JP2020002240A - ブロック共重合体、重合性組成物、塗料、コーティング剤、およびシート - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、添加剤に頼らずに耐候性や防汚性をコーティング剤に付与することが可能な新規な樹脂を提供する。また上記特性に加えて可撓性に優れた塗膜を得るための新規な組成物を提供する。さらに、本発明の組成物を用いて基材上に塗膜を形成したシートを提供する。【解決手段】上記課題は、ブロック(A)が環構造(a)を含み、ブロック(B)がポリシロキサン構造(b)を含むブロック共重合体により解決することができる。【選択図】なし
Description
本発明は、新規な樹脂、およびそれを用いてなる樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、本発明の樹脂およびそれを用いてなる樹脂組成物は、防汚性、耐候性、可撓性に優れた塗膜を形成し、例えば塗料やコーティング剤などの用途において、好適に使用することが可能である。
従来、様々な物の表面を保護や、美観を付与、特殊な機能を付与することなどを目的として様々な塗料やコーティング剤が提案されている。近年では、屋外用途での需要が高まっており、耐候性、耐光性だけでなく美観維持のため防汚性なども重要になっている。そのようなコーティング剤の性能に樹脂が大きく関わっている。
特許2015−229769号公報には、紫外線吸収性樹脂組成物が提案されている。この特許で使用されている樹脂は、特殊な環構造を主鎖に持つポリマーであるが、単独では耐候性に劣るため、紫外線を吸収する置換基をグラフトさせている。さらに耐光性・耐候性の一つの尺度である黄変性に関しては、実施した試験時間内である程度の効果を発揮しているが、近年求められる長期耐候性の観点では不十分である。さらに耐候性の中でも膜が減らないこと(残膜率)が特に重要であるが、該当特許では試験がなされていない。また本特許実施例が示す結果のとおり、耐候性試験における残膜率は悪い。また防汚性に関しての効果は一切記載がない。
また特許2006−257318号公報には、ポリシロキサンを有するマクロマーを共重合した樹脂が提案されているが、単独では耐候性に劣るため、紫外線吸収能を有する無機分散剤を併用している。さらに、効果が証明されている耐候性試験は黄変性だけであり、そのレベルも不十分である。また、ポリシロキサンの一般性能としてある程度の防汚性を有しているが、十分ではない。
国際公開第2017/051922号には、側鎖にポリシロキサンと環構造を有する共重合樹脂が防汚性塗料組成物として提案されている。この特許における防汚性は船舶に対する海中生物の付着防止という極めて限定的なものであり、一般的な汚れを対象としていない。さらに樹脂単独では防汚性が付与できないため、防汚剤を添加している。耐水性などは確認されているが、紫外線(太陽光)劣化に関しての耐候性効果は一切記載がない。
上記の特許が示すように、防汚剤や紫外線吸収剤などの添加剤により、防汚性や耐候性を向上させることは公知の技術であるが、これらはブリードアウトを起こし、塗膜の白化、周辺部材の汚染、ブリードアウト後の急激な物性低下などが起きることが知られている。
よって、樹脂単独で十分な耐候性と防汚性を両立できることが、近年のコーティング剤に
は求められている。
は求められている。
本発明は、上記の現状に鑑みてなされたものであり、添加剤に頼らずに耐候性や防汚性を
コーティング剤に付与することが可能な新規な樹脂を提供する。また上記特性に加えて可
撓性に優れた塗膜を得るための新規な組成物を提供する。さらに、本発明の組成物を用い
て基材上に塗膜を形成したシートを提供する。
コーティング剤に付与することが可能な新規な樹脂を提供する。また上記特性に加えて可
撓性に優れた塗膜を得るための新規な組成物を提供する。さらに、本発明の組成物を用い
て基材上に塗膜を形成したシートを提供する。
本発明者らは、鋭意検討の結果、主鎖がブロック(A)およびブロック(B)を有するブロック共重合体であって、ブロック(A)が環構造を含み、ブロック(B)がポリシロキサン構造を含む新規な樹脂を、樹脂組成物としてコーティングすることにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は、ブロック(A)が環構造(a)を含み、ブロック(B)がポリシロキサン構造(b)を含むブロック共重合体に関する。
また本発明は、環構造(a)が、下記一般式(1)で表される構造であることを特徴とする上記記載のブロック重合体に関する。
一般式(1)
(一般式(1)中、R1は水素原子または炭素数1〜30の有機基、R2は直接結合、メチレン基またはエチレン基、R3は直接結合、メチレン基またはエチレン基、R4は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、カルボキシル基、エステル基またはシアノ基、R5は直接結合、メチレン基またはエチレン基、XおよびYはそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子、Zは直接結合、炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子を示し、X、YおよびZのうちの少なくとも1つの基は互いに隣接しない酸素原子、イオウ原子またはイミノ基である)
一般式(1)
(一般式(1)中、R1は水素原子または炭素数1〜30の有機基、R2は直接結合、メチレン基またはエチレン基、R3は直接結合、メチレン基またはエチレン基、R4は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、カルボキシル基、エステル基またはシアノ基、R5は直接結合、メチレン基またはエチレン基、XおよびYはそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子、Zは直接結合、炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子を示し、X、YおよびZのうちの少なくとも1つの基は互いに隣接しない酸素原子、イオウ原子またはイミノ基である)
また本発明は、ブロック(B)が、下記一般式(2)で表される構造であることを特徴とする上記記載のブロック共重合体に関する。
一般式(2)
(一般式(2)中、R6およびR7はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、酸素原子、アルキル基またはヒドロキシル基を有していても良い炭素数1〜20のアルキレン基であって、さらに、末端以外の任意の位置で、−O−、−S−、−O−(C=O)−、−N−(C=O)−で中断されていてもよく、R6およびR7の少なくとも一方を介してブロック(A)と結合する。nは1〜300の整数である。)
一般式(2)
(一般式(2)中、R6およびR7はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、酸素原子、アルキル基またはヒドロキシル基を有していても良い炭素数1〜20のアルキレン基であって、さらに、末端以外の任意の位置で、−O−、−S−、−O−(C=O)−、−N−(C=O)−で中断されていてもよく、R6およびR7の少なくとも一方を介してブロック(A)と結合する。nは1〜300の整数である。)
また本発明は、上記のブロック共重合体を含む重合組成物に関する。
また本発明は、塗料またはコーティング剤用である、上記重合組成物に関する。
また本発明は、基材上に、上記重合組成物から形成された層を有するシートに関する。
また本発明は、塗料またはコーティング剤用である、上記重合組成物に関する。
また本発明は、基材上に、上記重合組成物から形成された層を有するシートに関する。
本発明の樹脂をコーティング剤用の組成物に使用することにより、添加剤を用いなくとも、耐候性や防汚性に極めて優れた塗膜を提供することができる。
以下に、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において(メタ)アクリレートとはアクリレートおよび/またはメタクリレートを意味し、(メタ)アクリル酸とはアクリル酸および/またはメタクリル酸を意味する。
<ブロック共重合体>
本発明のブロック共重合体は、主鎖が環構造(a)を含むブロック(A)と、主鎖がシロキサン構造(b)を含むブロック(B)を含み、ブロック(A)とブロック(B)を連結してなるブロック共重合体であることを特徴とする。連結方法としては特に制限はないが、ブロック(A)と、一般式(2)で表されるブロック(B)のR6およびR7の少なくとも一方を介し、−O−、−S−、−O−(C=O)−、−N−(C=O)−結合が形成されてなるものである。
本発明のブロック共重合体は、主鎖が環構造(a)を含むブロック(A)と、主鎖がシロキサン構造(b)を含むブロック(B)を含み、ブロック(A)とブロック(B)を連結してなるブロック共重合体であることを特徴とする。連結方法としては特に制限はないが、ブロック(A)と、一般式(2)で表されるブロック(B)のR6およびR7の少なくとも一方を介し、−O−、−S−、−O−(C=O)−、−N−(C=O)−結合が形成されてなるものである。
ブロック(A)とブロック(B)の連結様式としては特に限定されないが、好ましいものとして、ブロック(A)の末端部に導入された連鎖移動剤残基により、一般式(2)で表されるブロック(B)のR6およびR7の少なくとも一方の間でブロック化したABまたはABAブロック構造が挙げられる。また、ブロック(B)のR6およびR7の少なくとも一方に有する連鎖移動剤基からブロック(A)を共重合反応により連結したブロック共重合体(ABおよび/またはABA)が挙げられる。また、一般式(3)で表されるブロック(B)とブロック(A)との共重合反応によりブロック共重合体(AlBm)を得ることもできる。
一般式(3)
(一般式(3)中、nは1〜300の整数、zは1〜20の整数である。)
(一般式(3)中、nは1〜300の整数、zは1〜20の整数である。)
<ブロック(A)>
環構造(a)としては、特に限定されないが、入手性、製造コストや性能の面から下記一般式(1)で表される構造であることが好ましく、更に好ましくは下記一般式(2)で表される構造である。また、主鎖に脂肪族環状構造を有する構成単位(a)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
環構造(a)としては、特に限定されないが、入手性、製造コストや性能の面から下記一般式(1)で表される構造であることが好ましく、更に好ましくは下記一般式(2)で表される構造である。また、主鎖に脂肪族環状構造を有する構成単位(a)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
一般式(1)
(一般式(1)中、R1は水素原子または炭素数1〜30の有機基、R2は直接結合、メチレン基またはエチレン基、R3は直接結合、メチレン基またはエチレン基、R4は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、カルボキシル基、エステル基またはシアノ基、R5は直接結合、メチレン基またはエチレン基、XおよびYはそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子、Zは直接結合、炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子を示し、X、YおよびZのうちの少なくとも1つの基は互いに隣接しない酸素原子、イオウ原子またはイミノ基である)
(一般式(1)中、R1は水素原子または炭素数1〜30の有機基、R2は直接結合、メチレン基またはエチレン基、R3は直接結合、メチレン基またはエチレン基、R4は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、カルボキシル基、エステル基またはシアノ基、R5は直接結合、メチレン基またはエチレン基、XおよびYはそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子、Zは直接結合、炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子を示し、X、YおよびZのうちの少なくとも1つの基は互いに隣接しない酸素原子、イオウ原子またはイミノ基である)
一般式(1)のR1における炭素数1〜30の有機基としては、置換もしくは未置換のアルキル基もしくは置換もしくは未置換のアリール基、不飽和炭化水素基、炭素数2〜30の環状エーテル基等が挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの有機基の水素原子の一部または全部は、炭素数1〜30のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子、またはハロゲン原子で置換された環状エーテル基からなる群より選ばれた少なくとも1種の置換基で置換されていてもよい。
置換もしくは未置換のアルキル基としては、炭素数1から30の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基、または炭素数2から30であり場合により1個以上の−O−で中断されている直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられる。炭素数1から30の直鎖状、分岐鎖状アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、カプリル基、ウンデシル基、ラウリル基、トリデシル基、ミリスチル基、ペンタデシル基、セチル基、ヘプタデシル基、ステアリル基、ノナデシル基、エイコシル基、セリル基、メシリル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、sec−アミル基、tert−アミル基、sec−ヘキシル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、ネオペンチル基、2−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−tert−ブチルシクロヘキシル基、トリシクロデカニル基、イソボルニル基、ジシクロペンタジエニル基、ノルボルニル基、ボロニル基、4−デシルシクロヘキシル基、等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また、炭素数2から30であり場合により−O−の1個以上により中断されている直鎖状、分岐鎖状アルキル基の具体例としては、−CH2−O−CH3、−CH2−CH2−O−CH2−CH3、−CH2−CH2−CH2−O−CH2−CH3、−(CH2−CH2−O)k−CH3(ここでkは1から14である)、−(CH2−CH2−CH2−O)l−CH3(ここでlは1から10である)、−CH2−(O−CH2−CH2)m―O−CH2−CH3(ここでmは1から14である)、−CH2−CH(CH3)−O−CH2−CH3−、−CH2−CH−(OCH3)2等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない
炭素数1〜30の有機基の水素原子の一部または全部は、水酸基およびハロゲン原子からなる群より選ばれた少なくとも1種の置換基で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。具体例としては、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、が挙げられるが、特に限定されるものではない。
不飽和炭化水素基として具体的には、ビニル基、アリル基、メタリル基、クロチル基、プロパギル基などの炭素数2〜30の鎖状不飽和炭化水素基およびその水素原子の一部が炭素数1〜30のアルコキシ基、水酸基またはハロゲン原子で置換された鎖状不飽和炭化水素基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
一般式(1)のR1における置換もしくは未置換のアリール基としては、炭素数6から24の単環または縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基、ジフェニルエチル基、トリフェニルメチル基、シンナミル基アントラニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アンスリル基、9−アンスリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、1−アセナフチル基、2−フルオレニル基、9−フルオレニル基、3−ペリレニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,5−キシリル基、メシチル基、p−クメニル基、p−ドデシルフェニル基、p−シクロヘキシルフェニル基、4−ビフェニル基、o−フルオロフェニル基、m−クロロフェニル基、p−ブロモフェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、m−カルボキシフェニル基、o−メルカプトフェニル基、p−シアノフェニル基、m−ニトロフェニル基、m−アジドフェニル基等が挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
一般式(1)のR1は炭素数2〜30の環状エーテル基およびその水素原子の一部が炭素数1〜30のアルコキシ基、水酸基またはハロゲン原子で置換された環状エーテル基などでもよい。具体的には、グリシジル基、β−メチルグリシジル基、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル基、テトラヒドロフルフリル基、フルフリル基、3−メチル−3−オキセタニルメチル基、3−エチル−3−オキセタニルメチル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ここで、原料入手や共重合の物性などの観点からR1は、炭素数1〜18の置換もしくは未置換のアルキル基(炭素数1〜18の水素原子の一部がアルコキシ基、水酸基に置換されていてもよい)、または、炭素数1〜18のアルコキシ基(炭素数1〜18の水素原子の一部がアルコキシ基、水酸基に置換されていてもよい)が好ましく、より好ましくは炭素数1〜18の置換もしくは未置換のアルキル基(炭素数1〜18の水素原子の一部がアルコキシ基、水酸基に置換されていてもよい)であり、より一層好ましくは、炭素数1〜5の無置換もしくは置換の直鎖アルキル基(炭素数1〜5の水素原子の一部が水酸基に置換されていてもよい)である。
