JP2008523604A - 静電放電保護装置 - Google Patents
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Abstract
静電放電(ESD)保護装置は、保護すべき装置(6)及びESD保護回路(4)を有する。ESDパルスがパッド(2)に印加されると、リーク電流が、装置(6)への経路(14)に流れる。保護される装置(6)のこのようなリーク電流は、ESD装置(4)を始動させる先行始動信号として用いられる。
Description
本発明は、静電放電に対して保護される装置及び装置を保護する方法に関する。
静電放電(ESD)に対する保護を、シリコンの熱損傷を防止するために地面に対して低インピーダンスチャネルを設けることによって、チップ、特に集積回路に集積することができる。あらゆるESDの電圧パルスを安全レベルに固定することもできる。
装置を、人体モデル(HBM)試験によりESDに対する抵抗を試験することができる。HBM試験は、人間の指先から放電されうる電圧パルスをシミュレートするよう設計される。特定の電圧パルスが半導体装置の入力端子に印加され、試験は、装置がそのようなパルスによる損傷から保護されているか否か決定する。装置は、パルス後に予め決定された制限内で動作する場合には電圧パルスに耐えていると決定される。電圧パルスの電圧が増大され、装置に耐えられる電圧は、静電放電に対する装置の抵抗の測定であると考えられる。2000VのHBM値を有する装置はしばしば、要求が変わるとしてもESDに対する理想的な耐性を有すると考えられる。
シリコン制御整流器(SCR)を、集積回路の装置基板に集積されたESD保護構造として用いることができる。しかしながら、それは、集積回路装置のピンのESDパルスに対する応答が遅くなることがある。
したがって、ESDイベントの確認及び始動を向上する必要がある。
ESDイベントの始動を最適に行う方法の多数の研究がなされている。ある手法は、例えば、チェナーダイオード又は電圧パルスを検出するためのカスケード配置の一連のダイオードを用いて電圧レベルを検出する。他の手法は、トリガとしての抵抗−コンデンサ(RC)回路を用いて急速な電圧変化を検出する。ESDイベントが検出されたときに信号を発生する更に複雑なネットワークが提案されている。しかしながら、ESD保護を迅速に開始する必要がある。
従来のSCR保護回路は、米国特許出願第2001/0007521号に記載されている。
本発明によれば、入力パッドと、
前記入力パッドに接続された第1装置端子及び前記第1装置端子から第2装置端子までの静電放電臨界経路を有する保護される装置と、
前記入力パッドに接続され、静電放電保護を開始するトリガ端子を有する静電放電保護回路とを具え、
前記第2装置端子が前記トリガ端子に接続されて、前記保護される装置のリーク電流が静電放電保護を行い又は補助するESD保護装置を提供する。
前記入力パッドに接続された第1装置端子及び前記第1装置端子から第2装置端子までの静電放電臨界経路を有する保護される装置と、
前記入力パッドに接続され、静電放電保護を開始するトリガ端子を有する静電放電保護回路とを具え、
前記第2装置端子が前記トリガ端子に接続されて、前記保護される装置のリーク電流が静電放電保護を行い又は補助するESD保護装置を提供する。
発明者は、ESD電圧パルスに基づくESD保護を開始する必要をなくすことを実現したが、保護される装置のリーク電流を検出するとともにこれを用いてESD保護を開始することもできる。これによって検出速度が向上する。
発明者は、理論に束縛されることを所望しないが、ストレスが加えられた装置のリーク電流が十分な放電に対するプレカーサとして作用して開始速度を向上していると考えられる。
集積されたESD保護回路を記載する上記特許出願明細書(第2001/0007521号)の配置とは異なり、本発明は、保護回路内ではなく保護される装置のリーク電流を用いて、個別のESD保護回路の始動を補助する。
静電放電保護回路を、静電保護回路が前記入力パッドに隣接して配置されるとともに保護される装置が静電保護回路に比べて入力パッドから離れて配置される単一基板上に配置することができる。特に、保護される装置を、基板領域の内側に配置することができる。静電保護回路に比べて入力パッドから離れて配置された保護される装置を有することによって、ESD保護回路は、保護される装置にパルスを印加することなくESDパルスを有効に消失することができる。第2装置端子を、電流トリガラインによってトリガ端子に接続することができる。この電流トリガラインを、基板上の長距離相互接続層の一部、短距離層又は個別の層として設けることができる。
好適には、ESDに対する好適な経路となるためにESD保護回路をできるだけパッドに近接して配置する。
一例において、静電放電保護回路を、前記入力パッドに接続されたシリコン制御整流器とする。
一例において、前記シリコン制御整流器が、
前記入力パッドに接続された第1ノードと、
地面に接続された第2ノードと、
前記第1ノードと第3ノードとの間に接続された第1抵抗と、
