JP2008513552A - 処理剤物質 - Google Patents
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Abstract
【選択図】なし
Description
発明の分野
本発明は、有機シリケートガラス誘電体膜のための処理剤組成物に関する。特に本発明は、前もって存在している炭素含有成分の少なくとも一部を除去し、それによって疎水性が低下した膜を生じさせるようなやり方でエッチングまたはアッシング(灰化:ashing)の処理を受けた有機シリケートガラス誘電体膜の表面に疎水性を回復させるための方法に関する。これらの処理された膜は、集積回路(「ICs」)などの半導体デバイスの製造における絶縁材料として、これらの膜における低い誘電率と安定した誘電特性を保証するために用いられる。組成物は、反応性の離脱基を有するシラン系単量体、酸、塩基、オニウム化合物、脱水剤、およびこれらの組合せであってもよい活性化剤、および溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物を含む。
半導体デバイスがより低い技術ノード(node)に調整されるとき、RC遅延を軽減するために、ますます低い誘電率(k)に対する要件が確認されてきた。同様に、集積回路における特徴寸法が小さくされるとき、電力消費と信号のクロストークに伴う問題を解決することがますます困難になってきた。密度の高い無機材料において低いk(2.6〜3.0)を達成するために、分極率を下げてkを低下させるために、炭素が添加されてきた。極度に低いk(<2.4)を有する材料を実現するためには、この高炭素の高密度基材に気孔が加えられる。炭素と気孔を導入することによってkが低下したが、ラインプロセスの上地工程(back end)の際の新しい難題も確認された。特に、エッチングとアッシングの際に、反応性気体が高密度材料の表面において炭素を損傷することが見出された。多孔質による低いkは、反応性のエッチングガスとアッシングガスにより膜を通しての拡散のためにさらに破局的な影響を受け、それによって内部の気孔壁においてかなりの程度の損傷が生じる。ひとたび炭素が損傷されると、膜は再ヒドロキシル化して、水素が水と結合する。水は70の誘電率を有するので、多孔質材料に吸収され、そして高密度材料に吸着される少量の部分は、誘電率を著しく高くする。また、多孔質材料においては、銅アニールの後に高い引張り応力の領域のためにボイドが生じやすく、それによってデバイスの歩留まりが全く得られない。これらのいずれも許容することはできず、採用できない材料がもたらされる。
本発明は有機シリケートガラス誘電体膜を処理するための組成物を提供し、この組成物は次のものを含む:
a)シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分、および
b)活性化剤。
a)有機シリケートガラス誘電体膜を形成すること;
b)有機シリケートガラス誘電体膜を、シリル化によってこの有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分および活性化剤を含む組成物と接触させること。
a)シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分、および
b)活性化剤。
a)基板上に有機シリケートガラス誘電体膜を形成すること;
b)有機シリケートガラス誘電体膜を、前もって存在している炭素含有成分の少なくとも一部を除去するかあるいは前記有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を低下させる少なくとも一つの工程に供すること;
c)有機シリケートガラス誘電体膜を、前もって存在している炭素含有成分の少なくとも一部を回復させるかあるいは有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を増大させるのに有効な濃度および時間で、組成物と接触させること、このとき前記組成物は、シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分および活性化剤を含む。
a)基板上に有機シリケートガラス誘電体膜を付着させること;
b)有機シリケートガラス誘電体膜にビアとトレンチのパターンを形成し、そして有機シリケートガラス誘電体膜を、前もって存在している炭素含有成分の少なくとも一部を除去するかあるいは前記有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を低下させる少なくとも一つの処理に供すること;
c)有機シリケートガラス誘電体膜を、有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を増大させるのに有効な濃度および時間で、処理剤組成物と接触させること、このとき処理剤組成物は、シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分および活性化剤を含む。
本発明の趣旨において、低い誘電率、典型的には3未満の誘電率を有する誘電体材料が特に望ましく、その理由は、それらは典型的により速い信号の伝搬を許容し、容量効果と導線間のクロストークを低減させ、また集積回路を動作させるためのより低い電圧を許容するからである。本発明は多孔質および非孔質の誘電体材料の両者に関するものである。低い誘電率を有する一つの材料はシリカであり、これは発泡誘電体材料として適用されうる。可能な限り低い誘電率の値を得るために、シリカの誘電体材料の中に空気が導入される。空気は1の誘電率を有し、ナノポーラスすなわちナノメートルのスケールの気孔構造の形態のシリカ誘電体材料の中に空気が導入されると、比較的低い誘電率(「k」)が達成される。「シリカ」という用語が用いられるときに「SiO2」官能基について特に言及されない限り、例えば多孔質および非孔質の誘電体膜に関してここで用いられる「シリカ」という用語は、有機または無機ガラス系材料、例えば1以上のシリコン系誘電体先駆物質を含むあらゆる適当な出発物質から本発明の方法によって調製される誘電体膜を指していることを意味する、と理解されるべきである。