R2は直接結合、メチレン基、エチレン基が挙げられる。ここで、原料入手や共重合の物性などの観点からR2は、直接結合もしくはメチレン基が好ましく、より好ましくはメチレン基である。
R3は直接結合またはメチレン基、エチレン基が挙げられる。ここで、原料入手や共重合の物性などの観点からR3は、直接結合もしくはメチレン基が好ましく、より好ましくは直接結合である。
R4は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、カルボキシル基、エステル基またはシアノ基が挙げられる。ここで、原料入手や共重合の物性などの観点からR4は、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、カルボキシル基、エステル基またはシアノ基が好ましく、より好ましくは水素原子もしくは炭素数1〜4のアルキル基である。
R5は直接結合、メチレン基、エチレン基が挙げられる。ここで、原料入手や共重合の物性などの観点からR5は、直接結合もしくはメチレン基が好ましく、より好ましくはメチレン基である。
XおよびYはそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子が挙げられる、ここで、原料入手や共重合の物性などの観点からは、XおよびYはそれぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、カルボニル基または酸素原子が好ましく、より好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、カルボニル基または酸素原子であり、より一層好ましくは、メチレン基である。
Zは直接結合、炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子が挙げられる。ここで、原料入手や共重合の物性などの観点からは、炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、カルボニル基が好ましい。
X、YおよびZのうちの少なくとも1つの基はたがいに隣接しない酸素原子、イオウ原子またはイミノ基である。ここで、原料入手や共重合の物性などの観点からは、酸素原子が好ましい。
ここで、入手性、製造コストや性能の面から、環構造は、下記一般式(4)で表される構造であることがより好ましい。
一般式(4)
(一般式(4)中、R8は水素原子または炭素数1〜30の置換もしくは未置換のアルキル基を表す。)
(一般式(4)中、R8は水素原子または炭素数1〜30の置換もしくは未置換のアルキル基を表す。)
一般式(4)のR8における、置換もしくは未置換のアルキル基としては、炭素数1から30の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基、または炭素数2から30であり場合により1個以上の−O−で中断されている直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられる。炭素数1から30の直鎖状、分岐鎖状アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、カプリル基、ウンデシル基、ラウリル基、トリデシル基、ミリスチル基、ペンタデシル基、セチル基、ヘプタデシル基、ステアリル基、ノナデシル基、エイコシル基、セリル基、メシリル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、sec−アミル基、tert−アミル基、sec−ヘキシル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、ネオペンチル基、2−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−tert−ブチルシクロヘキシル基、トリシクロデカニル基、イソボルニル基、ジシクロペンタジエニル基、ノルボルニル基、ボロニル基、4−デシルシクロヘキシル基、等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また、炭素数2から30であり場合により−O−の1個以上により中断されている直鎖状、分岐鎖状アルキル基の具体例としては、−CH2−O−CH3、−CH2−CH2−O−CH2−CH3、−CH2−CH2−CH2−O−CH2−CH3、−(CH2−CH2−O)k−CH3(ここでkは1から14である)、−(CH2−CH2−CH2−O)l−CH3(ここでlは1から10である)、−CH2−(O−CH2−CH2)m―O−CH2−CH3(ここでmは1から14である)、−CH2−CH(CH3)−O−CH2−CH3−、−CH2−CH−(OCH3)2等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
R8における置換、未置換のアルキル基として特に好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる、これらに限定されるものではない。
ブロック共重合体における主鎖に環構造を導入する方法としては、特に限定されるものではないが、ジエン構造含有単量体をアクリル重合する事で得る事が可能であり、JP2013−216736記載のメカニズムで重合が進行する。また、必要な物性に応じてその他のアクリル重合性単量体と共重合しても構わない。
ジエン構造含有単量体として、特に限定されるものではないが、入手性、製造コストや性能の面から下記一般式(5)で表される構造であることが好ましく、更に好ましくは、一般式(6)に記載の構造である。
一般式(5)
(一般式(5)中のR1、R4、X、Y、Zは前記と同じである。)
(一般式(5)中のR1、R4、X、Y、Zは前記と同じである。)
一般式(6)
(一般式(6)中のR8は前記と同じである。)
(一般式(6)中のR8は前記と同じである。)
その他の単量体は、ただ1種のみを用いてもよいし、任意の比率で2種以上を使用しても良い。
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート及びアダマンチル(メタ)アクリレート等の直鎖又は分岐アルキル(メタ)アクリレート類;
シクロヘキシル(メタ)アクリレート、tert-ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、及びイソボルニル(メタ)アクリレート等の環状アルキル(メタ)アクリレート類または環状アルケニル(メタ)アクリレート類;
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−アリルオキシプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシ−3−アリルオキシプロピル、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシビニルベンゼン、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、及びこれらモノマーのカプロラクトン付加物(付加モル数は1〜5)等のヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート類;
(2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H−ヘキサフルオロイソプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、2,6−ジブロモ−4−ブチルフェニル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェノール3EO付加(メタ)アクリレート、及びパーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート等のフルオロアルキル(メタ)アクリレート類;
テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジオキソラン(メタ)アクリレート、アクリロイルフルフリル(メタ)アクリレート、2−イソシアナトエチル(メタ)アクリレート変性フルフリルアルコール、2−イソシアナトエチル(メタ)アクリレート変性フルフリルアミン、2―ブロモフランEO付加(メタ)アクリレート、及び3−メチル−3−オキセタニル(メタ)アクリレート等の複素環を有する(メタ)アクリレート類;
ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、パラクミルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、パラクミルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、及びノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等の芳香族環を有する(メタ)アクリレート類;
2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、n−ブトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールメチルエーテル(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール#400(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール#100(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール#1000(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール#4000(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール#200(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルカルビトール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、クレジルポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸−2−(ビニロキシエトキシ)エチル、p−ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、p−ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、β−カルボキシエチル(メタ)アクリレート、コハク酸モノ(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、オクトキシポリエチレングリコールポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコールポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、n−ブトキシエチル(メタ)アクリレート、及び2−エトキシエチル(メタ)アクリレート等のエーテル基を有する(メタ)アクリレート類;
3−(アクリロイルオキシメチル)3−メチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)3−メチルオキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)3−エチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)3−エチルオキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)3−ブチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)3−ブチルオキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)3−ヘキシルオキセタン、及び3−(メタクリロイルオキシメチル)3−ヘキシルオキセタン等のオキセタニル基を有する(メタ)アクリレート類;
スチレン、α−メチルスチレン、p−ヒドロキシスチレン、p−クロロスチレン、p−ブロモスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−t−ブトキシスチレン、p−t−ブトキシカルボニルスチレン、p−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸ビニル、及び(メタ)アクリル酸アリル等のビニル類;
(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、モルホリノエチル(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、及び(メタ)アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミド類;
(メタ)アクリロニトリル等のニトリル類;
エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、及びイソブチルビニルエーテル等のエーテル基を有するビニルエーテル類;
トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、又はテトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート等のフルオロアルキル(メタ)アクリレート類;
2−イソシアネートエチルメタクリレート、2−イソシアネートエチルアクリレート、4−イソシアネートブチルメタクリレート、及び4−イソシアネートブチルアクリレート等のイソシアネート基を有する(メタ)アクリレート類;
イソシアネート基としては、ブロックイソシアネート基も含まれ、使用することができる。ブロックイソシアネート基とは、通常の条件では、イソシアネート基を他の官能基で保護することにより該イソシアネート基の反応性を抑える一方で、加熱により脱保護し、活性なイソシアネート基を再生させることができるイソシアネートブロック体のことを示す。
このようなブロックイソシアネート基を有する(メタ)アクリレート類の市販品としては、例えば、2−[(3,5−ジメチルピラゾリル)カルボキシアミノ]エチルメタクリレート(カレンズMOI−BP,昭和電工社製);メタクリル酸2−(0−[1’メチルプロビリデンアミノ]カルボキシアミノ)エチル(カレンズMOI−BM,昭和電工社製)などが挙げられる。
その他の重合性単量体としては、酢酸ビニル、モノクロロ酢酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバル酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、2−エチルヘキサン酸ビニル、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドンなどが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
本発明ブロック共重合体における主鎖をアクリル重合により作る場合の条件について以下説明する。
本発明の樹脂(A)は既知のラジカル重合法で得ることができる。また、フリーラジカル重合、及びリビングラジカル重合等、公知の方法が使用できる。
リビングラジカル重合法は一般的なラジカル重合に起こる副反応が抑制され、更には、重合の成長が均一に起こる為、容易にブロックポリマーや分子量の整った樹脂を合成できる。
中でも、有機ハロゲン化物、またはハロゲン化スルホニル化合物を開始剤とし、遷移金属錯体を触媒とする原子移動ラジカル重合法は、広範囲の単量体に適応できる点、既存の設備に適応可能な重合温度を採用できる点で好ましい。原子移動ラジカル重合法は、下記の参考文献1〜8等に記載された方法で行うことができる。
(参考文献1)Fukudaら、Prog.Polym.Sci.2004,29,329(参考文献2)Matyjaszewskiら、Chem.Rev.2001,101,2921(参考文献3)Matyjaszewskiら、J.Am.Chem.Soc.1995,117,5614(参考文献4) Macromolecules 1995,28,7901,Science,1996,272,866(参考文献5)WO96/030421(参考文献6)WO97/018247(参考文献7)特開平9−208616号公報(参考文献8)特開平8−41117号公報
重合温度については、用いる重合開始剤の種類や溶媒の沸点に応じて適宜調整することが望ましいが、20℃〜150℃が好ましく、40℃〜120℃がより好ましく、さらに好ましくは、50℃〜100℃である。
反応時間については、用いる重合開始剤や単量体の種類等応じて適宜調整する事が望ましいが、好ましくは2〜30時間、より好ましくは3〜15時間である。
重合を行う環境については、着色低減や重合開始剤の失活などを防ぐ目的で、不活性ガス雰囲気下で行うことが望ましく、入手の容易さ、コストなどの観点から窒素ガスが好ましいが、これらに限定されるものではない。
重合開始剤としては、アゾ系化合物及び有機過酸化物を用いることができる。アゾ系化合物の例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリル)、2,2'−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリック酸)、2,2’−アゾビス(2−ヒドロキシメチルプロピオニトリル)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、ジメチル1,1'−アゾビス(1−シクロヘキサンカーボキシレート)及び2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]等が挙げられるが、これらに限定されない。
有機過酸化物の例としては、過酸化ベンゾイル、t−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ(2−エトキシエチル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルペロオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジラウロキシペロオキサイド、パーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシビバレート、(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、及びジアセチルパーオキシド等が挙げられるが、これらに限定されない。
