardner Multiple Clearance Applicator)를 사용하여 48 마이크로미터 두께의 투명 폴리에스테르 필름 상으로 아세톤 중 13％의 셀룰로오스-아세테이트-부티레이트(CAB 171-15s)로 이루어진 용액을 배치함으로써 지형적으로 패턴화된 코팅을 제조하였다. 코팅의 건중량은 대략 14 g/㎡이었다. 이어서, 직경이 1.6 ㎜이고 가장 가까이 인접한 중심간 이격치가 3.2 ㎜인 홀의 배열이 천공된 0.8 ㎜ 두께의 알루미늄 판 상에 코팅된 필름을 (코팅이 위로 향하도록) 두었다. 이어서, 알루미늄 판을 온도 조절된 판에 두고 10℃로 냉각시켰다. 이어서, 필름 상의 코팅을 대략 15분 동안 건조시켰다. 이어서, 건조시킨 패턴화된 코팅의 프로파일을 KLA 텐코르(Tencor) P-10 표면 분석기(Surface Profilometer)를 사용하여 측정하였으며, 이 는 도 5에 도시되어 있다.
실시예 2
갭 설정치가 381 마이크로미터인 BWK 가드너 멀티플 클리어런스 어플리케이터를 사용하여 물 중 대략 45％의 고형물로 이루어진 수성 라텍스 감압성 접착제(쓰리엠(3M) 월세이버(Wallsaver) 접착제)를 48 마이크로미터 두께의 투명 폴리에스테르 필름 상으로 배치함으로써 지형적으로 패턴화된 접착제 코팅을 제조하였다. 코팅의 건중량은 대략 98 g/㎡이었다. 이어서, 코팅된 필름을 9.5 ㎜ 두께의 실리콘 고무 시트 상에 (코팅을 위로 향하게 하여) 두었다. 직경이 3.2 ㎜이고 가장 가까이 인접한 중심간 이격치가 4.8 ㎜인 홀의 배열이 천공된 1.1 ㎜ 두께의 알루미늄 판을 코팅된 필름의 모서리에서 스페이서로서 유리면을 사용하여 코팅된 필름보다 대략 3 ㎜ 위에 위치시켰다. 최대 파워(power)로 설정한 워트로우(Watlow) 레이맥스(RAYMAX) 모델 1525 적외선 히터를 알루미늄 판보다 대략 15 ㎝ 위에 위치시켰다. 이어서, 필름 상의 코팅을 대략 15분 동안 건조시켰다. 이어서, 코팅 및 필름을 이 판으로부터 제거하고, 전체 코팅이 투명하게 될 때까지 열풍기(hot air gun)로 건조시켰다. 이어서, 건조시킨 패턴화된 코팅의 프로파일을 KLA 텐코르 P-10 표면 분석기를 사용하여 측정하였으며, 이는 도 6에 도시되어 있다.
실시예 3
도 1에 도시되어 있는 공정을 이용하여 접착제(30％ 고형물로 이루어짐; 톨루엔과 2-부탄온의 50:50 혼합물을 이용하여 10％의 고형물이 되게 희석시킨, 톨루엔과 2-프로판올의 70:30 혼합물 중 1:1의 14K: SPU 탄성중합체)를 배치함으로써 지형적으로 패턴화된 접착제를 제조하였다. 펌프(30)를 이용하여 용액을 코팅 다이(35)에 7.5 ㎤/분의 속도로 공급하였다. 2.54 ㎝/초의 속도(v)로 이동하는 기재(14)에 10.2 ㎝ 폭의 코팅 다이(35)를 통하여 접착제를 균일하게 배치하였다. 기재(14)는 폭이 15.2 ㎝이고 두께가 14.2 마이크로미터인 PET였다. 접착제는 온도 조절식의 패턴화된 롤(40) "위로" 접착제 코팅된 기재(14)를 이송함으로써 패턴화하였다. 기재(14)는 패턴화용 롤(40)을 대략 80 정도(롤(40)과 열적으로 연결되는 기재의 일부)만큼 감고 있다. 롤(40)의 온도는 대략 80℃인 것으로 측정되었다. 이어서, 패턴화된 접착제 코팅을 건조기(50)를 통하여 이송하고 재권취 스테이션(110)에서 권취하였다.
이어서, 패턴화된 접착제 코팅을 178 마이크로미터 두께의 PET 필름으로 적층시키고, 도 7에 도시된 바와 같이 5X 대물 렌즈가 구비된 명시야 조명의 올림푸스(Olympus) BX-51 현미경을 사용하여 이미지 처리하였다. 보다 밝은 원형 부위는 접착제 코팅과 적층된 PET 필름 사이의 적층 구조 내의 공기 포켓(air pocket)이다.