コレクタ及びエミッタが前記第3ノードと第2ノードとの間に接続されるとともにベースが第4ノードに接続された第1バイポーラトランジスタと、
前記第4ノードと前記第2ノードとの間に接続された第2抵抗と、
コレクタ及びエミッタが前記第1ノードと前記第4ノードとの間に接続されるとともにベースが前記第3ノードに接続された第2バイポーラトランジスタとを具え、
前記第1及び第2バイポーラトランジスタのうちの一方をnpnトランジスタとし、前記第1及び第2バイポーラトランジスタのうちの他方をpnpトランジスタとし、
前記トリガ端子が前記第3ノード又は前記第4ノードに接続される。
前記入力パッドに接続された第1ノードと、
地面に接続された第2ノードと、
前記第1ノードと第3ノードとの間に接続された第1抵抗と、
コレクタ及びエミッタが前記第3ノードと第2ノードとの間に接続されるとともにベースが第4ノードに接続された第1バイポーラトランジスタと、
前記第4ノードと前記第2ノードとの間に接続された第2抵抗と、
コレクタ及びエミッタが前記第1ノードと前記第4ノードとの間に接続されるとともにベースが前記第3ノードに接続された第2バイポーラトランジスタとを具え、
前記第1及び第2バイポーラトランジスタのうちの一方をnpnトランジスタとし、前記第1及び第2バイポーラトランジスタのうちの他方をpnpトランジスタとし、
前記トリガ端子が前記第3ノード又は前記第4ノードに接続される。
前記保護される装置を、ソース、ゲート及びドレインを有する電界効果トランジスタとし、前記ソース及び前記ドレインのうちの一方を、前記入力パッドに接続された前記第1装置端子とし、前記ゲートを、前記静電放電保護回路の前記トリガ端子に接続された前記第2装置端子とすることができる。
他の態様において、ESD保護装置を設計し及び製造する方法であって、
接続ラインによって入力パッドに接続された基板上の保護される装置の第1インスタンスを設け、
静電放電を前記入力パッドに印加して、静電放電電流を、前記保護される装置に流し、
前記保護される装置の第1装置端子から第2装置端子まで流れる前記静電放電電流の臨界経路を確認し、
接続ラインによって前記入力パッドに接続された前記基板上の前記保護される装置の第2インスタンスを有し、前記ESD保護装置が、前記第2装置端子に接続されたトリガ端子を有するESD保護回路を更に有し、確認された臨界電流が、前記入力パッドから前記保護される装置に流れるとともに、前記ESD保護回路に直接的又は間接的に接続された第2装置端子から出力して、前記ESD保護回路の始動を補助するESD保護装置を製造する方法を提供する。
接続ラインによって入力パッドに接続された基板上の保護される装置の第1インスタンスを設け、
静電放電を前記入力パッドに印加して、静電放電電流を、前記保護される装置に流し、
前記保護される装置の第1装置端子から第2装置端子まで流れる前記静電放電電流の臨界経路を確認し、
接続ラインによって前記入力パッドに接続された前記基板上の前記保護される装置の第2インスタンスを有し、前記ESD保護装置が、前記第2装置端子に接続されたトリガ端子を有するESD保護回路を更に有し、確認された臨界電流が、前記入力パッドから前記保護される装置に流れるとともに、前記ESD保護回路に直接的又は間接的に接続された第2装置端子から出力して、前記ESD保護回路の始動を補助するESD保護装置を製造する方法を提供する。
本発明を更によく理解するために、添付図面を参照しながら実施の形態を例示して説明する。
図面は線形的であり、寸法通りではない。異なる図面において同一構成要素に同一参照番号を付す。
半導体装置は入力パッド2を有する。図1は一つの入力パッドのみを示すが、一般的には更に多くの入力パッドが存在する。保護される装置は、入力パッド2に接続される。本例では、装置6は、入力パッド2と地面24との間に直接接続されるが、他の配置において、装置6の他の構成要素及び形態が存在してもよい。
ESD保護回路4も入力パッド2に接続される。本例では、このESD保護回路をSCR型の回路とするが、本発明は、他の適切な回路と連動する。
ESD保護回路4は、入力パッド2及び装置6と同じ基板8の上に集積される。本例では、装置6は、基板8のエッジから離間して配置される。入力パッド2は、便宜上基板8のエッジに配置され、ESD保護回路4は、入力パッド2に近接して配置され、その結果、ESD保護回路4は、装置6を損傷することなくパッドにESDを放電することができる。入力パッド2は、電気的な相互接続である入力ライン10によって装置6に接続される。
装置6のリーク電流経路14は、静電放電の臨界経路を見つけるための実験を行うことによって確認される。ESDの臨界経路は、損傷が生じる電流の経路である。例えば、上記例において、装置が故障したときにゲート−ドレイン間の電流経路を許容するようゲート/ドレイン接合が故障する。本文において、「故障」は、ゲート−ドレイン間の許容できないリーク電流が生じることを意味する。したがって、ESDの臨界経路は、ゲートからドレインまでの経路となる。
