JP2008523987A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008523987A5 JP2008523987A5 JP2007547451A JP2007547451A JP2008523987A5 JP 2008523987 A5 JP2008523987 A5 JP 2008523987A5 JP 2007547451 A JP2007547451 A JP 2007547451A JP 2007547451 A JP2007547451 A JP 2007547451A JP 2008523987 A5 JP2008523987 A5 JP 2008523987A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- interrupted
- cycloalkyl
- alkenyl
- phenyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 32
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims 26
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims 26
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 24
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 10
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims 9
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 6
- 239000003211 photoinitiator Substances 0.000 claims 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 5
- 201000002674 obstructive nephropathy Diseases 0.000 claims 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 5
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims 2
- 230000001070 adhesive Effects 0.000 claims 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims 2
- 125000004433 nitrogen atoms Chemical group N* 0.000 claims 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims 2
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating Effects 0.000 claims 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000006385 ozonation reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Claims (10)
- 無機又は有機基材上への強接着性コーティングの製造方法であって、
a)無機又は有機基材上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理、オゾン化、又は紫外線照射、又は火炎処理を行い、
b)1種以上の光開始剤、又は光開始剤と少なくとも1個のエチレン性不飽和基を含有するモノマー若しくは/及びオリゴマーとの混合物、あるいは前述の物質の溶液、懸濁液、又はエマルションを、無機又は有機基材に塗布し、そして
c)場合により、適切な方法を用いて、これら前述の物質を乾燥するか、かつ/又は電磁波を照射し、
工程b)において、式I又はIa:
〔式中、nは、1〜4の数であり;
Xは、O、S、又はNR5であり;
Zは、O又はSであり;
nが1である場合、R1は、水素、C1〜C50アルキル、C2〜C24アルケニル、C3〜C25シクロアルキル;1個以上のX2で中断されたC2〜C250アルキル;1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルケニル;1個以上のX2で中断されたC3〜C25シクロアルキル(ここで前記基C1〜C50アルキル、C2〜C24アルケニル、C3〜C25シクロアルキル;1個以上のX2で中断されたC2〜C250アルキル;1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルケニル;1個以上のX2で中断されたC3〜C25シクロアルキルは、場合により1個以上のAで置換されている)であるか;
又はR1は、場合によりA1で置換されているフェニルであるか;
又は、XがNR5である場合、R5及びR1は、N−原子と一緒になって、場合によりN−原子のほかに別の基NR5を含んでいる環を形成していてもよく;
nが2である場合、R1は、二価の結合基であり;
nが3である場合、R1は、三価の結合基であり;
nが4である場合、R1は、四価の結合基であり;
Mは、n価のカチオンであり;
Aは、
、OR9、SR9、NR10R11、ハロゲン、非置換フェニル、又は1個以上のC1〜C24アルキル、C3〜C25シクロアルキル、C2〜C24アルケニル、C2〜C24アルキニル、フェニル、OR9、SR9、COR9、COOR9、OCOR9、CON10R11、OCONR10R11、
で置換されたフェニルであり、
A1は、C1〜C24アルキル、1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルキル;C2〜C24アルケニル、1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルケニル;C3〜C25シクロアルキル;1個以上のX2で中断されたC3〜C25シクロアルキル(ここで前記基C1〜C24アルキル、1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルキル、C2〜C24アルケニル;1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルケニル;C3〜C25シクロアルキル;及び1個以上のX2で中断されたC3〜C25シクロアルキルは、場合により1個以上のC2〜C24アルキニル、フェニル、OR9、SR9、−COR9、COOR9、