실시예 4
30％의 아크릴레이트 및 광개시제, 36％의 톨루엔 및 34％의 2-프로판올로 이루어진 UV 경화성 아크릴레이트 하드코트(hardcoat) 용액(미국 특허 제6,299,799호의 실시예 3에 설명된 바와 같이 형성됨)을 도 1에 도시된 공정을 이용하여 배치함으로써 지형적으로 패턴화된 코팅을 제조하였다. 펌프(30)를 이용하여 이 용액을 코팅 다이(35)에 1.5 ㎤/분의 속도로 공급하였다. 5.1 ㎝/초의 속도(v)로 이동 하는 기재(14)에 10.2 ㎝ 폭의 코팅 다이(35)를 통하여 상기 용액을 균일하게 배치하였다. 기재(14)는 폭이 15.2 ㎝이고 두께가 14.2 마이크로미터인 PET였다. 이 용액은 온도 조절식의 패턴화된 롤(40) "위로" 코팅된 기재(14)를 이송함으로써 패턴화하였다. 기재(14)는 패턴화용 롤(40)을 대략 80 정도(롤(40)과 열적으로 연결되는 기재의 일부)만큼 감고 있다. 롤(40)의 온도는 대략 57℃인 것으로 측정되었다. 이어서, 패턴화된 코팅을 건조기(50) 및 UV 경화 스테이션(60)을 통하여 이송하고 재권취 스테이션(110)에서 권취하였다.
패턴화된 코팅은 도 8에 도시된 바와 같이 10X 대물 렌즈 및 미분 간섭 위상차(Differential Interference Contrast, DIC) 광학 기기(optics)가 구비된 올림푸스 BX-51 현미경을 사용하여 이미지 처리하였다.
실시예 5
3 마이크로미터의 실로이드(Syloid) 실리카 비드(29.8％의 아크릴레이트, 36％의 톨루엔, 33.6％의 2-프로판올 및 0.6％의 실로이드 803)를 포함하는 UV 경화성 아크릴레이트 하드코트 용액(본질적으로 미국 특허 제6,299,799호의 실시예 3에 설명되어 있는 바와 같이 형성됨)을 도 2에 도시된 공정을 이용하여 배치함으로써 패턴화된 코팅을 제조하였다. 펌프(30)를 이용하여 이 용액을 코팅 다이(35)에 4 ㎤/분의 속도로 공급하였다. 5.1 ㎝/초의 속도(v)로 이동하는 기재(14)에 10.2 ㎝ 폭의 코팅 다이(35)를 통하여 상기 용액을 균일하게 배치하였다. 기재(14)는 폭이 15.2 ㎝이고 두께가 50.8 마이크로미터인 투명 PET였다. 코팅된 기재(14)를 매끄러운 아이들러 롤(52) "위로" 이송할 때 기계적으로 초핑되고 초점이 맞춰진 적외 선 빔에 코팅된 기재(14)를 노출시킴으로써 상기 용액을 패턴화하였다. 레이저(42)(미국 14623 뉴욕주 로체스터 윈턴 플레이스 빌딩 8 3495 소재의 레이저맥스 인크.(Lasermax Inc.)에 의해 제조된 100 mW의 780-1150 nm 파장의 다이오드 레이저)를 기계적 초핑 휠(wheel)(44)로 초핑하고, 초점 렌즈(46)로 초점을 맞추었다. 매끄러운 아이들러 롤(52)은 외경이 8.9 ㎝인 알루미늄 쉘(shell)과, 외면을 감싸고 있는 200 마이크로미터 두께의 흑색 절연재(쓰리엠 스카치(3M Scotch)TM 수퍼(Super) 33+ 비닐 전기 테이프 30-0665) 층으로 이루어져 있다. 이어서, 패턴화된 코팅을 건조기(50) 및 UV 경화 스테이션(60)을 통해 이송하고 재권취 스테이션(110)에서 권취하였다.
패턴화된 비드 함유 코팅을 도 9에 도시된 바와 같이 5X 대물 렌즈 및 미분 간섭 위상차 광학 기기가 구비된 올림푸스 BX-51 현미경을 사용하여 이미지 처리하였다.
실시예 6
용매 블렌드(42 중량％의 메틸 에틸 케톤 및 58 중량％의 메탄올) 중 12 중량％의 폴리비닐 부티랄(부트바르-B79)로 이루어진 용액을 중합체 시험 시트 상으로 코팅함으로써 지형적으로 패턴화된 코팅을 제조하였다. 이 시트는 사진 유제로 코팅되고 도 10에 도시된 바와 같이 흑색의 정사각형의 시험 패턴을 생성하도록 노출된 투명한 중합체 필름으로 이루어져 있다. 시험 시트의 두께는 107 마이크로미터였다. 갭 설정치가 381 마이크로미터인 BWK 가드너 멀티플 클리어런스 어플리케이터를 사용하여 시험 시트의 이미지 처리된 면에 코팅을 주조(cast)하였다. 이어 서, 코팅된 필름은 (코팅이 위로 향하도록) SLI 라이팅(SLI Lighting)의 250 와트 가열 램프보다 27 ㎝ 위에 있는 프레임에 두었다. 이어서, 유리 커버 시트를 시험 시트보다 6.5 ㎜ 위에 위치시켰다. 이어서, 필름 상의 코팅을 대략 10분 동안 건조시켰다. 이어서, 건조시킨 패턴화된 코팅의 프로파일을 KLA 텐코르 P-10 표면 분석기를 사용하여 측정하였으며, 이는 도 11에 도시되어 있다.