これらの重合開始剤は、単独で、または2種類以上組み合わせて用いることができ、使用量としては、重合の際用いる単量体全量(合計100重量部)に対して、0.001〜20重量部の範囲で任意に調整することが可能である。
重合の際、分子量を調整する目的で連鎖移動剤を用いてもよい。使用量としては、重合の際用いる単量体全量(合計100重量部)に対して、任意に0.001〜15質量部の連鎖移動剤を使用することができる。
連鎖移動剤としては、既知の連鎖移動剤が使用できる。例えば、オクチルメルカプタン,n−ドデシルメルカプタン,t−ドデシルメルカプタン,n−ヘキサデシルメルカプタン,n−テトラデシルメルカプタン、メルカプトエタノール、1−チオグリセロール、チオグリコール酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸、2-エチルヘキシル−3−メルカプトプロピオネート、n−オクチル−3−メルカプトプロピオネート、メトキシブチル−3−メルカプトプロピオネート、ステアリル−3−メルカプトプロピオネート、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、トリス−[(3−メルカプトプロピオニルオキシ)−エチル]−イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、テトラエチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)、チオリンゴ酸、チオグリコール酸オクチル、3−メルカプトプロピオン酸オクチル、2−メルカプトエタンスルホン酸、ブチルチオグリコレートなどのメルカプタン;ジメチルキサントゲンジスルフィド,ジエチルキサントゲンジスルフィド,ジイソプロピルキサンチゲンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド,テトラエチルチウラムジスルフィド,テトラブチルチウラムジスルフィドなどのジスルフィド;四塩化炭素,塩化メチレン、ブロモホルム、ブロモトリクロロエタン、四臭化炭素,臭化エチレンなどのハロゲン化炭化水素;イソプロパノール、グリセリン等の、第2級アルコール;亜リン酸、次亜リン酸、およびその塩(次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸カリウム等)や、亜硫酸、亜硫酸水素、亜二チオン酸、メタ重亜硫酸、およびそれらの塩(亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、亜二チオン酸ナトリウム、亜二チオン酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム等)等の、低級酸化物およびその塩;ならびにアリルアルコール、2−エチルヘキシルチオグリコレート、α−メチルスチレンダイマー、ターピノーレン、α−テルピネン、γ−テルピネン、ジペンテン、アニソールなどを挙げることができるが、これらに限定されない。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用いられる。
ブロック化を行うためには、官能基を有する連鎖移動剤を使用することが好ましく、メルカプトエタノール、1−チオグリセロール、チオグリコール酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸、チオリンゴ酸、システアミン等の水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の官能基を有する連鎖移動剤の使用が好ましい。
また、重合の際、重合溶媒として有機溶剤を使用することができる。有機溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸n−プロピル、トルエン、キシレン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエトキシジエチレングリコール、及び3−メトキシ−1−ブタノール等が用いられるが、特にこれらに限定されるものではない。これらの重合溶媒は、2種類以上混合して用いても構わない。
<ブロック(B)>
ポリシロキサン構造(b)を有する重合体としては、特に制限されないが、入手性、製造コストや性能の面から一般式(2)で表される構造であることが好ましい。
一般式(2)
(一般式(2)中、R6およびR7はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、酸素原子、アルキル基またはヒドロキシル基を有していても良い炭素数1〜20のアルキレン基であって、さらに、末端以外の任意の位置で、−O−、−S−、−O−(C=O)−、−N−(C=O)−で中断されていてもよく、R6およびR7の少なくとも一方を介してブロック(A)と結合する。nは1〜300の整数である。)
ポリシロキサン構造(b)を有する重合体としては、特に制限されないが、入手性、製造コストや性能の面から一般式(2)で表される構造であることが好ましい。
一般式(2)
(一般式(2)中、R6およびR7はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、酸素原子、アルキル基またはヒドロキシル基を有していても良い炭素数1〜20のアルキレン基であって、さらに、末端以外の任意の位置で、−O−、−S−、−O−(C=O)−、−N−(C=O)−で中断されていてもよく、R6およびR7の少なくとも一方を介してブロック(A)と結合する。nは1〜300の整数である。)
ブロック化を行うためには、一般式(2)中、R6またはR7の少なくとも一方が酸素原子、アルキル基またはヒドロキシル基を有していても良い炭素数1〜20のアルキレン基である。
ブロック化では官能基選択的かつ高反応性な素反応を利用してブロック(A)とブロック(B)を連結する方法が挙げられ、水酸基とエポキシ基の反応、アミノ基とエポキシ基、カルボキシル基とエポキシ基の反応、水酸基と酸無水物の反応、アミノ基と酸無水物の反応などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。その他にもクリックケミストリーに分類される素反応もすべて適応可能である。ブロック(B)の前駆体は、高反応性な官能基として、エポキシ基を有するものがより好ましい。より具体的には、商品名「X−22−173DX」「X−22−163C」(信越シリコーン社製)などのシロキサン類が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
官能基選択的かつ高反応性な素反応を利用したブロック化の方法としては、主鎖の片末端に水酸基またはカルボキシル基を有するブロック(A)と、主鎖の片(または両)末端にエポキシ基を有するブロック(B)とを反応させたブロック共重合体(ABまたはABA)とすることが挙げられる。このように、ブロック化に使用する素反応と官能基末端を有する原料の組み合わせの方法により、種々の方法でブロック化が可能である。
ブロック(B)に、上記の高反応性な官能基とは異なり連鎖移動作能を有する官能基が結合した化合物を使用して、ブロック(A)との共重合によりブロック(A)とブロック(B)のブロック共重合体(ABまたはABA)を得ることもできる。より具体的には「X−22−167C」(信越シリコーン社製)などのメルカプト基を末端に有するなどのシロキサン類が挙げられるが、これに限定されるものではない。
また、下記一般式(3)で表される、ブロック(B)の構造内にアゾ重合性開始剤骨格を有する化合物を使用し、ブロック(A)との共重合により、ブロック共重合体(AlBm)を得ることもできる。
一般式(3)
(一般式(3)中、nは1〜300の整数、zは1〜20の整数である。)
一般式(3)
(一般式(3)中、nは1〜300の整数、zは1〜20の整数である。)
<ブロック共重合体を使用した重合性組成物>
ブロック共重合体は、ラジカル重合系やカチオン重合系の重合性組成物として好適に使用することができ、シートにした際の諸物性を向上させる目的で、重合開始剤、重合性化合物、架橋剤、バインダー樹脂、溶剤、その他の添加剤等を含んでいても構わない。
本発明の重合開始剤について説明する。本発明の重合開始剤としては、活性エネルギー線照射や熱により、重合反応を開始する活性種を発生させる化合物であり、従来公知の重合開始剤を用いることが可能である。
重合反応を開始させる主な活性種としては、ラジカルを発生させるラジカル重合開始剤と、酸を発生させるカチオン重合開始剤が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
活性エネルギー線によりラジカルを発生させる光ラジカル重合開始剤として、具体的には、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルメチルケタール、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン、オリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン]、2−ヒドロキシ−1−[4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニル)ベンジル]フェニル]−2−メチルプロパン−1−オン等のアセトフェノン類;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類;2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン類;その他フェニルグリオキシリックメチルエステル等が挙げられる。より具体的には、イルガキュアー651、イルガキュアー184、ダロキュアー1173、イルガキュアー500、イルガキュアー1000、イルガキュアー2959、イルガキュアー907、イルガキュアー369、イルガキュアー379、イルガキュアー1700、イルガキュアー149、イルガキュアー1800、イルガキュアー1850、イルガキュアー819、イルガキュアー784、イルガキュアー261、イルガキュアーOXE−01(CGI124)、CGI242(BASF社)、アデカオプトマーN1414、アデカオプトマーN1717、アデカオプトマーN1919(ADEKA社)、Esacure1001M(Lamberti社)、特公昭59−1281号公報、特公昭61−9621号公報ならびに特開昭60−60104号公報記載のトリアジン誘導体、特開昭59−1504号公報ならびに特開昭61−243807号公報記載の有機過酸化物、特公昭43−23684号公報、特公昭44−6413号公報、特公昭47−1604号公報ならびにUSP第3567453号明細書記載のジアゾニウム化合物公報、USP第2848328号明細書、USP第2852379号明細書ならびにUSP第2940853号明細書記載の有機アジド化合物、特公昭36−22062号公報、特公昭37−13109号公報、特公昭38−18015号公報ならびに特公昭45−9610号公報記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭55−39162号公報、特開昭59−140203号公報ならびに「マクロモレキュルス(MACROMOLECULES)」、第10巻、第1307頁(1977年)記載のヨードニウム化合物をはじめとする各種オニウム化合物、特開昭59−142205号公報記載のアゾ化合物、特開平1−54440号公報、ヨーロッパ特許第109851号明細書、ヨーロッパ特許第126712号明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス(J.IMAG.SCI.)」、第30巻、第174頁(1986年)記載の金属アレン錯体、特開昭61−151197号公報記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー(COORDINATION CHEMISTRY REVIEW)」、第84巻、第85〜第277頁(1988年)ならびに特開平2−182701号公報記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平3−209477号公報記載のアルミナート錯体、特開平2−157760号公報記載のホウ酸塩化合物、特開昭55−127550号公報ならびに特開昭60−202437号公報記載の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭59−107344号公報記載の有機ハロゲン化合物、特開平5−255347号公報記載のスルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体、特開昭54−99185号公報、特開昭63−264560号公報ならびに特開平10−29977記載のアミノケトン化合物、特開2001−264530号公報、特開2001−261761号公報、特開2000−80068号公報、特開2001−233842号公報、特表2004−534797号公報、特開2006−342166、特開2008−094770、特開2009−40762、特開2010−15025、特開2010−189279、特開2010−189280公報、特表2010−526846、特表2010−527338、特表2010−527339、USP3558309号明細書(1971年)、USP4202697号明細書(1980年)ならびに特開昭61−24558号公報記載のオキシムエステル化合物等が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、アミノケトンに代表されるアセトフェノン類、ホスフィン類、オキシムエステル化合物が挙げられる。
これらは単独または複数の組み合わせで使用することが可能であり、反応硬化物に求める特性に応じて、任意に混合使用が可能であり、これらのラジカル重合開始剤を用いる場合の使用量は、ブロック共重合体を使用した樹脂組成物中の固形分の総量100重量部に対して0.01から100重量部の範囲で含有され、0.1〜50重量部の範囲で含有されるのが好ましい。
熱によりラジカルを発生させる熱ラジカル重合開始剤としては、アゾ熱重合開始剤や有機過酸化物重合開始剤が挙げられる。
アゾ熱重合開始剤としては、具体的には、2,2'− アゾビスイソブチロニトリル、2,2'− アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2'− アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2'− アゾビス(2−メチルプロピオネイト)、2,2'− アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1'− アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]フォルムアミド、2,2'− アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2'− アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)が挙げられ、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
有機過酸化物重合開始剤としては、具体的には、過酸化ベンゾイル(BPO)、過酸化ラウロイル、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−α−クミルパーオキサイド(DCPO)、t−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート、ジ−t−ブチルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン(DDBH)、2,5,−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロペルオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシドなどが挙げられる。また、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
アゾ熱重合開始剤および有機過酸化物重合開始剤の含有量は、ブロック共重合体を使用した樹脂組成物中の固形分の総量100重量部に対して0.01重量部以上10重量部以下、好ましくは0.1重量部以上5重量部以下、より好ましくは1重量部以上3重量部以下が望ましい。
活性エネルギー線照射により酸を発生させる光カチオン重合開始剤としては、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩等があげられ、具体的には、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロボレート等のジアゾニウム塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロボレート、4,4′−ビス[ビス(2−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホニオ]フェニルスルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等のスルホニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のヨードニウム塩等があげられる。中でも、ヨードニウム塩が好ましく用いられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いることができる。
さらに上述の光カチオン重合開始剤としては、より具体的には、アリールジアゾニウム塩(例えば、P−33(旭電化工業社製))、アリールヨードニウム塩(例えば、FC−509(3M社製))、アリールスルホニウム塩(サイラキュアUVI−6974、UVI−6970、UVI−6990、UVI−6950(ユニオン・カーバイド社製)、SP−150、SP−170(旭電化工業社製))、アレン−イオン錯体(例えば、CG−24−61(チバガイギー社製))等が挙げられる。
上述の光カチオン重合開始剤の含有量は、ブロック共重合体を使用した樹脂組成物中の固形分の総量100重量部に対して、好ましくは0.1〜10重量部、特に好ましくは1〜5重量部である。