で置換されている)であるか;
あるいはA1は、
、OR9、SR9、NR10R11、非置換フェニル、又は1個以上のC1〜C24アルキル、C2〜C24アルケニル、C3〜C25シクロアルキル、C2〜C24アルキニル、フェニル、OR9、SR9、COR9、COOR9、OCOR9、CON10R11、OCONR10R11、
で置換されたフェニルであり;
R2、R3、及びR4は、互いに独立に、水素、ハロゲン、CN、C1〜C24アルキル、1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルキル;C2〜C24アルケニル、1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルケニル;C3〜C25シクロアルキル;1個以上のX2で中断されたC3〜C25シクロアルキル(ここで前記基C1〜C24アルキル、1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルキル、C2〜C24アルケニル、1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルケニル、C3〜C25シクロアルキル、及び1個以上のX2で中断されたC3〜C25シクロアルキルは;場合により1個以上のC2〜C24アルキニル、フェニル、ハロゲン、OR9、SR9、NR10R11、COR9、COOR9、OCOR9、N(R5)COR9、CON(R5)R9、
で置換されている)であるか;
あるいはR2、R3、及びR4は、
、OR9、SR9、NR10R11、COR9、COOR9、OCOR9、N(R5)COR9、CON(R5)R9、非置換フェニル、又は1個以上のOR9、SR9、NR10R11、COR9、COOR9、OCOR9、N(R5)COR9、CONR10R11、OCONR10R11、C1〜C24アルキル、C2〜C24アルケニル、C3〜C25シクロアルキル、C2〜C24アルキニル、フェニル、
で置換されたフェニルであるか;
あるいはR2及びR3は、一緒になってC1〜C6アルキレンを形成するか、又はR2及びR3は一緒になって、これらが結合したフェニル環に縮合したベンゼン環を形成し;
R5は、nが1である場合のR1について示した意味の一つを有するか;又はR5は、
であり、
X1は、直接結合、O、S、又はNR12であり;
X2は、O、S、NR12、CO、COO、OCO、CONR12、NR12CO、OCONR12、NR12COO、NR12CONR13、SO、SO2、CR12=CR13、C≡C、N=C−R12、R12C=N、
、フェニレン;又はA1で置換されたフェニレンであり;
R6、R7、及びR8は、互いに独立に、R2、R3、及びR4について示したのと同じ意味を有し;
R9、R10、及びR11は、互いに独立に、水素、C1〜C24アルキル;1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルキル;C2〜C24アルケニル;1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルケニル;C3〜C25シクロアルキル;1個以上のX2で中断されたC3〜C25シクロアルキル(ここで前記基C1〜C24アルキル;1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルキル;C2〜C24アルケニル;1個以上のX2で中断されたC2〜C24アルケニル;C3〜C25シクロアルキル;及び1個以上のX2で中断されたC3〜C25シクロアルキルは、場合により1個以上のC2〜C24アルキニル、フェニル、ハロゲン、CN、OR12、SR12、COR12、COOR12、
で置換されている)であるか;
あるいはR9、R10、及びR11は、互いに独立に、非置換フェニル、又は1個以上のCOR12、COOR12、OCOR12、CONR13R14、OCONR13R14、C1〜C24アルキル、C2〜C24アルケニル、C3〜C25シクロアルキル、C2〜C24アルキニル、フェニル、OR12、SR12、
で置換されたフェニルであるか;
あるいはR9、R10、及びR11は、互いに独立に、非置換フェニル−C1〜C4−アルキル、又は1個以上のCOR12、COOR12、OCOR12、CONR13R14、OCONR13R14、C1〜C24アルキル、C3〜C25シクロアルキル、C2〜C24アルケニル、C2〜C24アルキニル、フェニル、OR12、SR12、
で置換されたフェニル−C1〜C4アルキルであり;
R12、R13、及びR14は、互いに独立に、水素、フェニル、C1〜C24アルキル;1個以上のX3で中断されたC2〜C24アルキル;C2〜C24アルケニル;1個以上のX3で中断されたC2〜C24アルケニル;C3〜C25シクロアルキル;1個以上のX3で中断されたC3〜C25シクロアルキル(ここで前記基フェニル、C1〜C24アルキル;1個以上のX3で中断されたC2〜C24アルキル;C2〜C24アルケニル;1個以上のX3で中断されたC2〜C24アルケニル;C3〜C25シクロアルキル;及び1個以上のX3で中断されたC3〜C25シクロアルキルは、場合により1個以上のOH又はハロゲンで置換されている)であり;
X3は、O、S、又はNR5であり;そして
R15、R16、及びR17は、互いに独立に、水素、C1〜C24アルキル、CH2−COOH、COOH、又はフェニルである〕の光開始剤を少なくとも1種用いることを特徴とする、方法。 - d)更なるコーティングを塗布し、そして乾燥又は硬化させる、請求項1記載の方法。
- 更なるコーティングd)が、
d1)UV/VIS放射線若しくは電子ビームで硬化する、少なくとも1種の重合性モノマー、又はエチレン性不飽和のモノマー若しくはオリゴマーを含む、溶剤又は水系の組成物;あるいは
d2)溶剤又は水系の通常の乾燥コーティング、例えば印刷インク又はラッカー;あるいは
d3)金属層
である、請求項2記載の方法。 - 工程b)において、光開始剤(1種又は複数種)又はそのモノマー若しくはオリゴマーとの混合物を、1種以上の液体と組み合わせて、溶液、懸濁液、及びエマルションの形態で用いる、請求項1〜3のいずれか1項記載の方法。
- 式Ic:
(式中、T1、T2、T3、T4、T5、T6、T7、T8は、互いに独立に、水素又はC1〜C4アルキルであり;
aは、4〜50、好ましくは4〜20の整数であり;
Tは、
、OR9、SR9、NR10R11、ハロゲン、非置換フェニル、又は1個以上のC1〜C24アルキル、C3〜C25シクロアルキル、C2〜C24アルケニル、C2〜C24アルキニル、フェニル、OR9、SR9、COR9、COOR9、OCOR9、CON10R11、OCONR10R11、