また、ここでの単数形の用語の使用はそれに限定されることを意図しているのではなく、適当な場合は、例えば本発明の複数の典型的なプロセスが、「膜」を適用しそして製造するものとして説明されてもよいことを包含していて、所望により、記載され、例示され、そして特許請求される方法によって製造することのできる複数の膜が意図されている、と理解されるべきである。シリカの誘電体材料に関してここで用いられる「膜(film)」という用語は、そのようなシリカの誘電体材料が場合により用いられているあらゆるその他の適当な形態または形状のものを包含していることが意図されている。ナノポーラスシリカは魅力的なものであり、というのは、それは、現在用いられているスピン-オン-ガラス(「SOG」)や化学気相成長(「CVD」)シリカSiO2のために用いられるように、有機置換シラン、例えばテトラメトキシシラン(「TMOS」)および/またはテトラエトキシシラン(「TEOS」)を含めた類似の先駆物質を用いるからである。ここで用いられるとき、「ボイド」および「気孔」という用語は、主要部(mass)が気体で置換されているか、あるいは真空が生成する場所である自由容積を意味する。気体の組成は一般に重要ではなく、そして適当な気体としては、空気を含めた比較的純粋な気体およびそれらの混合物がある。ナノポーラスポリマーは多数の気孔を含んでいてもよい。気孔は典型的には球状であるが、しかし、その代わりにあるいは追加的に、管状、薄板状、平円盤状、またはその他の形状を含めたいかなる適当な形状を有していてもよい。気孔は多孔質ポリマーの中で均一にまたはランダムに分散されていてもよい。気孔はいかなる適当な直径を有していてもよい、と考えることもできる。さらに、少なくとも幾つかの気孔は隣りの気孔と接続していてもよく、それによってかなりの量の連結したすなわち「開放した」多孔性を有する構造が生成していてもよい、と考えられる。
[H-Si1.5]n[R-SiO1.5]m 式(1)
[H0.5-Si1.5-1.8]n[R0.5-1.0-SiO1.5-1.8]m 式(2)
[H0-1.0-Si1.5]n[R-SiO1.5]m 式(3)
[H-Si1.5]x[R-SiO1.5]y[SiO2]z 式(4)
ここで:
nとmの合計またはx、yおよびzの合計は約8〜約5000であり、mまたはyは炭素含有成分が約40パーセント未満の量(低有機物含有量=LOSP)または約40パーセントよりも多い量(高有機物含有量=HOSP)のいずれかで存在するように選択され、Rは置換および非置換の直鎖および枝分れアルキル(メチル、エチル、ブチル、プロピル、ペンチル)、アルケニル基(ビニル、アリル、イソプロペニル)、シクロアルキル、シクロアルケニル基、アリール(フェニル基、ベンジル基、ナフタレニル基、アントラセニル基およびフェナントレニル基)、およびこれらの混合物から選択され、またこのとき炭素含有置換基の特定のモルパーセントは出発物質の量の比率の関数である。幾つかのLOSPの態様において、炭素含有置換基のモルパーセントが約15モルパーセント〜約25モルパーセントの範囲にあるときに特に有利な結果が得られる。幾つかのHOSPの態様において、炭素含有置換基のモルパーセントが約55モルパーセント〜約75モルパーセントの範囲にあるときに有利な結果が得られる。
I(1−13):(1)[-SiR2NR’-]n、ここでn>2、そして環状であってもよい;(2)R3SiNR’SiR3;(3)(R3Si)3N;(4)R3SiNR’2;(5)R2Si(NR’)2;(6)RSi(NR’)3;(7)RxSiCly;(8)RxSi(OH)y;(9)R3SiOSiR’3;(10)RxSi(OR’)y;(11)RxSi(OCOR’)y;(12)RxSiHy;(13)RxSi[OC(R’)=R”]4-x またはこれらの組合せ、
ここで、xは1〜3の整数であり、yは1〜3の整数であってy=4−xとなり、各々のRは水素と疎水性有機成分から独立して選択される。R基は好ましくは独立してアルキル、アリールおよびこれらの組合せからなる有機成分である。R’ 基はH、アルキル、アリール、またはCOR、CONR、CO2Rなどのカルボニルであってもよい。R” はアルキルまたはCOR、CONR、CO2Rなどのカルボニルであってもよい。
RxSi(OH2)4-x
ここで、x=1〜3であり、そして各々のRは独立して選択される成分であって、例えばHおよび/またはアルキル、アリールまたはこれらの誘導体などの有機成分である。Rがアルキルであるとき、そのアルキル成分は場合によって置換されているかまたは非置換のものであり、また直鎖、枝分れまたは環状のものであってよく、そして好ましくはサイズがC1〜約C18の範囲またはそれ以上であり、より好ましくはC1〜約C8である。Rがアリールであるとき、そのアリール成分は、好ましくは、場合によって置換されているかまたは非置換のものである単一の芳香環からなり、そしてサイズがC5〜約C18の範囲またはそれ以上であり、より好ましくはC5〜約C8である。さらなる選択として、アリール成分はヘテロアリールである。
RxSi(OR’)4-x
ここで、Rは独立して選択される成分であって、例えばHおよび/またはアルキル、アリールまたはこれらの誘導体などの有機成分であり、R’ は独立して選択されるアルキル成分またはアリール成分である。RまたはR’ がアルキルであるとき、そのアルキル成分は場合によって置換されているかまたは非置換のものであり、また直鎖、枝分れまたは環状のものであってよく、そして好ましくはサイズがC1〜約C18の範囲またはそれ以上であり、より好ましくはC1〜約C8である。RまたはR’ がアリールであるとき、そのアリール成分は、好ましくは、場合によって置換されているかまたは非置換のものである単一の芳香環からなり、そしてサイズがC5〜約C18の範囲またはそれ以上であり、より好ましくはC5〜約C8である。さらなる選択として、アリール成分はヘテロアリールである。従って、少なくとも一つのRが有機のものであるという条件で、R基はH、メチル、エチル、プロピル、フェニル、および/またはこれらの誘導体から独立して選択される。一つの態様において、両方のR基はメチルであり、そして三官能価表面改質剤がメチルトリメトキシシランである。