熱により酸を発生させる熱カチオン重合開始剤として、具体的には、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート、トリ−p−トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、トリ−p−トリルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(tert−ブチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(p−トルエンスルホニル)ジアゾメタン、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニル−4−メチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニル−2,4,6−トリメチルフェニルスルホニウム−p−トルエンスルホナート、ジフェニル−p−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスファートなどが挙げられる。
さらに上記の熱カチオン重合開始剤の具体的な製品名としては、例えば、ジアゾニウム塩タイプ:AMERICUREシリーズ(アメリカン・キャン社製)、ULTRASETシリーズ(アデカ社製)、WPAGシリーズ(和光純薬社製)ヨードニウム塩タイプ:UVEシリーズ(ゼネラル・エレクトリック社製)、FCシリーズ(3M社製)、UV9310C(GE東芝シリコーン社製)、WPIシリーズ(和光純薬社製)スルホニウム塩タイプ:CYRACUREシリーズ(ユニオンカーバイド社製)、UVIシリーズ(ゼネラル・エレクトリック社製)、FCシリーズ(3M社製)、CDシリーズ(サートマー社製)、オプトマーSPシリーズ、オプトマーCPシリーズ(アデカ社製)、サンエイドSIシリーズ(三新化学工業社製)、CIシリーズ(日本曹達社製)、WPAGシリーズ(和光純薬社製)、CPIシリーズ(サンアプロ社製)などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
熱カチオン重合開始剤の含有量は、ブロック共重合体を使用した樹脂組成物中の固形分の総量100重量部に対して、好ましくは0.1〜20重量部、特に好ましくは1〜5重量部である。0.1部未満であると硬化が不十分であり、20部より多い場合、熱カチオン重合開始剤由来の着色や他の諸物性の低下を招く。
上述したラジカル重合開始剤とカチオン重合開始剤は併用することが可能である。
本発明の重合性化合物について説明する。本発明の重合性化合物としては、反応に伴う硬化性を向上させるためにラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物を使用することができ、これらは任意に組み合わせて使用することが可能である。
本発明におけるラジカル重合性化合物とは、分子中にラジカル重合可能な骨格を少なくとも一つ以上を有する化合物を意味する。また、これらは、いずれも常温、常圧で液体ないし固体のモノマー、オリゴマーないしポリマーの化学形態を持つものである。
このようなラジカル重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸およびそれらの塩、エステル、酸アミドや酸無水物が挙げられ、さらには、ウレタンアクリレート、アクリロニトリル、スチレン誘導体、種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウレタン等があげられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下に、本発明におけるラジカル重合性化合物の具体例を挙げる。
アクリレート類の例:単官能アルキルアクリレート類の例:メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、イソアミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート。
単官能含ヒドロキシアクリレート類の例:2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−アリルオキシプロピルアクリレート、アクリル酸−2−ヒドロキシ−3−アリルオキシプロピル、2−アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート。
単官能含ハロゲンアクリレート類の例:2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート、1H−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルアクリレート、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、2,6−ジブロモ−4−ブチルフェニルアクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチルアクリレート、2,4,6−トリブロモフェノール3EO付加アクリレート。
単官能含エーテル基アクリレート類の例:2−メトキシエチルアクリレート、1,3−ブチレングリコールメチルエーテルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコール#400アクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メトキシトリプロピレングリコールアクリレート、メトキシポリプロピレングリコールアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、クレジルポリエチレングリコールアクリレート、アクリル酸−2−(ビニロキシエトキシ)エチル、p−ノニルフェノキシエチルアクリレート、p−ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、グリシジルアクリレート。
単官能含カルボキシルアクリレート類の例: β−カルボキシエチルアクリレート、コハク酸モノアクリロイルオキシエチルエステル、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、2−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート。
その他の単官能アクリレート類の例:N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリレート、モルホリノエチルアクリレート、トリメチルシロキシエチルアクリレート、ジフェニル−2−アクリロイルオキシエチルホスフェート、2−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラクトン変性−2−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、2−ヒドロキシ−1−アクリロキシ−3−メタクリロキシプロパン。
二官能アクリレート類の例:1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール#200ジアクリレート、ポリエチレングリコール#300ジアクリレート、ポリエチレングリコール#400ジアクリレート、ポリエチレングリコール#600ジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコール#400ジアクリレート、ポリプロピレングリコール#700ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールビス(2−ヒドロキシ−3−アクリロイルオキシプロピル)エーテル、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、1,9−ノナンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノベンゾエート、ビスフェノールAジアクリレート、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、PO変性ビスフェノールAジアクリレート、水素化ビスフェノールAジアクリレート、EO変性水素化ビスフェノールAジアクリレート、PO変性水素化ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールFジアクリレート、EO変性ビスフェノールFジアクリレート、PO変性ビスフェノールFジアクリレート、EO変性テトラブロモビスフェノールAジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン。
三官能アクリレート類の例:グリセリンPO変性トリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ε−カプロラクトン変性トリアクリレート、1,3,5−トリアクリロイルヘキサヒドロ−s−トリアジン、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレートトリプロピオネート。
四官能以上のアクリレート類の例:ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルテトラアクリレート、トリス(アクリロイルオキシ)ホスフェート。
メタクリレート類の例:単官能アルキルメタクリレート類の例:メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソアミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、2−ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、デシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート。
単官能含ヒドロキシメタクリレート類の例:2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−アリルオキシプロピルメタクリレート、2−メタクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート。
単官能含ハロゲンメタクリレート類の例:2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルメタクリレート、1H−ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、2,6−ジブロモ−4−ブチルフェニルメタクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチルメタクリレート、2,4,6−トリブロモフェノール3EO付加メタクリレート。
単官能含エーテル基メタクリレート類の例:2−メトキシエチルメタクリレート、1,3−ブチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール#400メタクリレート、メトキシジプロピレングリコールメタクリレート、メトキシトリプロピレングリコールメタクリレート、メトキシポリプロピレングリコールメタクリレート、メタクリル酸−2−(ビニロキシエトキシ)エチル、エトキシジエチレングリコールメタクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、クレジルポリエチレングリコールメタクリレート、p−ノニルフェノキシエチルメタクリレート、p−ノニルフェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、グリシジルメタクリレート。
単官能含カルボキシルメタクリレート類の例:β−カルボキシエチルメタクリレート、コハク酸モノメタクリロイルオキシエチルエステル、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノメタクリレート、2−メタクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2−メタクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2−メタクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2−メタクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート。
その他の単官能メタクリレート類の例:ジメチルアミノメチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、モルホリノエチルメタクリレート、トリメチルシロキシエチルメタクリレート、ジフェニル−2−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、2−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラクトン変性−2−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート等。
二官能メタクリレート類の例:1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコール#200ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#300ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#400ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#600ジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコール#400ジメタクリレート、ポリプロピレングリコール#700ジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールビス(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプロピル)エーテル、1,9−ノナンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモノベンゾエート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ビスフェノールAジメタクリレート、EO変性ビスフェノールAジメタクリレート、PO変性ビスフェノールAジメタクリレート、水素化ビスフェノールAジメタクリレート、EO変性水素化ビスフェノールAジメタクリレート、PO変性水素化ビスフェノールAジメタクリレート、ビスフェノールFジメタクリレート、EO変性ビスフェノールFジメタクリレート、PO変性ビスフェノールFジメタクリレート、EO変性テトラブロモビスフェノールAジメタクリレート、トリシクロデカンジメチロールジメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジメタクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジメタクリロキシプロパン。
三官能メタクリレート類の例:グリセリンPO変性トリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリメタクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性ε−カプロラクトン変性トリメタクリレート、1,3,5−トリメタクリロイルヘキサヒドロ−s−トリアジン、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレートトリプロピオネート。
四官能以上のメタクリレート類の例:ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、オリゴエステルテトラメタクリレート、トリス(メタクリロイルオキシ)ホスフェート
アリレート類の例:アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、イソシアヌル酸トリアリレート。
酸アミド類の例:アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、メタクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、ジアセトンメタクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルメタクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド、メタクリロイルモルホリン。
スチレン類の例:スチレン、p−ヒドロキシスチレン、p−クロロスチレン、p−ブロモスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−t−ブトキシスチレン、p−t−ブトキシカルボニルスチレン、p−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン。
他のビニル化合物の例:酢酸ビニル、モノクロロ酢酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバル酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、アジピン酸ジビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、2−エチルヘキサン酸ビニル、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン等。
上記のラジカル重合性化合物は、以下に示すメーカーの市販品として、容易に入手することができる。例えば、共栄社油脂化学工業(株)社製の「ライトアクリレート」、「ライトエステル」、「エポキシエステル」、「ウレタンアクリレート」および「高機能性オリゴマー」シリーズ、新中村化学(株)社製の「NKエステル」および「NKオリゴ」シリーズ、日立化成工業(株)社製の「ファンクリル」シリーズ、東亞合成化学(株)社製の「アロニックスM」シリーズ、大八化学工業(株)社製の「機能性モノマー」シリーズ、大阪有機化学工業(株)社製の「特殊アクリルモノマー」シリーズ、三菱レイヨン(株)社製の「アクリエステル」および「ダイヤビームオリゴマー」シリーズ、日本化薬(株)社製の「カヤラッド」および「カヤマー」シリーズ、(株)日本触媒社製の「アクリル酸/メタクリル酸エステルモノマー」シリーズ、日本合成化学工業(株)社製の「NICHIGO−UV紫光ウレタンアクリレートオリゴマー」シリーズ、信越酢酸ビニル(株)社製の「カルボン酸ビニルエステルモノマー」シリーズ、(株)興人社製の「機能性モノマー」シリーズ等が挙げられる。