で置換されたフェニルであり;そして
R2、R3、R4、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、X1、R15、R16、及びR17は、
請求項1の定義の通りである)の化合物。 - 方法の工程b)における、光開始剤又は複数の光開始剤の濃度が、全配合物に基づいて0.0001〜100%である、請求項1〜4のいずれか1項記載の方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項記載の方法により得た、強接着性コーティング。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP04106822.2 | 2004-12-22 | ||
EP04106822 | 2004-12-22 | ||
PCT/EP2005/056683 WO2006067061A2 (en) | 2004-12-22 | 2005-12-12 | Process for the production of strongly adherent coatings |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008523987A JP2008523987A (ja) | 2008-07-10 |
JP2008523987A5 true JP2008523987A5 (ja) | 2009-02-05 |
JP5421533B2 JP5421533B2 (ja) | 2014-02-19 |
Family
ID=34930110
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007547451A Expired - Fee Related JP5421533B2 (ja) | 2004-12-22 | 2005-12-12 | 強接着性コーティングの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8414982B2 (ja) |
EP (1) | EP1836002B1 (ja) |
JP (1) | JP5421533B2 (ja) |
TW (1) | TWI392712B (ja) |
WO (1) | WO2006067061A2 (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008040650A2 (en) * | 2006-10-03 | 2008-04-10 | Ciba Holding Inc. | Photocurable compositions comprising a photoinitiator of the phenylglyoxylate type |
US8057852B2 (en) | 2006-11-23 | 2011-11-15 | National Research Council Of Canada | Microdevice for a fluorescence-based assay, and a method for making the microdevice |
US20100178512A1 (en) * | 2006-12-06 | 2010-07-15 | Ciba Corporation | Changing surface properties by functionalized nanoparticles |
EP1978038A1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-08 | Vlaamse Instelling Voor Technologisch Onderzoek (Vito) | A method for producing a coating by atmospheric pressure plasma technology |
CN101679779B (zh) | 2007-04-25 | 2013-07-10 | 巴斯夫欧洲公司 | 带有生物钝性涂层的基底 |
US8993479B2 (en) | 2008-10-17 | 2015-03-31 | Surfix Bv | Photochemical modification of solid materials |
DE102008052586A1 (de) * | 2008-10-21 | 2010-04-22 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Zusammensetzung zur Herstellung optischer Elemente mit Gradientenstruktur |
TWI569972B (zh) * | 2011-07-28 | 2017-02-11 | 凸版印刷股份有限公司 | 積層體、阻氣薄膜及其等之製造方法 |
US9422432B2 (en) * | 2012-11-26 | 2016-08-23 | Bryson Patents Inc. | Powder coating pretreatment compositions, and methods of using and making the same |
JP2016511288A (ja) | 2012-12-17 | 2016-04-14 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 改善された流束を有する膜および前記膜の製造方法 |
JP2016527074A (ja) * | 2013-05-29 | 2016-09-08 | シーマ ナノテック イスラエル リミテッド | 光開始剤を使用した基材前処理の方法 |
ES2871449T3 (es) * | 2014-05-19 | 2021-10-28 | Ineos Styrolution Group Gmbh | Película de material compuesto de copolímero de estireno |
CN104610541A (zh) * | 2015-02-10 | 2015-05-13 | 天津墨森科技有限公司 | 新型苯甲酰甲酸酯类引发剂及其制备方法 |
KR101860188B1 (ko) * | 2016-01-27 | 2018-06-28 | 대진대학교 산학협력단 | 마이크로웨이브를 이용한 3d 프린트물의 표면처리 방법 |
JP7057058B2 (ja) * | 2016-08-10 | 2022-04-19 | ダイセルポリマー株式会社 | 熱可塑性樹脂組成物の成形体の塗装方法 |