実験は、ESD保護回路4を装置6に接続することなく、場合によってはESD保護回路4をまったく有することなく基板8の装置6の第1インスタンスにESD放電を印加する。ESDがパッドに印加され、その結果、ESDが装置6に生じて損傷が加えられる。装置6は、電流経路を確認するために調べられる。放電の電流経路が典型的には破壊的であるので、電流経路を確認できるようにする必要がある。
リーク電流経路は、入力パッド2から装置6の入力端子16及び端子18を抜けた経路である。装置の端子18は、相互接続ライン12によってトリガ端子20に接続され、その結果、リーク電流が生じる場合には、リーク電流がトリガ端子20に供給される。
本実施の形態において、ESD保護回路4は、通常、大きな電圧パルスがパッドに生じるときに始動する。ESD保護回路4のトリガ端子20に供給されるリーク電流も、パッドに加えられる電圧を消失するよう回路を始動することができる。リーク電流が電圧パルスによる始動を向上するので、始動を行う両機構が協働することができる。実際には、静電パルスが入力パッド2に印加される場合、パッドの電圧は、リーク電流経路14にリーク電流が流れるので上昇し、二つの始動機構が実際に協働することができる。
本発明は、種々のESD保護回路4を用いてあらゆる適切な装置6を保護するよう作用することができる。
図2は、本発明の特定の回路への適用を示す。装置6をJFETとし、そのソース30は地面24に接続され、そのドレインは、入力パッド2に接続された入力端子16としての役割を果たし、そのゲートは、リーク電流が通過する端子18としての役割を果たす。
発明者は、この装置に対するESDの臨界経路14を、既に説明したように実験的に調べ、JFETのドレインからソースまでが臨界経路であると決定した。
本実施の形態のESD保護回路を、入力パッド2の付近の入力ライン10と地面24との間に接続されたSCR回路とする。npnバイポーラトランジスタ32及びpnpバイポーラトランジスタ34を、第1抵抗36及び第2抵抗38とともに用いる。
詳細に説明すると、第1ノード40は入力パッド2に接続され、第2ノード42はアース24に接続される。第1抵抗36は第1ノードと第3ノード44との間に接続される。pnpバイポーラトランジスタ34のコレクタは第3ノード44に接続され、そのエミッタは第2ノード42に接続され、そのベースは第4ノード46に接続される。npnバイポーラトランジスタ32のコレクタは第4ノード46に接続され、そのベースは第2ノード44に接続され、そのエミッタは第1ノード40に接続される。
第4ノード46はESD入力端子20に接続される。
使用に際し、JFET6からのリーク電流が第4ノード46に供給されたpnpトランジスタ34をオンに切り替え、第1抵抗36を流れる電流を引き出し、npnトランジスタ32をオンに切り替える。したがって、リーク電流は両方のバイポーラトランジスタ32,34をオンに切り替えてパッド2の静電放電をESD保護回路4を通じて放電し、装置6を損なわないことを保証できる。実際には、この動作は、SCR EDS保護回路4のオンへの切替を迅速に行うためにSCR ESD保護回路4の通常のオンへの切替とともに行う。このように始動を向上することによって、付加されるあらゆるESDからの装置6で消失されるエネルギーを減少し、したがって、ESDに対する集積回路の抵抗を向上する。
SCRを用いたJFETを保護するこのタイプの装置で実験を行った。7kVを超えるHBM電圧が得られた。比較例において、JFETのEDSの臨界経路がSCRに接続されていない装置で実験を行った。この例では、250VのHBM電圧が得られた。したがって、本発明を用いることによって、著しく向上したHBM電圧が得られた。
特定の実施の形態を説明したが、本発明は、これらの実施の形態に限定されるものではなく、本発明を他の装置及び放電回路に適用することができる。
技術を、例えば、ESD保護装置として機能するNPNバイポーラトランジスタを始動するのに用いることができる。更に迅速にトランジスタをオンに切り替えるために、電流ライン12をバイポーラトランジスタのベースに接続することができる。EDS保護装置を通常のESD保護装置にする必要はなく、電流ライン12上の信号によってオンに切り替えることができる高出力装置とすることができる。高出力装置を、例えば、バイポーラトランジスタを用いたダーリントン段又はパワーMOSFETとすることができる。
例えば、特定の実施の形態において、リーク電流それ自体を静電保護回路に直接供給することができる。これは簡単かつ迅速であり、必要以上の追加の回路を必要としない。しかしながら、他の実施の形態において、リーク電流を検出回路素子で検出することができ、信号、例えば、電圧信号を、ESD保護回路4に供給することができる。
Claims (8)
- 入力パッド(2)と、
前記入力パッド(2)に接続された第1装置端子(16)及び前記第1装置端子(16)から第2装置端子(18)までの静電放電臨界経路(14)を有する保護される装置(6)と、
前記入力パッド(2)に接続され、静電放電保護を開始するトリガ端子(20)を有する静電放電保護回路(4)とを具え、