また以下に示す環状化合物もラジカル重合性化合物として挙げられる。三員環化合物の例:ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.)、第17巻、3169頁(1979年)記載のビニルシクロプロパン類、マクロモレキュラー・ケミー・ラピッド・コミュニケーション(Makromol.Chem.Rapid Commun.)、第5巻、63頁(1984年)記載の1−フェニル−2−ビニルシクロプロパン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.)、第23巻、1931頁(1985年)およびジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.)、第21巻、4331頁(1983年)記載の2−フェニル−3−ビニルオキシラン類、日本化学会第50春期年会講演予稿集、1564頁(1985年)記載の2,3−ジビニルオキシラン類。
環状ケテンアセタール類の例:ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.)、第20巻、3021頁(1982年)およびジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.)、第21巻、373頁(1983年)記載の2−メチレン−1,3−ジオキセパン、ポリマー・プレプレプリント(Polym.Preprints)、第34巻、152頁(1985年)記載のジオキソラン類、ジャーナル・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・レター・エディション(J.Polym.Sci.Polym.Lett.Ed.)、第20巻、361頁(1982年)、マクロモレキュラー・ケミー(Makromol.Chem.)、第183巻、1913頁(1982年)およびマクロモレキュラー・ケミー(Makromol.Chem.)、第186巻、1543頁(1985年)記載の2−メチレン−4−フェニル−1,3−ジオキセパン、マクロモレキュルズ(Macromolecules)、第15巻、1711頁(1982年)記載の4,7−ジメチル−2−メチレン−1,3−ジオキセパン、ポリマー・プレプレプリント(Polym.Preprints)、第34巻、154頁(1985年)記載の5,6−ベンゾ−2−メチレン−1,3−ジオセパン。
さらに、ラジカル重合性化合物は、以下に示す文献に記載のものも挙げることができる。例えば、山下晋三ら編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年、大成社)や加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」、(1985年、高分子刊行会)、ラドテック研究会編、赤松清編、「新・感光性樹脂の実際技術」、(1987年、シーエムシー)、遠藤剛編、「熱硬化性高分子の精密化」、(1986年、シーエムシー)、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)、ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、(2002年、シーエムシー)が挙げられる。
本発明のラジカル重合性化合物は、ただ一種のみ用いても、所望とする特性を向上するために任意の比率で二種以上混合したものを用いても構わない。
本発明の重合性組成物に含有されるラジカル重合性化合物には、上記モノマー以外にオリゴマー、プレポリマーと呼ばれるものを使用できる。具体的には、ダイセルUCB社製「Ebecryl230、244、245、270、280/15IB、284、285、4830、4835、4858、4883、8402、8803、8800、254、264、265、294/35HD、1259、1264、4866、9260、8210、1290.1290K、5129、2000、2001、2002、2100、KRM7222、KRM7735、4842、210、215、4827、4849、6700、6700−20T、204、205、6602、220、4450、770、IRR567、81、84、83、80、657、800、805、808、810、812、1657、1810、IRR302、450、670、830、835、870、1830、1870、2870、IRR267、813、IRR483、811、436、438、446、505、524、525、554W、584、586、745、767、1701、1755、740/40TP、600、601、604、605、607、608、609、600/25TO、616、645、648、860、1606、1608、1629、1940、2958、2959、3200、3201、3404、3411、3412、3415、3500、3502、3600、3603、3604、3605、3608、3700、3700−20H、3700−20T、3700−25R、3701、3701−20T、3703、3702、RDX63182、6040、IRR419」、サートマー社製「CN104、CN120、CN124、CN136、CN151、CN2270、CN2271E、CN435、CN454、CN970、CN971、CN972、CN9782、CN981、CN9893、CN991」、BASF社製「Laromer EA81、LR8713、LR8765、LR8986、PE56F、PE44F、LR8800、PE46T、LR8907、PO43F、PO77F、PE55F、LR8967、LR8981、LR8982、LR8992、LR9004、LR8956、LR8985、LR8987、UP35D、UA19T、LR9005、PO83F、PO33F、PO84F、PO94F、LR8863、LR8869、LR8889、LR8997、LR8996、LR9013、LR9019、PO9026V、PE9027V」、コグニス社製「フォトマー3005、3015、3016、3072、3982、3215、5010、5429、5430、5432、5662、5806、5930、6008、6010、6019、6184、6210、6217、6230、6891、6892、6893−20R、6363、6572、3660」、根上工業社製「アートレジンUN−9000HP、9000PEP、9200A、7600、5200、1003、1255、3320HA、3320HB、3320HC、3320HS、901T、1200TPK、6060PTM、6060P」、日本合成化学社製「紫光UV−6630B、7000B、7510B、7461TE、3000B、3200B、3210EA、3310B、3500BA、3520TL、3700B、6100B、6640B、1400B、1700B、6300B、7550B、7605B、7610B、7620EA、7630B、7640B、2000B、2010B、2250EA、2750B」、日本化薬社製「カヤラッドR−280、R−146、R131、R−205、EX2320,R190、R130、R−300,C−0011、TCR−1234、ZFR−1122、UX−2201,UX−2301,UX3204、UX−3301、UX−4101,UX−6101、UX−7101、MAX−5101、MAX−5100,MAX−3510、UX−4101」等が挙げられる。
本発明におけるカチオン重合性化合物とは、活性エネルギー線照射または熱により発生する酸触媒の作用により、重合もしくは架橋反応によって高分子量物質に変換可能な化合物を意味し、以下に表す化合物またはそれらの混合物がこれに含まれる。
典型的な例として、ホルムアルデヒドプレカーサーとしてのメチロール基、あるいは置換されたメチロール基を有する化合物として、下記一般式(7)で表される構造の化合物が挙げられる。
一般式(7)
(ただし、一般式(7)中、Aは、GまたはG−J−Gで示される基であり、Gは置換もしくは非置換のアリーレン基、または酸素、硫黄、窒素含有の複素環基を意味する。Jは単結合、または炭素原子数1〜4の置換もしくは未置換のアルキレン基、置換もしくは未置換のアリーレン基、アリールアルキレン基、もしくは−O−、−S−、−SO2−、−CO−、−COO−、−OCOO−、−CONH−、−SO2−O−およびこれらの結合を一部に有するような置換基を有しても良いアルキレン基を意味する。またAはフェノール樹脂のような重合体であってもよい。Q及びQ’は、互いに独立して、水素、炭素原子数1〜4のアルキル基、シクロアルキル基、置換基を有しても良いアリール基、またはアシル基を意味する。rは1〜3の整数、sは0〜3の整数である。)
ここで、一般式(7)のGないしJで表される、置換もしくは非置換のアリーレン基としては、o−フェニレン基、m−フェニレン基、p−フェニレン基、4−メチル−1,2−フェニレン基、4−クロロ−1,2−フェニレン基、4−ヒドロキシ−1,2−フェニレン基、2−メチル−1,4−フェニレン基、p,p’−ビフェニリレン基、1,2−ナフチレン基、9,10−アンスリレン基、2,7−フェナンスリレン基等が挙げられる。
酸素、硫黄、窒素含有の複素環基としては、2,5−フリレン基、2,5−チエニレン基、2,4−オキサゾリレン基、2,4−チアゾリレン基、2,5−ベンゾフリレン基、2,5−ベンゾチエニレン基、2,6−ピリジレン基、5,8−キノリレン基等が挙げられる。
炭素原子数1〜4の置換もしくは未置換のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、プロピレン基、エチルメチレン基、クロロメチレン基、ジメチルメチレン基、ビス(トリフルオロメチル)メチレン基等が挙げられる。
アリールアルキレン基としては、ベンジリデン基、p−トリルメチレン基、2−ナフチルメチレン基等が挙げられる。
さらに、−O−、−S−、−SO2−、−CO−、−COO−、−OCOO−、−CONH−、−SO2−O−結合を一部に有するような置換基を有しても良いアルキレン基としては、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、プロピレンジオキシ基、ジエチレンジオキシ基、トリエチレンジオキシ基、メチレンジチオ基、エチレンジチオ基、プロピレンジチオ基、ジエチレンジチオ基、トリエチレンジチオ基、メチレンジスルホニル基、エチレンジスルホニル基、マロニル基、スクシニル基、グルタリル基、アジポイル基、−OOC−CH2−COO−基、−OOC−(CH2)2−COO−基、−CH2−OCOO−CH2−基、−CH2−(OCOO−CH2)2−基等が挙げられる。
また、一般式(7)のQおよびQ’で表される炭素原子数1から4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられる。
シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
置換基を有しても良いアリール基としては、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、p−メトキシフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、p−シアノフェニル基、p−ニトロフェニル基、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、p−フルオロフェニル基、p−クロロフェニル基、p−ジメチルアミノフェニル基、p−フェニルチオフェニル基等が、アリールアルキル基としては、ベンジル基、2−ナフチルメチル基、9−アンスリルメチル基、フェニチル基、スチリル基、シンナミル基等が挙げられる。
アシル基としては、アセチル基、ヘキサノイル基、ベンゾイル基、シクロヘキサノイル基、メトキサリル基、サリチロイル基等が挙げられる。
このようなカチオン重合性化合物の具体例としては、様々なアミノプラスト類またはフェノプラスト類、すなわち尿素−ホルムアルデヒド、メラミン−ホルムアルデヒド、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド、グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂やそれらの単量体、もしくはオリゴマーがある。これらは、塗料用のベヒクル等の用途に多くのものが市販されている。例えば、アメリカンサイアナミッド社が製造するCymel(登録商標)300、301、303、350、370、380、1116、1130、1123、1125、1170等、あるいは三和ケミカル社製ニカラック(登録商標)Mw30、Mw30M、Mw30HM、Mx45、Bx4000等のシリーズをその典型例としてあげることができる。これらは1種類でも2種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、別のカチオン重合性化合物の具体例としては、ホルムアルデヒドプレカーサーとなり得るようなメチロール化またはアルコキシジメチル化されたフェノール誘導体がある。これらは単量体として用いても、レゾール樹脂、ベンジルエーテル樹脂のように樹脂化されたものを用いてもよい。
さらに、カチオン重合性化合物の別な系統として、シラノール基を有する化合物、例えば特開平2−154266号公報、特開平2−173647号公報に開示されている化合物を挙げることができる。
また、ポリエンとポリチオールの混合物、例えばポリエンとして、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルマレエート、ジアリルカーボネート、トリアリルイソシアヌレート、ポリイソシアネートとアリルアルコールから製造されるウレタン系ポリエン(例えばヘキサメチレンジイソシアネートとアリルアルコールの重縮合反応によって得られるウレタン化合物など)などから選択される化合物と、例えばポリチオールとして、トリメチロールプロパントリチオールグリコレート、ペンタエリスリトール−テトラ−3−メルカプトプロピオネートなどから選択される化合物との混合物も、カチオン重合性化合物として例表することができる。
また、以下に表すアルコキシシラン類もカチオン重合性化合物として挙げることができる。具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類や、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等のアルコキシシリル基を有する化合物、さらに詳しくは、東レ・ダウコーニング社製品カタログ、59頁もしくは、信越シリコーンシランカップリング剤製品カタログ(昭和62年9月発行)記載の「シランカップリング剤」、あるいは東レ・ダウコーニング社製品カタログ、61頁もしくは、東芝シリコーン社総合カタログ、27頁(1986年4月発行)記載の「シラン化合物」として業界で知られるアルコキシシリル基を有する化合物が、アルコキシシラン類としてあげることができる。
さらに、カチオン重合性化合物として、カチオン重合可能な化合物あるいはその混合物をあげることができる。ここでいうカチオン重合可能な化合物とは、例えば、エポキシ化合物、オキセタン化合物、スチレン類、ビニル化合物、ビニルエーテル類、スピロオルソエステル類、ビシクロオルソエステル類、スピロオルソカーボナート類、環状エーテル類、ラクトン類、オキサゾリン類、アジリジン類、シクロシロキサン類、ケタール類、環状酸無水物類、ラクタム類およびアリールジアルデヒド類、エピスルフィド基、エチレンイミン基、水酸基などがあげられる。また、これらの重合性基を測鎖に有するアクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ポリエーテル系、天然ゴム、ブロック共重合体ゴム、シリコーン系に代表される、重合性あるいは架橋性ポリマーおよびオリゴマーもカチオン重合性化合物に含まれる。
まず、エポキシ化合物としては、従来、公知の芳香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、更にはエポキシド単量体、エピサルファイト単量体類グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、異節環状型エポキシ樹脂、多官能性エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂などのアルコール型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂などのハロゲン化エポキシ樹脂、ゴム変成エポキシ樹脂、ウレタン変成エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、エポキシ基含有ポリエステル樹脂、エポキシ基含有ポリウレタン樹脂、エポキシ基含有アクリル樹脂等があげられる。芳香族エポキシ化合物の例としては、フェニルグリシジルエーテルなどの単官能エポキシ化合物や、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノールまたはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジルエーテルであって、例えばビスフェノールA、テトラブロモビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等のビスフェノール化合物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル等が挙げられる。エポキシ基を有する化合物としては、これらのエポキシ樹脂は常温で液体であっても良いし、固体であっても良い。また、エポキシ基含有オリゴマーも好適に用いることができ、例えば、ビスフェノールA型エポキシオリゴマー(例えば、油化シェルエポキシ社製、エピコート1001、1002等)を挙げることができる。さらに、上記エポキシ基含有モノマーやオリゴマーの付加重合体を用いてもよく、例えば、グリシジル化ポリエステル、グリシジル化ポリウレタン、グリシジル化アクリル等を挙げることができる。
なかでも、カチオン重合性がより高いことから、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が好適に用いられる。これらのエポキシ基を有する化合物は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。