CN106397815A (zh) * | 2016-09-28 | 2017-02-15 | 南宁市日建塑料包装有限责任公司 | 一种提高塑料印刷品中油墨附着力的方法 |
CN106905147A (zh) * | 2017-02-21 | 2017-06-30 | 怀化金鑫新材料有限公司 | 光引发剂苯甲酰甲酸二甘醇酯的合成新工艺 |
WO2018177488A1 (en) | 2017-03-31 | 2018-10-04 | Coloplast A/S | Acrylami de photoi ni ti ators |
US10633550B2 (en) * | 2017-08-31 | 2020-04-28 | Xerox Corporation | Molecular organic reactive inks for conductive silver printing |
US20210086545A1 (en) | 2018-04-25 | 2021-03-25 | Basf Se | Process for the production of strongly adherent (embossed) films on flexible substrates |
EP3784497A1 (en) | 2018-04-25 | 2021-03-03 | Basf Se | Process for the production of strongly adherent liquid crystal films on flexible substrates |
US10814659B2 (en) | 2018-06-28 | 2020-10-27 | Xerox Corporation | Methods for printing conductive objects |
CN111804550A (zh) * | 2020-07-07 | 2020-10-23 | 安徽百世佳包装有限公司 | 一种铝制品表面罩光涂层处理工艺 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3214492A (en) | 1962-03-27 | 1965-10-26 | Organic polymeric articles and prepara- tion thereof from derivatives of eth- ylene and unsaturated benzophenones | |
US3429852A (en) | 1967-03-30 | 1969-02-25 | Nat Starch Chem Corp | Ethylenically unsaturated derivatives of benzophenone and crosslinkable polymers thereof |
US3622848A (en) | 1970-03-19 | 1971-11-23 | Du Pont | Capacitor with photocrosslinked dielectric |
US4304895A (en) | 1973-06-20 | 1981-12-08 | Wesley-Jessen, Inc. | Ultraviolet absorbing corneal contact lenses |
US4148987A (en) | 1977-05-04 | 1979-04-10 | Rohm And Haas Company | Radiation-curable monomers and polymers thereof |
DE3534645A1 (de) | 1985-09-28 | 1987-04-02 | Merck Patent Gmbh | Copolymerisierbare fotoinitiatoren |
DE3815622A1 (de) | 1988-05-07 | 1989-11-16 | Merck Patent Gmbh | Fotoinitiator-dispersionen |
DE3844444A1 (de) | 1988-12-31 | 1990-08-09 | Basf Ag | Strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesaettigte, copolymerisierbare verbindungen und verfahren zu deren herstellung |
IT1228982B (it) | 1989-03-07 | 1991-07-11 | Lamberti Flli Spa | Dispersioni acquose di fotoiniziatori e loro impiego. |
AU718619B2 (en) * | 1997-01-30 | 2000-04-20 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Non-volatile phenylglyoxalic esters |
DE19826712A1 (de) | 1998-06-16 | 1999-12-23 | Basf Ag | Strahlungshärtbare Massen, enthaltend Phenylglyoxylate |
SG77689A1 (en) | 1998-06-26 | 2001-01-16 | Ciba Sc Holding Ag | New o-acyloxime photoinitiators |
DE59908436D1 (de) * | 1998-10-28 | 2004-03-04 | Ciba Sc Holding Ag | Verfahren zur herstellung haftfester oberflächenbeschichtungen |
DE19953433A1 (de) | 1999-11-06 | 2001-05-10 | Michael Bauer | Verfahren zur Herstellung haftfester, strukturierbarer Metallbeschichtungen |
NL1016815C2 (nl) | 1999-12-15 | 2002-05-14 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-fotoinitiatoren. |
JP4512281B2 (ja) * | 2001-02-22 | 2010-07-28 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版 |