前記第2装置端子(18)が前記トリガ端子(20)に接続されて、前記保護される装置(6)のリーク電流が静電放電保護を行い又は補助するESD保護装置。 - 請求項1記載のESD保護装置において、単一の半導体基板(8)の上で、
前記静電保護回路(4)が、前記入力パッド(2)に隣接して配置され、
前記保護される装置(6)が、前記静電保護回路(4)に比べて前記入力パッド(2)から離れて配置され、
前記第2装置端子(18)が、電流トリガライン(12)により前記トリガ端子(20)に接続されたことを特徴とするESD保護装置。 - 請求項1又は2記載のESD保護装置において、前記静電放電保護回路(4)を、前記入力パッド(2)に接続されたシリコン制御整流器としたことを特徴とするESD保護装置。
- 請求項3記載のESD保護装置において、前記シリコン制御整流器(4)が、
前記入力パッド(2)に接続された第1ノード(40)と、
地面(24)に接続された第2ノード(42)と、
前記第1ノード(40)と第3ノード(44)との間に接続された第1抵抗(36)と、
コレクタ及びエミッタが前記第3ノード(44)と第2ノード(42)との間に接続されるとともにベースが第4ノード(46)に接続された第1バイポーラトランジスタ(34)と、
前記第4ノード(46)と前記第2ノード(42)との間に接続された第2抵抗(38)と、
コレクタ及びエミッタが前記第1ノード(40)と前記第4ノード(46)との間に接続されるとともにベースが前記第3ノード(44)に接続された第2バイポーラトランジスタ(32)とを具え、
前記第1及び第2バイポーラトランジスタ(32,34)のうちの一方をnpnトランジスタとし、前記第1及び第2バイポーラトランジスタ(32,34)のうちの他方をpnpトランジスタとし、
前記トリガ端子(20)が前記第3ノード(44)又は前記第4ノード(46)に接続されたことを特徴とするESD保護装置。 - 請求項1から4のうちのいずれか1項に記載のESD保護装置において、前記保護される装置(6)を、ソース(30)、ゲート(18)及びドレイン(16)を有する電界効果トランジスタ(FET)とし、前記ソース及び前記ドレイン(30,16)のうちの一方を、前記入力パッド(2)に接続された前記第1装置端子(16)とし、前記ゲートを、前記静電放電保護回路(4)の前記トリガ端子(20)に接続された前記第2装置端子(18)としたことを特徴とするESD保護装置。
- ESD保護装置を設計し及び製造する方法であって、
接続ライン(10)によって入力パッド(2)に接続された基板(8)上の保護される装置の第1インスタンスを設け、
静電放電を前記入力パッド(2)に印加して、静電放電電流(14)を、前記保護される装置に流し、
前記保護される装置(6)の第1装置端子(16)から第2装置端子(18)まで流れる前記静電放電電流(14)の臨界経路を確認し、
接続ラインによって前記入力パッド(2)に接続された前記基板(8)上の前記保護される装置(6)の第2インスタンスを有し、前記ESD保護装置が、前記第2装置端子に接続されたトリガ端子(20)を有するESD保護回路(4)を更に有し、確認された臨界電流(14)が、前記入力パッド(2)から前記保護される装置(6)に流れるとともに、前記ESD保護回路(4)に直接的又は間接的に接続された第2装置端子(18)から出力して、前記ESD保護回路(4)の始動を補助するESD保護装置を製造する方法。 - 請求項6記載の方法において、前記ESD保護装置を製造するステップで、前記ESD保護回路(4)の始動を補助するようリーク電流を前記ESD保護回路(4)に流すために前記第2装置端子を前記トリガ端子(20)に接続することを特徴とする方法。
- 請求項6又は7記載の方法において、前記ESD保護回路をSCR回路とすることを特徴とする方法。
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Families Citing this family (8)
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US8634172B2 (en) * | 2010-05-18 | 2014-01-21 | International Business Machines Corporation | Silicon controlled rectifier based electrostatic discharge protection circuit with integrated JFETs, method of operation and design structure |
US8373956B2 (en) * | 2010-11-11 | 2013-02-12 | International Business Machines Corporation | Low leakage electrostatic discharge protection circuit |