脂環式エポキシ樹脂の具体例としては、例えば、1,2:8,9−ジエポキシリモネン、4−ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、メチル化ビニルシクロヘキセンジオキサイド、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、ノルボルネンモノエポキサイド、リモネンモノエポキサイド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチレン)アジペート、ビス−(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、(2,3−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、ジシクロペンタジエンジオキサイド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロヘキシル]ヘキサフルオロプロパン、BHPE−3150(ダイセル化学工業(株)製、脂環式エポキシ樹脂(軟化点71℃)等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
脂肪族エポキシ樹脂の具体例としては、例えば1,4−ブタンジオールジクリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグルコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグルコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グルセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
オキセタン化合物の具体例としては、例えば、フェノキシメチルオキセタン、3,3−ビス(メトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フェノキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテル、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン、1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
スチレン類としては、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロメチルスチレン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ビニル化合物としては、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ビニルエーテル類としては、例えばn−(またはiso−、t−)ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、1,4ブタンジオールジビニルエーテル、エチレングリゴールジビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルグリコール、ネオペンチルグリコールモノビニルグリコール、グリセロールジビニルエーテル、グリセロールトリビニルエーテル、トリメチロールプロパンモノビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル2,2−ビス(4−シクロヘキサノール)プロパンジビニルエーテル、2,2−ビス(4−シクロヘキサノール)トリフルオロプロパンジビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテル類、アリルビニルエーテルなどのアルケニルビニルエーテル類、エチニルビニルエーテル、1−メチル−2−プロペニルビニルエーテルなどのアルキニルビニルエーテル類、4−ビニルエーテルスチレン、ハイドロキノンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、テトラブロモビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、フェノキシエチレンビニルエーテル、p−ブロモフェノキシエチレンビニルエーテルなどのアリールビニルエーテル類、1,4−ベンゼンジメタノールジビニルエーテル、N−m−クロロフェニルジエタノールアミンジビニルエーテル、m−フェニレンビス(エチレングリコール)ジビニルエーテル等のアラルキルジビニルエ一テル類、ウレタンポリビニルエーテル(例えば、ALLIED−SIGNAL社製、VECtomer2010)等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
スピロオルソエステル類としては、1,4,6−トリオキサスピロ[4.4]ノナン、2−メチル−1,4,6−トリオキサスピロ[4.4]ノナン、1,4,6−トリオキサスピロ[4.5]デカンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ビシクロオルソエステル類としては、1−フェニル−4−エチル−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン、1−エチル−4−ヒドロキシメチル−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
スピロオルソカーボナート類としては、1,5,7,11−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ジベンジル−1,5,7,11−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン等のような環状エ一テル類等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
環状エーテル類としては、オキセタン、フェニルオキセタンなどのオキセタン類、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフランなどのテトラヒドロフラン類、テトラヒドロピラン、3−プロピルテトラヒドロピランなどのテトラヒドロピラン類およびトリメチレンオキサイド、s−トリオキサンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ラクトン類としては、β−プロピオラクトン、γ−ブチルラクトン、δ−カプロラクトン、δ−バレロラクトンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
オキサゾリン類としては、オキサゾリン、2−フェニルオキサゾリン、2−デシルオキサゾリン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
アジリジン類としては、アジリジン、N−エチルアジリジンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
シクロシロキサン類としては、ヘキサメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、トリフェニルトリメチルシクロトリシロキサンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ケタール類としては、1,3−ジオキソラン、1,3−ジオキサン、2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン、2−フェニル−1,3−ジオキサン、2,2−ジオクチル−1,3−ジオキソラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
環状酸無水物類としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸などが、ラクタム類としてはβ−プロピオラクタム、γ−ブチロラクタム、δ−カプロラクタムなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
アリールジアルデヒド類としては1,2−ベンゼンジカルボキシアルデヒド、1,2−ナフタレンジアルデヒド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上記カチオン重合性化合物は、単独で用いられてもよく、2種以上併用されてもよい。上記カチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル類が好ましい。特に好ましくは、エポキシ化合物、オキセタン化合物である。エポキシ化合物、オキセタン化合物の重合は比較的反応性が高く、かつ硬化時間が短いため、硬化工程の短縮を図ることができる。
また、上述した通り、単独または2種以上のラジカル重合性化合物と任意に併用することが可能である。
上記のラジカル重合性化合物やカチオン重合性化合物を含む重合性化合物の使用量は、ブロック共重合体100重量部に対して、1〜300重量部が好ましく、より好ましくは5〜150重量部であり、さらに好ましくは10〜100重量部である。
また、本発明の重合性組成物は増感剤を用いなくとも十分な感度を有しているが、さらなる感度向上や、反応硬化後の膜特性を向上させる目的で、増感剤を併用することが可能である。
本発明の重合性組成物と混合して併用可能な増感剤としては、ベンゾフェノン誘導体、カルコン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン誘導体、ベンジルやカンファーキノンなどに代表される1,2−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ−ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体などが挙げられ、その他さらに具体例には大河原信ら編、「色素ハンドブック」(1986年、講談社)、大河原信ら編、「機能性色素の化学」(1981年、シーエムシー)、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」(1986年、シーエムシー)に記載の色素および増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではなく、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収を示す色素や増感剤が挙げられ、これらは必要に応じて任意の比率で二種以上用いてもかまわない。上記、増感剤の中でチオキサントン誘導体としては、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン等を挙げることができ、ベンゾフェノン類としては、ベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4,4’−ジメチルベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等を挙げることができ、クマリン類としては、クマリン1、クマリン338、クマリン102等を挙げることができ、ケトクマリン類としては、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
本発明の増感剤の使用量は、重合開始剤100重量部に対して、0.01〜100重量部の範囲が好ましく、さらに0.1〜50重量部の範囲がより好ましい。
本発明に使用可能な架橋剤は、主としてブロック共重合体に導入された架橋性基同士を反応させるものであり、架橋剤としてはイソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、メラミン系架橋剤、アルデヒド系架橋剤、アミン系架橋剤、金属キレート系架橋剤が挙げられる。また、山下晋三ら編「架橋剤ハンドブック」(大成社、1981年)などに記載の架橋剤、架橋反応を利用することが可能である。これらの中でも、基材との密着性を向上させる点やブロック共重合体との反応性の点で、イソシアネート系架橋剤が好適に用いられる。
上記イソシアネート系、架橋剤としては例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、水素化トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、およびこれらのポリイソシアネート化合物とトリメチロールプロパン等のポリオール化合物とのアダクト体、これらポリイソシアネート化合物のビュレット体やイソシアヌレート体等が挙げられる。
上記エポキシ系架橋剤としては、例えば、ビスフェノールA・エピクロルヒドリン型のエポキシ樹脂、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエリスリトール、ジグリセロールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
上記アジリジン系架橋剤としては、例えば、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、N,N′−ジフェニルメタン−4,4′−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)、N,N′−ヘキサメチレン−1,6−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)等が挙げられる。
上記メラミン系架橋剤としては、例えば、へキサメトキシメチルメラミン、ヘキサエトキシメチルメラミン、ヘキサプロポキシメチルメラミン、ヘキサプトキシメチルメラミン、ヘキサペンチルオキシメチルメラミン、ヘキサヘキシルオキシメチルメラミン、メラミン樹脂等が挙げられる。
上記アルデヒド系架橋剤としては、例えば、グリオキザール、マロンジアルデヒド、スクシンジアルデヒド、マレインジアルデヒド、グルタルジアルデヒド、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド等が挙げられる。
上記アミン系架橋剤としては、例えば、ヘキサメチレンジアミン、トリエチルジアミン、ポリエチレンイミン、ヘキサメチレンテトラアミン、ジエチレントリアミン、トリエチルテトラアミン、イソフォロンジアミン、アミノ樹脂、ポリアミド等が挙げられる。
上記金属キレート系架橋剤としては、例えば、アルミニウム、鉄、銅、亜鉛、スズ、チタン、ニッケル、アンチモン、マグネシウム、パナジウム、クロム、ジルコニウム等の多価金属のアセチルアセトンやアセトアセチルエステル配位化合物等が挙げられる。
また、これらの架橋剤は、単独で使用しても良いし、2種以上を併用してもよい。
上記架橋剤の含有量は、通常は、ブロック共重合体100重量部に対して、0.01〜10重量部であることが好ましく、さらに好ましくは0.05〜5重量部、特に好ましくは0.1〜2重量部である。架橋剤が少なすぎると、凝集力が不足し、充分な耐久性が得られない傾向がみられ、多すぎると柔軟性、および粘着力が低下し、耐久性が低下し、剥離が起こりやすくなるため光学部材としての使用が困難となる傾向がみられる。
本発明の重合性組成物は、成膜性やシートとしての諸物性を高めるため有機高分子重合体樹脂等のバインダーと混合し、ガラス板やアルミニウム板、その他の金属板、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン等の樹脂フィルムに塗布して使用することが可能である。
さらに本発明の重合性組成物と混合して使用可能なバインダーとしては、ポリ(メタ)アクリレート類、ポリ−α−アルキルアクリレート類、ポリアミド類、ポリビニルアセタール類、ポリホルムアルデヒド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビニルエステル類、ポリエステル類、ポリ塩化ビニル、ポリエポキシ類、セルロース誘導体(例えば、エチルセルロース、酢酸セルロース、ニトロセルロース)、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ポリアマイド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体などの重合体、共重合体樹脂、合成ゴム等が挙げられ、さらに具体的には、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセテート、ノボラック樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂その他、赤松清監修、「新・感光性樹脂の実際技術」、(シーエムシー、1987年)や「10188の化学商品」、657〜767頁(化学工業日報社、1988年)記載の業界公知の有機高分子重合体が挙げられる。
本発明に使用可能な溶媒としては、特に限定されず、水または有機溶媒が使用可能であるが、樹脂との相溶性の観点から有機溶媒が好ましい。具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、ペンタノール、3−メチル−1,3−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,3−ブチレングリコール、オクタンジオール、2,4−ジエチルペンタンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、4−ヒドロキシー4−メチルー2−ペンタノン、2−エチル−1−ヘキサノール、3,5,5−トリメチル−1−ヘキサノール、イソデカノール、イソトリデカノール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、2−メトキシブタノール、3−メトキシブタノール、シクロヘキサノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ベンジルアルコール、メチルシクロヘキサノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノtert−ブチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテルトリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、1,3−ブチレングリコール、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールn−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールn−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールn−ブチルエ−テル等のアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、3,5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸tert‐ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、3−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチルエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールジメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコ−ルメチルエ−テルアセテ−ト、1,3−ブチレングリコールジアセテート、1,4−ブタンジオールジアセテート、1,3−ブチレングリコールジアセテート、1,6−ヒオキサンジオールジアセテート等のエステル系溶剤、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、o−ジエチルベンゼン、m−ジエチルベンゼン、p−ジエチルベンゼン、n−ブチルベンゼン、sec−ブチルベンゼン、tert−ブチルベンゼン等の芳香族系溶剤、シクロヘプタン、シクロヘキサン等の脂環族系溶剤、ペンタン、ヘキサン、オクタン、イソヘキサン、イソオクタン、イソノナン等の脂肪族系溶剤、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン、o−クロロトルエン、m−クロロトルエン、p−クロロトルエン、m−ジクロロベンゼン、1,2,3−トリクロロプロパン等の塩素系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、γ―ブチロラクトン、イソホロン、トリアセチン、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