본 발명은 상기에 설명된 특정 실시예에 한정되는 것으로 간주되어서는 아니되며, 오히려 첨부된 청구의 범위에 적절히 기재된 본 발명의 모든 태양을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 명세서의 개관시 본 발명에 적용될 수 있는 다양한 변형, 동등한 공정 뿐만 아니라, 다수의 구조는 본 발명과 관계된 분야의 숙련자에게 쉽게 명확해질 것이다.

Claims (21)

  1. 조성물을 기재 상에 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 단계; 및
    상기 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 에너지를 제거하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 단계를 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 상기 제1 패턴 부위들에 상응하는 것인, 지형적으로 패턴화된 코팅의 형성 방법.
  2. 제1항에 있어서, 지형적으로 패턴화된 코팅을 고형화하는 것을 더 포함하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 배치 단계가 중합체 또는 중합체 전구체를 포함하는 조성물을 기재 상에 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 것을 포함하는 것인 방법.
  4. 제1항에 있어서, 배치 단계가 중합체 또는 중합체 전구체 및 액체 비히클을 포함하는 조성물을 기재 상에 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 것을 포함하는 것인 방법.
  5. 제4항에 있어서, 코팅으로부터 액체 비히클 성분을 제거하는 것을 더 포함하는 방법.
  6. 제2항에 있어서, 고형화 단계가 지형적으로 패턴화된 코팅을 중합, 가교 결합 또는 경화시키는 것을 포함하는 것인 방법.
  7. 제2항에 있어서, 고형화 단계가 지형적으로 패턴화된 코팅을 건조 또는 응고시키는 것을 포함하는 것인 방법.
  8. 제1항에 있어서, 에너지 제거 단계가 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들 및 기재를 통하여 에너지를 제거하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 것을 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 상기 제1 패턴 부위들에 상응하는 것인 방법.
  9. 조성물을 기재 상에 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 단계; 및
    상기 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 에너지 공급원으로부터 에너지를 제공하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 단계를 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 상기 제1 패턴 부위들에 상응하고, 코팅은 상기 기재와 에너지 공급원 사이에 배치되는 것인, 지형적으로 패턴화된 코팅의 형성 방법.
  10. 제9항에 있어서, 지형적으로 패턴화된 코팅을 고형화하는 것을 더 포함하는 방법.
  11. 제9항에 있어서, 배치 단계가 중합체 또는 중합체 전구체를 포함하는 조성물 을 기재 상에 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 것을 포함하는 것인 방법.
  12. 제9항에 있어서, 배치 단계가 중합체 또는 중합체 전구체 및 액체 비히클을 포함하는 조성물을 기재 상에 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 것을 포함하는 것인 방법.
  13. 제12항에 있어서, 코팅으로부터 액체 비히클 성분을 제거하는 것을 더 포함하는 방법.
  14. 제10항에 있어서, 고형화 단계가 지형적으로 패턴화된 코팅을 중합, 가교 결합 또는 경화시키는 것을 포함하는 것인 방법.
  15. 제10항에 있어서, 고형화 단계가 지형적으로 패턴화된 코팅을 건조 또는 응고시키는 것을 포함하는 것인 방법.
  16. 제9항에 있어서, 에너지 제공 단계가 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 광자 공급원으로부터 에너지를 제공하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 것을 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 상기 제1 패턴 부위에 상응하고, 코팅은 상기 기재와 광자 공급원 사이에 배치되는 것인 방법.
  17. 제16항에 있어서, 에너지 제공 단계가 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 적외선 공급원으로부터 에너지를 제공하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 것을 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 상기 제1 패턴 부위들에 상응하고, 코팅은 상기 기재와 적외선 공급원 사이에 배치되는 것인 방법.
  18. 제16항에 있어서, 에너지 제공 단계가 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 레이저 공급원으로부터 에너지를 제공하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 것을 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 상기 제1 패턴 부위에 상응하고, 코팅은 상기 기재와 레이저 공급원 사이에 배치되는 것인 방법.
  19. 조성물을 기재 상으로 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 단계;
    실질적으로 매끄러운 에너지 전달 표면 상에 상기 기재를 배치하는 단계와; 및
    상기 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 상기 에너지 전달 표면으로부터 에너지를 제공하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 단계를 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 상기 제1 패턴 부위들에 상응하는 것인, 지형적으로 패턴화된 코팅의 형성 방법.
  20. 감압성 접착제 형성 조성물을 기재 상으로 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 단계; 및
    상기 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 에너지를 제공하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 단계를 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 상기 제1 패턴 부위들에 상응하는 것인, 지형적으로 패턴화된 코팅의 형성 방법.
  21. 나노입자를 포함하는 조성물을 기재 상에 배치하여 기재 상에 액체 코팅을 형성하는 단계; 및
    상기 액체 코팅 상의 제1 패턴 부위들을 통하여 에너지를 제공하여 지형적으로 패턴화된 코팅을 형성하는 단계를 포함하며, 여기서 지형적 패턴은 상기 제1 패턴 부위들에 상응하는 것인, 지형적으로 패턴화된 코팅의 형성 방법.
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