US10103540B2 (en) | 2014-04-24 | 2018-10-16 | General Electric Company | Method and system for transient voltage suppression devices with active control |
US9806157B2 (en) | 2014-10-03 | 2017-10-31 | General Electric Company | Structure and method for transient voltage suppression devices with a two-region base |
US9355971B1 (en) * | 2015-06-23 | 2016-05-31 | Alpha And Omega Semiconductor Incorporated | EOS protection for integrated circuits |
TWI695559B (zh) * | 2018-12-20 | 2020-06-01 | 大陸商北京集創北方科技股份有限公司 | 靜電放電防護電路、感測裝置及電子裝置 |
KR20220073008A (ko) * | 2020-11-26 | 2022-06-03 | 삼성전자주식회사 | 정전기 방전 특성의 대칭적 모델링을 위한 전계 효과 트랜지스터의 모델링 회로 및 이를 이용한 집적 회로의 설계 방법 |
US11418027B1 (en) * | 2021-04-07 | 2022-08-16 | Winbond Electronics Corp. | Electrostatic discharge protection circuit |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5452171A (en) * | 1992-06-15 | 1995-09-19 | Hewlett-Packard Company | Electrostatic discharge protection circuit for integrated circuits |
TW421874B (en) * | 1998-01-09 | 2001-02-11 | Winbond Electronics Corp | Integrated structure for output buffer and silicon controlled rectifier |
TW457689B (en) * | 2000-01-11 | 2001-10-01 | Winbond Electronics Corp | High current ESD protection circuit |
US6850397B2 (en) * | 2000-11-06 | 2005-02-01 | Sarnoff Corporation | Silicon controlled rectifier electrostatic discharge protection device for power supply lines with powerdown mode of operation |
US6803633B2 (en) * | 2001-03-16 | 2004-10-12 | Sarnoff Corporation | Electrostatic discharge protection structures having high holding current for latch-up immunity |
US7589944B2 (en) * | 2001-03-16 | 2009-09-15 | Sofics Bvba | Electrostatic discharge protection structures for high speed technologies with mixed and ultra-low voltage supplies |
US20030076636A1 (en) * | 2001-10-23 | 2003-04-24 | Ming-Dou Ker | On-chip ESD protection circuit with a substrate-triggered SCR device |
FR2838881B1 (fr) * | 2002-04-22 | 2004-07-09 | St Microelectronics Sa | Dispositif de protection contre des decharges electrostatiques comprenant plusieurs thyristors |
JP2006080160A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Toshiba Corp | 静電保護回路 |
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