本発明の樹脂組成物はさらに目的に応じて、染料、有機および無機顔料、顔料分散剤、ホスフィン、ホスホネート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ防止剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、界面活性剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸化防止剤、色素前駆体、紫外線吸収剤、発砲剤、防カビ剤、帯電防止剤、磁性体、樹脂型分散剤等の分散剤、シランカップリング剤や4級アンモニウムクロライド等の貯蔵安定剤、可塑剤、表面張力調整剤、スリッピング剤、アンチブロッキング剤、光安定化剤、レベリング剤、消泡剤、赤外吸収剤、界面活性剤、チキソトロピー剤、抗菌剤、シリカ等の微粒子やその他種々の特性を付与する添加剤、希釈溶剤等と混合して使用しても良い。それら種類に関しては、特に限定されない。
<シート>
本発明のシートは、本発明の樹脂組成物からなる層が基材上に形成されていれば特に制限はない。基材上に直接形成されてもよいし、別の剥離基材上で形成したものを転写しても構わないし、別の基材と粘・接着剤等で接合したものでも構わない。さらに本発明の樹脂組成物からなる層は、最外層である必用はなく、中塗り層としても使用することも可能である。
本発明のシートは、本発明の樹脂組成物からなる層が基材上に形成されていれば特に制限はない。基材上に直接形成されてもよいし、別の剥離基材上で形成したものを転写しても構わないし、別の基材と粘・接着剤等で接合したものでも構わない。さらに本発明の樹脂組成物からなる層は、最外層である必用はなく、中塗り層としても使用することも可能である。
本発明に使用可能な基材としては、無機系基材、樹脂系基材、木質系基材などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
無機系基材としては、例えば、ガラス基材;セラミック基材;珪酸カルシウム板、石綿スレート板、セメントスレート板などの無機質基材;アルミニウム板、銅板、ステンレス鋼板、めっき鋼板などの金属基材などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
樹脂系基材としては、例えば、ポリメチルメタクリレートなどの(メタ)アクリル系樹脂;ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、ポリ(p−メチルスチレン)などのスチレン系樹脂;ポリカーボネート;ポリアリレート;ポリエーテルスルホン;ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレンなどのポリオレフィン系樹脂;ノルボルネン樹脂などの環状オレフィン系樹脂;塩化ビニル樹脂、塩素化ビニル樹脂などのハロゲン含有樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレートなどのポリエステル系樹脂;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610などのポリアミド;セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロース系樹脂;ポリアセタール系樹脂;ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリエチレンテトラフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体などのフッ素樹脂;ポリフェニレンオキシド;ポリフェニレンスルフィド;ポリエーテルエーテルケトン;ポリエーテルニトリル;ポリサルホン;ポリエーテルサルホン;ポリオキシベンジレン;ポリアミドイミド;シリコーン樹脂などが挙げられるが、本発明は、これらに限定されるものではない。これらの樹脂の中では、耐候性を向上させ、コストを低減させる観点から、(メタ)アクリル樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド、セルロース系樹脂およびフッ素樹脂が好ましく、ポリエステル系樹脂およびフッ素樹脂がより好ましい。樹脂系基材の厚さは、特に限定されないが、通常、10〜800μm程度であることが好ましい。
木質系基材としては、合板、MDF(中密度繊維板)、パーティクルボードなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
またこれら基材は、コロナ処理、フレーム処理、プラズマ処理等の表面改質を必要に応じて行っても良い。
本発明の成膜方法としては、例えば基材上に組成物を塗工した後、必要に応じてプレ乾燥を行い、さらに必要に応じて熱乾燥(架橋)や活性エネルギー線照射により、硬化させる方法などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
塗工方法としては、既知の印刷あるいは塗工方法を用いることが可能であり、例えばグラビアコート法、グラビアオフセット法、キスコート法、ロッドコート法、リバースグラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法、トップコート法、ダイコート法、ナイフコート法、リップコート法、スプレーコート法、スピンコート法、バーコート法、スリットコート法、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷、転写印刷、昇華転写印刷、インクジェット印刷などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
プレ乾燥は、塗工膜に含まれる溶媒を抜くために使用される。乾燥のみで成膜する場合において、急激な乾燥は発泡の要因になり成膜不良を引き起こすため望ましくない。また、硬化や架橋を利用する場合においても、多量の溶媒が存在すると硬化や架橋を阻害することによる成膜不良を引き起こすため望ましくない。よって、本発明においてはプレ乾燥を行うことが好ましい。
プレ乾燥させる方法としては、真空乾燥機などを用いた減圧による真空乾燥、コンベクションオーブン(熱風乾燥器)、IRオーブン、ホットプレート等を使用したベークによる乾燥、またはその複合により実施することが可能である。
熱乾燥または熱架橋する場合は、プレ乾燥と同様の機器や設備を用いて、適切な温度・時間で実施することが可能である。
本発明の活栓エネルギー線照射とは、熱または紫外線や可視光線、近赤外線等、電子線等である。活性エネルギー線の付与の光源としては、100nmから450nmの波長領域に発光の主波長を有する光源が好ましい。100nmから450nmの波長領域に発光の主波長を有する光源の例としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ、キセノンランプ、パルス発光キセノンランプ、重水素ランプ、蛍光灯、ND−YAG3倍波レーザー、HE−CDレーザー、窒素レーザー、XE−Clエキシマレーザー、XE−Fエキシマレーザー、半導体励起固体レーザー、365nm、375nm、385nmに発行波長を有するLEDランプ光源などの各種光源が挙げられる。なお本明細書において、紫外線や可視光、近赤外線等の定義は、久保亮五ら編「岩波理化学辞典第4版」(1987年、岩波)による。
本発明の樹脂組成物からなる層の乾燥・架橋・硬化後の膜厚としては、1〜200μmが好ましく、より好ましくは5〜100μmである。
本発明のシートは、さらに成型されても構わない。成型方法としては、真空成型、圧空成型、メンブレンプレス成型、インモールド成型、インサート成型、インサートモールド成型、オーバーレイ真空成型などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明するが、以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。なお、実施例中における各評価は、以下の方法に従った。なお、実施例中、部は重量部、%は重量%をそれぞれ示す。
<重量平均分子量>
重量平均分子量の測定は、東ソー社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ)「GPC−8020」を用いた、カラムはSHODEX KF−806L 2本、KF−804L 1本、KF−802 1本を用い、溶媒はテトラヒドロフランを用いた。重量平均分子量は標準ポリスチレン換算で行った。
重量平均分子量の測定は、東ソー社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ)「GPC−8020」を用いた、カラムはSHODEX KF−806L 2本、KF−804L 1本、KF−802 1本を用い、溶媒はテトラヒドロフランを用いた。重量平均分子量は標準ポリスチレン換算で行った。
実施例で使用する単量体等について表1に示す。
単量体(1)については、特許公報5977063号公報に記載の方法を用いて得た。
単量体(2)については、特許公報5591543号公報の記載の方法に準じて、原料としてα−アリルオキシメチルアクリル酸メチルとブタノールを用いて、反応させることで調製した。
単量体(3)については、特許公報5977063号公報に記載の方法を用いて得た。
<ブロック共重合体の製造方法>
合成例1;ブロック共重合体(C−1)
攪拌機、温度計、還流冷却器、ガス導入管を備えた反応容器に、溶媒としてメチルエチル
ケトン50重量部を仕込み、窒素雰囲気下、70℃に昇温した。次いで、単量体(1)82.8重量部および開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.8重量部、連鎖移動剤としてチオグリコール酸0.3重量部、溶媒としてメチルエチルケトン50重量部を予め混合したモノマー液を2時間かけて滴下した。さらに70℃で1時間反応させた後、後添加開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.1重量部を加えて1時間反応させる工程を、モノマーの添加率が98%以上になるまで行った後、室温まで冷却した。溶媒としてメチルエチルケトンを加えて固形分45%の樹脂を得た。重量平均分子量は45,000であった。
続いて、反応系にテトラブチルアンモニウムクロリド1重量部を加えた後、単量体(4)16.9重量部のシクロヘキサノン10重量部溶液を、1時間かけて滴下した後、反応温度を90℃に昇温し、さらに6時間反応させた。酸価の消失を確認した後、室温まで冷却した。溶媒としてシクロヘキサノンを加えて固形分45%のブロック共重合体(C−1)を得た。重量平均分子量は50,000であった。
合成例1;ブロック共重合体(C−1)
攪拌機、温度計、還流冷却器、ガス導入管を備えた反応容器に、溶媒としてメチルエチル
ケトン50重量部を仕込み、窒素雰囲気下、70℃に昇温した。次いで、単量体(1)82.8重量部および開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.8重量部、連鎖移動剤としてチオグリコール酸0.3重量部、溶媒としてメチルエチルケトン50重量部を予め混合したモノマー液を2時間かけて滴下した。さらに70℃で1時間反応させた後、後添加開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.1重量部を加えて1時間反応させる工程を、モノマーの添加率が98%以上になるまで行った後、室温まで冷却した。溶媒としてメチルエチルケトンを加えて固形分45%の樹脂を得た。重量平均分子量は45,000であった。
続いて、反応系にテトラブチルアンモニウムクロリド1重量部を加えた後、単量体(4)16.9重量部のシクロヘキサノン10重量部溶液を、1時間かけて滴下した後、反応温度を90℃に昇温し、さらに6時間反応させた。酸価の消失を確認した後、室温まで冷却した。溶媒としてシクロヘキサノンを加えて固形分45%のブロック共重合体(C−1)を得た。重量平均分子量は50,000であった。
合成例2, 3, 7, 9, 10, 11, 14;
ブロック共重合体(C−2, 3, 7, 9, 10, 11, 14)
合成例1における単量体を表2に示す種類、配合に変更し、反応時の固形分濃度や重合開始剤の量を適宜調整すること以外は同様に合成することにより、表2に示す重量平均分子量を有するブロック共重合体を固形分45%で得た。
ブロック共重合体(C−2, 3, 7, 9, 10, 11, 14)
合成例1における単量体を表2に示す種類、配合に変更し、反応時の固形分濃度や重合開始剤の量を適宜調整すること以外は同様に合成することにより、表2に示す重量平均分子量を有するブロック共重合体を固形分45%で得た。
合成例4;ブロック共重合体(C−4)
攪拌機、温度計、還流冷却器、ガス導入管を備えた反応容器に、溶媒としてメチルエチル
ケトン80重量部、単量体(1)87.9重量部および単量体(5)12.1重量部を仕込み、窒素雰囲気下、70℃に昇温した。次いで、開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.8重量部および溶媒としてメチルエチルケトン20重量部を予め混合した溶液を6時間かけて滴下した。さらに70℃で1時間反応させた後、後添加開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.1重量部を加えて1時間反応させる工程を、モノマーの添加率が98%以上になるまで行った後、室温まで冷却した。溶媒としてメチルエチルケトンを加えて固形分45%のブロック共重合体を得た。重量平均分子量は60,000であった。
攪拌機、温度計、還流冷却器、ガス導入管を備えた反応容器に、溶媒としてメチルエチル
ケトン80重量部、単量体(1)87.9重量部および単量体(5)12.1重量部を仕込み、窒素雰囲気下、70℃に昇温した。次いで、開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.8重量部および溶媒としてメチルエチルケトン20重量部を予め混合した溶液を6時間かけて滴下した。さらに70℃で1時間反応させた後、後添加開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.1重量部を加えて1時間反応させる工程を、モノマーの添加率が98%以上になるまで行った後、室温まで冷却した。溶媒としてメチルエチルケトンを加えて固形分45%のブロック共重合体を得た。重量平均分子量は60,000であった。
合成例5, 6, 12, 15;ブロック共重合体(C−5, 6, 12, 15)
合成例4における単量体を表2に示す種類、配合に変更し、反応時の固形分濃度や重合開始剤の量を適宜調整すること以外は同様に合成することにより、表2に示す重量平均分子量を有するブロック共重合体を固形分45%で得た。
合成例4における単量体を表2に示す種類、配合に変更し、反応時の固形分濃度や重合開始剤の量を適宜調整すること以外は同様に合成することにより、表2に示す重量平均分子量を有するブロック共重合体を固形分45%で得た。
合成例8;ブロック共重合体(C−8)
攪拌機、温度計、還流冷却器、ガス導入管を備えた反応容器に、溶媒としてメチルエチル
ケトン90重量部、単量体(1)75.0重量部およびVPS−1001N25.0重量部を仕込み、窒素雰囲気下、70℃に昇温し反応させた。さらに70℃で1時間反応させた後、後添加開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.1重量部を加えて1時間反応させる工程を、モノマーの添加率が98%以上になるまで行った後、室温まで冷却した。溶媒としてメチルエチルケトンを加えて固形分45%のブロック共重合体を得た。重量平均分子量は50,000であった。
攪拌機、温度計、還流冷却器、ガス導入管を備えた反応容器に、溶媒としてメチルエチル
ケトン90重量部、単量体(1)75.0重量部およびVPS−1001N25.0重量部を仕込み、窒素雰囲気下、70℃に昇温し反応させた。さらに70℃で1時間反応させた後、後添加開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.1重量部を加えて1時間反応させる工程を、モノマーの添加率が98%以上になるまで行った後、室温まで冷却した。溶媒としてメチルエチルケトンを加えて固形分45%のブロック共重合体を得た。重量平均分子量は50,000であった。
合成例13, 16;ブロック共重合体(C−13, 16)
合成例4における単量体を表2に示す種類、配合に変更し、反応時の固形分濃度を適宜調整すること以外は同様に合成することにより、表2に示す重量平均分子量を有するブロック共重合体を固形分45%で得た。
合成例4における単量体を表2に示す種類、配合に変更し、反応時の固形分濃度を適宜調整すること以外は同様に合成することにより、表2に示す重量平均分子量を有するブロック共重合体を固形分45%で得た。
比較例用共重合体の合成例:共重合体(1)〜(5)
合成例17:共重合体(1)
攪拌機、温度計、還流冷却器、ガス導入管を備えた反応容器に、溶媒としてメチルエチル