RxSi(NR2)4-x
ここで、x=1〜3であり、Rは独立してH、アルキルおよび/またはアリールである。いずれのRもアルキルおよび/またはアリールであるとき。好ましい態様において、RはH、CH3、C6H5から選択され、そしてR2とR3は両方ともCH3である。従って、三官能価処理剤としては例えば、トリス(ジメチルアミノ)メチルシラン、トリス(ジメチルアミノ)フェニルシラン、および/またはトリス(ジメチルアミノ)シランがある。さらに、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ビスジメチルアミノジメチルシラン、およびビスジエチルアミノジメチルシランなどの二置換シランを用いてもよい。
RxSi(ON=CR2)4-x または RxSi[OC(R’)=R”]4-x
ここで、x=1〜3であり、R基は独立してH、アルキルおよび/またはアリールであり、R’ はH、アルキル、アリール、アルコキシまたはアリロキシであってよく、そしてR” はアルキルまたはカルボニルであってよい。従って、改質剤としては例えば、メチルトリス(メチルエチルケトオキシム)シランまたは2-トリメチルシロキシペント-2-エン-4-オンのそれぞれがある。
RxSi(NCOR2)4-x または RxSi(NCO) 4-x
ここで、x=1〜3であり、R基は独立してH、アルキルおよび/またはアリールである。従って、表面改質剤としては例えば、ジメチルシリルジホルムアミド、ジメチルシリルジアセトアミド、ジメチルシリルジイソシアネート、トリメチルシリルトリイソシアネートがある。
RxSiCl4-x
ここで、x=1〜3であり、R基は独立してH、アルキルまたはアリールである。一つの好ましい態様において、Rx はCH3である。従って、三官能価表面改質剤としては例えば、メチルトリクロロシランがある。
(R1)xSi(OCOR2)y
好ましくは、xは1〜2の値の整数であり、xとyは同じか異なっていてもよく、そしてyは約2〜約3またはそれ以上の整数である。
1.257gの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)の1%溶液、44.24g の2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)、および4.49gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)が、60mlの粒子非含有(particle free)高密度ポリエチレンボトルの中で混合された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.1μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質SiCOHフィルム(〜4000Å厚さのNANOGLASS-E(登録商標))の上に、およそ2.0〜3.0mlの配合物が堆積された。堆積した後、ウエーハは2500rpmで30秒間回転されて、膜が形成された。膜は高温で1分間加熱され、これはN2雰囲気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
(2-ヘプタノン+ヘキサノール)
0.0126gの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)が1.247gの1-ヘキサノールに添加され、この混合物は溶解するまで攪拌され、次いで44.24g の2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)および4.49gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)が、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で添加された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.1μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質SiCOHフィルム(〜4000Å厚さのNANOGLASS-E(登録商標))の上に、およそ2.0〜3.0mlの配合物が堆積された。堆積した後、ウエーハは2500rpmで30秒間回転されて、膜が形成された。膜は高温で1分間加熱され、これはN2中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
ジメチルスルホキシド
0.0126gの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)が1.247gのジメチルスルホキシドに添加され、この混合物は溶解するまで攪拌され、次いで44.24g の2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)および4.49gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)が、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で添加された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.1μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質SiCOHフィルム(〜4000Å厚さのNANOGLASS-E(登録商標))の上に、およそ2.0〜3.0mlの配合物が堆積された。堆積した後、ウエーハは2500rpmで30秒間回転されて、膜が形成された。膜は高温で1分間加熱され、これはN2中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
アセト酢酸エチル