RU2301117C2 (ru) * | 2002-01-29 | 2007-06-20 | Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. | Способ получения покрытий с сильной адгезией |
WO2003074718A1 (en) * | 2002-03-06 | 2003-09-12 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Enzymatic process for preparing organosilicon group containing photoinitiators |
ATE320452T1 (de) * | 2002-04-26 | 2006-04-15 | Ciba Sc Holding Ag | Einbaufähiger photoinitiator |
US20060073280A1 (en) * | 2002-10-09 | 2006-04-06 | Michael Bauer | Method for producing uv abbsorption layers on substrates |
MXPA05006547A (es) * | 2002-12-20 | 2005-08-16 | Ciba Sc Holding Ag | Metodo para formar recubrimientos reactivos. |
MXPA05006693A (es) * | 2002-12-20 | 2005-09-08 | Ciba Sc Holding Ag | Metodo para formar capas funcionales. |
US20060257681A1 (en) * | 2003-05-23 | 2006-11-16 | Jean-Pierre Wolf | Strongly adherent surface coatings |
EP1651792A1 (en) * | 2003-08-04 | 2006-05-03 | Ciba SC Holding AG | Process for the production of strongly adherent coatings |
CN1829819A (zh) * | 2003-08-04 | 2006-09-06 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 强粘性涂料的生产方法 |
-
2005
- 2005-12-12 EP EP05826390A patent/EP1836002B1/en not_active Not-in-force
- 2005-12-12 WO PCT/EP2005/056683 patent/WO2006067061A2/en active Application Filing
- 2005-12-12 JP JP2007547451A patent/JP5421533B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-12 US US11/792,747 patent/US8414982B2/en active Active
- 2005-12-21 TW TW094145631A patent/TWI392712B/zh not_active IP Right Cessation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008523987A5 (ja) | ||
JP2005515889A5 (ja) | ||
FI71322C (fi) | Acylfosfinoxidfoereningar och deras anvaendning | |
CN109689624B (zh) | 过氧化肉桂酸酯衍生物、含有该化合物的聚合性组合物 | |
CA2472063A1 (en) | Process for the production of strongly adherent coatings | |
JP2007506550A5 (ja) | ||
JP5940259B2 (ja) | 感光性組成物 | |
TWI675819B (zh) | 肟基磺酸酯衍生物 | |
WO2008070737A1 (en) | Benzophenone/thioxanthone derivatives and their use in photopolymerizable compositions | |
JP2008545859A (ja) | アミノアクリレートを含む低抽出性放射線硬化性組成物 | |
US11254830B2 (en) | Actinic radiation curable compositions including semiconductor metal oxide materials | |
WO2006038651A1 (ja) | 活性エネルギー線硬化性塗料組成物及び塗膜形成方法 | |
JP2007501110A5 (ja) | ||
DE69828964T2 (de) | Aromatische maleimide und ihre verwendung als photoinitiatoren | |
WO2020067118A1 (ja) | チオキサントン骨格を有するジアルキルペルオキシド、該化合物を含有する重合性組成物 | |
JP2005028209A (ja) | 抗菌性、防かび性を有する硬化皮膜及びその形成方法 | |
JP2007501111A5 (ja) | ||
Jankowska et al. | Novel multi-material photo-curable resins containing high-performance photoinitiating systems and nano additives dedicated to 3D-VAT printing | |
JPS59152922A (ja) | 高エネルギ−線硬化型樹脂組成物 | |
JP2020002240A (ja) | ブロック共重合体、重合性組成物、塗料、コーティング剤、およびシート | |
JPH08277321A (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
TW201343690A (zh) | 活性能量線硬化性組成物、使用其的活性能量線硬化性塗料及活性能量線硬化性印刷墨水 | |
CN113150614A (zh) | 一种可辐射固化喷墨流体、喷涂油墨及其用途 | |
JPH023454A (ja) | 放射線硬化型被覆組成物,ソルダーレジスト並びにメッキレジスト | |
JP2019177661A (ja) | 印刷物 |