ケトン50.0重量部を仕込み、窒素雰囲気下、70℃に昇温した。次いで、単量体(1)50.0重量部、MMA50.0、開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.0重量部、溶媒としてメチルエチルケトン50重量部を予め混合したモノマー液を2時間かけて滴下した。さらに70℃で1時間反応させた後、後添加開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.1重量部を加えて1時間反応させる工程を、モノマーの添加率が98%以上になるまで行った後、室温まで冷却した。溶媒としてメチルエチルケトンを加えて固形分45%の共重合体(1)を得た。重量平均分子量は50,000であった。
攪拌機、温度計、還流冷却器、ガス導入管を備えた反応容器に、溶媒としてメチルエチル
ケトン50.0重量部を仕込み、窒素雰囲気下、70℃に昇温した。次いで、単量体(1)50.0重量部、MMA50.0、開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.0重量部、溶媒としてメチルエチルケトン50重量部を予め混合したモノマー液を2時間かけて滴下した。さらに70℃で1時間反応させた後、後添加開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.1重量部を加えて1時間反応させる工程を、モノマーの添加率が98%以上になるまで行った後、室温まで冷却した。溶媒としてメチルエチルケトンを加えて固形分45%の共重合体(1)を得た。重量平均分子量は50,000であった。
合成例18, 19:共重合体(3), (5)
合成例18における単量体を表3に示す種類、配合に変更し、反応時の固形分濃度や重合開始剤の量を適宜調整すること以外は同様に合成することにより、表3に示す重量平均分子量を有する共重合体(3), (5)を固形分45%で得た。
合成例18における単量体を表3に示す種類、配合に変更し、反応時の固形分濃度や重合開始剤の量を適宜調整すること以外は同様に合成することにより、表3に示す重量平均分子量を有する共重合体(3), (5)を固形分45%で得た。
合成例20, 21:共重合体(2), (4)
合成例2における単量体を表3に示す種類、配合に変更し、反応時の固形分濃度や重合開始剤の量を適宜調整すること以外は同様に合成することにより、表3に示す重量平均分子量を有する共重合体(2), (4)を固形分45%で得た。
合成例2における単量体を表3に示す種類、配合に変更し、反応時の固形分濃度や重合開始剤の量を適宜調整すること以外は同様に合成することにより、表3に示す重量平均分子量を有する共重合体(2), (4)を固形分45%で得た。
<ブロック共重合体を含む組成物の製造>
実施例1〜38、比較例1〜18
ブロック共重合体または化合物(1)〜(5)と、重合性化合物、重合開始剤、架橋剤、溶剤を表4に示す重量部で配合し、ブロック共重合体を含む組成物を得た。
実施例1〜38、比較例1〜18
ブロック共重合体または化合物(1)〜(5)と、重合性化合物、重合開始剤、架橋剤、溶剤を表4に示す重量部で配合し、ブロック共重合体を含む組成物を得た。
なお、表4中の略語は以下の通りである。
PET-30:日本化薬社製「KAYARAD PET−30」(3官能アクリレート)
エサキュアOne:ランバルティ社製「ESACURE ONE」(光ラジカル開始剤)
jER828:三菱化学社製「jER828」(BisA型エポキシ樹脂)
U-CAT5003:サンアプロ社製「U−CAT5003」(熱カチオン開始剤)
E-405:旭化成社製「デュラネートE−405」(イソシアネート架橋剤)
jERキュア:三菱化学社製「jERキュアST11」(アミン系エポキシ架橋剤)
UVA:BASF社製「チヌビン384−2」(紫外線吸収剤)
HALS:BASF社製「チヌビン123」(アミン系光安定剤)
PGM:メトキシプロパノールプロピレングリコールモノメチルエーテル
Toluene:トルエン
PET-30:日本化薬社製「KAYARAD PET−30」(3官能アクリレート)
エサキュアOne:ランバルティ社製「ESACURE ONE」(光ラジカル開始剤)
jER828:三菱化学社製「jER828」(BisA型エポキシ樹脂)
U-CAT5003:サンアプロ社製「U−CAT5003」(熱カチオン開始剤)
E-405:旭化成社製「デュラネートE−405」(イソシアネート架橋剤)
jERキュア:三菱化学社製「jERキュアST11」(アミン系エポキシ架橋剤)
UVA:BASF社製「チヌビン384−2」(紫外線吸収剤)
HALS:BASF社製「チヌビン123」(アミン系光安定剤)
PGM:メトキシプロパノールプロピレングリコールモノメチルエーテル
Toluene:トルエン
<シート作成および評価>
実施例1〜16、比較例1〜7:
実施例1〜16、比較例1〜7で得られた組成物を、PET基材(厚み100μm:東洋紡績社製「コスモシャインA4100」)に、バーコーターを用いて塗工した後、熱風乾燥器を用いて80℃、1分間乾燥することにより、シート上に膜厚10μmの塗工膜を得た。得られたシートについて、耐候性評価を行った結果を表5に示す。
実施例1〜16、比較例1〜7:
実施例1〜16、比較例1〜7で得られた組成物を、PET基材(厚み100μm:東洋紡績社製「コスモシャインA4100」)に、バーコーターを用いて塗工した後、熱風乾燥器を用いて80℃、1分間乾燥することにより、シート上に膜厚10μmの塗工膜を得た。得られたシートについて、耐候性評価を行った結果を表5に示す。
実施例17〜32、比較例8〜12:
実施例17〜32、比較例8〜12で得られた組成物をPET基材(厚み100μm:東洋紡績社製「コスモシャインA4100」)に、バーコーターを用いて塗工した後、熱風乾燥器を用いて80℃、1分間乾燥した。次に、塗工膜をベルトコンベア式の紫外線照射器(高圧水銀灯120W/cm2)を用いて、積算光量400mJ/cm2となるように照射を実施することにより、シート上に膜厚10μmの硬化膜を得た。得られたシートについて、耐候性評価を行った結果を表5に示す。
実施例17〜32、比較例8〜12で得られた組成物をPET基材(厚み100μm:東洋紡績社製「コスモシャインA4100」)に、バーコーターを用いて塗工した後、熱風乾燥器を用いて80℃、1分間乾燥した。次に、塗工膜をベルトコンベア式の紫外線照射器(高圧水銀灯120W/cm2)を用いて、積算光量400mJ/cm2となるように照射を実施することにより、シート上に膜厚10μmの硬化膜を得た。得られたシートについて、耐候性評価を行った結果を表5に示す。
実施例33〜38、比較例13〜18:
実施例33〜38、比較例13〜18で得られた組成物をPET基材(厚み100μm:東洋紡績社製「コスモシャインA4100」)に、バーコーターを用いて塗工した。熱風乾燥器を用いて100℃、2分間乾燥した後、50℃で3日間養生することにより、シート状に膜厚10μmの硬化膜を得た。得られたシートについて、耐候性評価を行った結果を表5に示す。
実施例33〜38、比較例13〜18で得られた組成物をPET基材(厚み100μm:東洋紡績社製「コスモシャインA4100」)に、バーコーターを用いて塗工した。熱風乾燥器を用いて100℃、2分間乾燥した後、50℃で3日間養生することにより、シート状に膜厚10μmの硬化膜を得た。得られたシートについて、耐候性評価を行った結果を表5に示す。
<耐候性評価>
得られたシートについて、促進耐候性試験:JIS B7751規程の紫外線カーボンアーク燈式耐候性試験機(スガ試験機株式会社製)で、JIS A1415に準拠した試験を行い、1200時間経過後における劣化状態を、以下の試験項目にて確認を実施した。
結果について表5に示す。
得られたシートについて、促進耐候性試験:JIS B7751規程の紫外線カーボンアーク燈式耐候性試験機(スガ試験機株式会社製)で、JIS A1415に準拠した試験を行い、1200時間経過後における劣化状態を、以下の試験項目にて確認を実施した。
結果について表5に示す。
[光沢維持率]
光沢計VG−7000(日本電色工業製)を用いて、塗膜の60度光沢値を測定した。
光沢維持率は以下に示す式で求めた。光沢維持率(%)=(促進試験後の光沢値/初期光沢値)×100
(評価基準)
〇:95%以上
△:85%以上95%未満
×:85%未満
光沢計VG−7000(日本電色工業製)を用いて、塗膜の60度光沢値を測定した。
光沢維持率は以下に示す式で求めた。光沢維持率(%)=(促進試験後の光沢値/初期光沢値)×100
(評価基準)
〇:95%以上
△:85%以上95%未満
×:85%未満
[透明性]
ヘイズメーターNDH2000(日本電色工業製)を用いて、塗膜の濁度の変化(ΔHz)を測定した。
(評価基準)
〇:ΔHzが1未満
△:ΔHzが1以上3未満
×:ΔHzが3以上
ヘイズメーターNDH2000(日本電色工業製)を用いて、塗膜の濁度の変化(ΔHz)を測定した。
(評価基準)
〇:ΔHzが1未満
△:ΔHzが1以上3未満
×:ΔHzが3以上
[黄変性]
色差計ZE6000(日本電色工業製)を用いて、塗膜の黄変の変化(Δb*値)を測定した。
(評価基準)
〇:Δbが3未満
△:Δbが3以上10未満
×:Δbが10以上
色差計ZE6000(日本電色工業製)を用いて、塗膜の黄変の変化(Δb*値)を測定した。
(評価基準)
〇:Δbが3未満
△:Δbが3以上10未満
×:Δbが10以上
[残膜率]
塗膜または硬化膜の一部に、カプトンテープを貼り、促進試験後に剥がした。テープで
保護されていた位置を基準にし、未保護面との段差(μm)を膜厚計F20−UV(フィルメトリクス社製)を用いて測定した。残膜率は以下に示す式で求めた。
残膜率(%)={(初期膜厚−段差)/初期膜厚}×100
なお、上述の通り、初期膜厚は本実施例においては、いずれも10μmであった。
(評価基準)
◎:98以上
〇:94%以上98%未満
△:85%以上94%未満
×:85%未満
塗膜または硬化膜の一部に、カプトンテープを貼り、促進試験後に剥がした。テープで
保護されていた位置を基準にし、未保護面との段差(μm)を膜厚計F20−UV(フィルメトリクス社製)を用いて測定した。残膜率は以下に示す式で求めた。
残膜率(%)={(初期膜厚−段差)/初期膜厚}×100
なお、上述の通り、初期膜厚は本実施例においては、いずれも10μmであった。
(評価基準)
◎:98以上
〇:94%以上98%未満
△:85%以上94%未満
×:85%未満
[促進試験後の可撓性]
JIS K5600−5−1に記載の円筒形マンドレル法に準拠した。シートの基材面をマンドレル(心棒)に接するようにし、直径が3mm、5mm、8mm、10mmであるマンドレルに沿ってシートを折り曲げた。折り曲げ後の塗膜または硬化膜に亀裂または剥がれが生じる時の直径を調べた。
(評価基準)
◎:3mm亀裂または剥がれが生じない
〇:3mmでは亀裂や剥がれが生じたが、5mmでは亀裂または剥がれが生じない
△:5mmでは亀裂や剥がれが生じたが、8mmでは亀裂または剥がれが生じない
×:8mmでは亀裂や剥がれが生じたが、10mmでは亀裂または剥がれが生じない
JIS K5600−5−1に記載の円筒形マンドレル法に準拠した。シートの基材面をマンドレル(心棒)に接するようにし、直径が3mm、5mm、8mm、10mmであるマンドレルに沿ってシートを折り曲げた。折り曲げ後の塗膜または硬化膜に亀裂または剥がれが生じる時の直径を調べた。
(評価基準)
◎:3mm亀裂または剥がれが生じない
〇:3mmでは亀裂や剥がれが生じたが、5mmでは亀裂または剥がれが生じない
△:5mmでは亀裂や剥がれが生じたが、8mmでは亀裂または剥がれが生じない
×:8mmでは亀裂や剥がれが生じたが、10mmでは亀裂または剥がれが生じない
比較例1が示すように環構造を有するブロック(A)のみを含む共重合体は、可撓性が他の比較例化合物の中では比較的良好であるものの、本発明の共重合体よりも劣っており、 さらに光沢維持率・透明性・黄変性・残膜率などはかなり劣っている。
また比較例2が示すようにポリシロキサン構造を有するブロック(B)のみを含む共重合体は、光沢維持率や透明性が他の比較例化合物の中では比較的良好であるものの、本発明の共重合体よりも劣っており、さらに黄変性・残膜率・可撓性などはかなり劣っている。
さらに比較例5が示すように主鎖に環構造を有するブロック(A)と、紫外線吸収構造を有する共重合体においても、耐候性は不十分である。よって構造を単に組み合わせただけでは各種機能が出せることではないことが明らかとなった。
したがって、本発明のブロック共重合体における環構造を有するブロック(A)とポリシロキサン構造を有するブロック(B)を有することが、極めて優れた耐候性の発現に重要であることが明らかとなった。
また比較例2が示すようにポリシロキサン構造を有するブロック(B)のみを含む共重合体は、光沢維持率や透明性が他の比較例化合物の中では比較的良好であるものの、本発明の共重合体よりも劣っており、さらに黄変性・残膜率・可撓性などはかなり劣っている。
さらに比較例5が示すように主鎖に環構造を有するブロック(A)と、紫外線吸収構造を有する共重合体においても、耐候性は不十分である。よって構造を単に組み合わせただけでは各種機能が出せることではないことが明らかとなった。
したがって、本発明のブロック共重合体における環構造を有するブロック(A)とポリシロキサン構造を有するブロック(B)を有することが、極めて優れた耐候性の発現に重要であることが明らかとなった。
さらに耐候性安定剤を併用した比較例6、7は、併用していない比較例1、2と比較して黄変性や残膜率がわずかに向上するが、実施例1〜16の本発明のブロック共重合体と比較して明らかに劣ることが明らかとなった。すなわち本発明のグラフト共重合体は耐候性安定剤を使用しなくとも優れた耐候性を塗膜に付与できることが示された。
本発明のブロック共重合体を用いた組成物を光ラジカル硬化させた塗膜(実施例17〜32)は、本発明外の構造を有する共重合体を用いた組成物を光ラジカル硬化させた塗膜(比較例8〜12)と比較して、光沢維持率、透明性、黄変性、残膜率、可撓性などの物性において明らかに優れていることが明らかとなった。ブロック共重合体
本発明のブロック共重合体を用いた組成物を熱カチオン硬化させた塗膜(実施例33〜35)は、本発明外の構造を有する共重合体を用いた組成物を熱カチオン硬化させた塗膜(比較例13〜15)と比較して、光沢維持率、透明性、黄変性、残膜率、可撓性などの物性において明らかに優れていることが明らかとなった。
本発明のブロック共重合体を用いた組成物を架橋した塗膜(実施例36〜38)は、本発明外の構造を有する共重合体を用いた組成物を光硬化させた塗膜(比較例16〜18)と比較して、光沢維持率、透明性、黄変性、残膜率、可撓性などの物性において明らかに優れていることが明らかとなった。
すなわち本発明の樹脂は様々な形態(架橋・硬化の有無、硬化・架橋の違いなど)で優れた耐候性を示すことが明らかとなり、様々な製品形態に対応可能であることを示している。
Claims (6)
- ブロック(A)およびブロック(B)を有するブロック共重合体であって、ブロック(A)が主鎖に環構造(a)を有するアクリル系共重合体であり、ブロック(B)が主鎖にポリシロキサン系重合体(b)を有することを特徴とするブロック共重合体。
- 環構造(a)が、下記一般式(1)で表される構造であることを特徴とする請求項1記載のブロック共重合体。
一般式(1)
(一般式(1)中、R1は水素原子または炭素数1〜30の有機基、R2は直接結合、メチレン基またはエチレン基、R3は直接結合、メチレン基またはエチレン基、R4は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、カルボキシル基、エステル基またはシアノ基、R5は直接結合、メチレン基またはエチレン基、XおよびYはそれぞれ独立して炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子、Zは直接結合、炭素数1〜4のアルキル基を有していてもよいメチレン基、イミノ基、カルボニル基、酸素原子またはイオウ原子を示し、X、YおよびZのうちの少なくとも1つの基は互いに隣接しない酸素原子、イオウ原子またはイミノ基である) - ポリシロキサン系重合体(b)が、下記一般式(2)で表される構造であることを特徴とする請求項1または2いずれか記載のブロック共重合体。
一般式(2)
(一般式中、R6およびR7はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、酸素原子、アルキル基またはヒドロキシル基を有していても良い炭素数1〜20のアルキレン基であって、さらに、末端以外の任意の位置で、−O−、−S−、−O−(C=O)−、−N−(C=O)−で中断されていてもよく、R6およびR7の少なくとも一方を介してブロック(A)と結合する。nは1〜300の整数である。) - 請求項1〜3いずれか記載の共重合体を含む重合性組成物。
- 塗料またはコーティング用である、請求項4記載の重合性組成物。
- 基材上に、請求項4または5記載の重合性組成物から形成された層を有するシート。
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JP2018122256A JP2020002240A (ja) | 2018-06-27 | 2018-06-27 | ブロック共重合体、重合性組成物、塗料、コーティング剤、およびシート |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2018122256A Pending JP2020002240A (ja) | 2018-06-27 | 2018-06-27 | ブロック共重合体、重合性組成物、塗料、コーティング剤、およびシート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2020002240A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023199672A1 (ja) * | 2022-04-12 | 2023-10-19 | 東レ株式会社 | 感光性組成物、感光性フィルム及び硬化物、積層部材の製造方法、及び電子部品の製造方法 |
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2018
- 2018-06-27 JP JP2018122256A patent/JP2020002240A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023199672A1 (ja) * | 2022-04-12 | 2023-10-19 | 東レ株式会社 | 感光性組成物、感光性フィルム及び硬化物、積層部材の製造方法、及び電子部品の製造方法 |
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