0.0126gの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)が45.49gのアセト酢酸エチルに添加され、この混合物は溶解するまで攪拌され、次いで4.49gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)が、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で添加された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.1μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質SiCOHフィルム(〜4000Å厚さのNANOGLASS-E(登録商標))の上に、およそ2.0〜3.0mlの配合物が堆積された。堆積した後、ウエーハは2500rpmで30秒間回転されて、膜が形成された。膜は高温で1分間加熱され、これはN2中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
(2-ヘプタノン+ジメチルスルホキシド)
0.0126gの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)が1.247gのジメチルスルホキシドに添加され、この混合物は溶解するまで攪拌され、次いで44.24g の2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)および4.49gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)が、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で添加された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.1μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質SiCOHフィルム(〜4000Å厚さのNANOGLASS-E(登録商標))の上に、およそ2.0〜3.0mlの配合物が堆積された。堆積した後、ウエーハは2500rpmで30秒間回転されて、膜が形成された。膜は高温で1分間加熱され、これはN2中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
(2-ヘプタノン+アセト酢酸エチル)
0.0126gの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)が1.247gのアセト酢酸エチルに添加され、この混合物は溶解するまで攪拌され、次いで44.24g の2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)および4.49gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)が、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で添加された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.1μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質SiCOHフィルム(〜4000Å厚さのNANOGLASS-E(登録商標))の上に、およそ2.0〜3.0mlの配合物が堆積された。堆積した後、ウエーハは2500rpmで30秒間回転されて、膜が形成された。膜は高温で1分間加熱され、これはN2中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
(2-ヘプタノン+アセト酢酸エチル)
37.6gのアセト酢酸エチル中の酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)の0.255%溶液(0.359gの酢酸テトラメチルアンモニウム+140.00gのアセト酢酸エチル)に84.90gの2-ヘプタノン中の酢酸テトラブチルアンモニウムの0.5%溶液(2.175gの酢酸テトラブチルアンモニウム+435gの2-ヘプタノン)、1242.50gの2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)が添加され、そして135gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)が、2Lの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で添加された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質は0.04ミクロンフィルター(Meissner CSPM 0.04-442)を用いて2回のろ過に供された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質SiCOHフィルム(〜4000Å厚さのNANOGLASS-E(登録商標))の上に、およそ2.0〜3.0mlの配合物が堆積された。堆積した後、ウエーハは2500rpmで30秒間回転されて、膜が形成された。膜は高温で1分間加熱され、これはN2中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
(2-ヘプタノン+アセト酢酸エチル)
37.6gのアセト酢酸エチル中の酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)の0.255%溶液(0.359gの酢酸テトラメチルアンモニウム+140.00gのアセト酢酸エチル)に84.90gの2-ヘプタノン中の酢酸テトラブチルアンモニウムの0.5%溶液(2.175gの酢酸テトラブチルアンモニウム+435.00gの2-ヘプタノン)、1242.50gの2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)が添加され、そして135.00gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)が、2Lの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で添加された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質は0.04ミクロンフィルター(Meissner CSPM 0.04-442)を用いて2回のろ過に供された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質SiCOHフィルム(〜4000Å厚さのNANOGLASS-E(登録商標))の上に、およそ2.0〜3.0mlの配合物が堆積された。堆積した後、ウエーハは2500rpmで30秒間回転されて、膜が形成された。膜は高温で1分間加熱され、これはN2中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
9.72gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)、26.0gの3-ペンタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)、280ppmの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、先駆物質が製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質誘電体フィルム(〜4000Å厚さ)の上に、およそ2.0〜3.0mlの先駆物質が堆積された。堆積した後、膜は2500rpmで30秒間回転されて、全ての揮発性種が除去された。膜は高温で1分間加熱され、これは空気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
9.72gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)、26.0gの2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)、280ppmの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、先駆物質が製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質フィルム(〜4000Å厚さ)の上に、およそ2.0〜3.0mlの先駆物質が堆積された。堆積した後、膜は2500rpmで30秒間回転されて、全ての揮発性種が除去された。膜は高温で1分間加熱され、これは空気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
9.72gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)、26.0gの酢酸プロピレングリコールメチルエーテル(General Chemical., Hollister, CA 95023)、280ppmの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、先駆物質が製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質フィルム(〜4000Å厚さ)の上に、およそ2.0〜3.0mlの先駆物質が堆積された。堆積した後、膜は2500rpmで30秒間回転されて、全ての揮発性種が除去された。膜は高温で1分間加熱され、これは空気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
9.72gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)、26.0gの2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)、2800ppmの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、先駆物質が製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質フィルム(〜4000Å厚さ)の上に、およそ2.0〜3.0mlの先駆物質が堆積された。堆積した後、膜は2500rpmで30秒間回転されて、全ての揮発性種が除去された。膜は高温で1分間加熱され、これは空気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
2.65gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)、26.0gの2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)、2800ppmの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、先駆物質が製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質フィルム(〜4000Å厚さ)の上に、およそ2.0〜3.0mlの先駆物質が堆積された。堆積した後、膜は2500rpmで30秒間回転されて、全ての揮発性種が除去された。膜は高温で1分間加熱され、これは空気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
2.65gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)、26.0gの2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)、4200ppmの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、先駆物質が製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質フィルム(〜4000Å厚さ)の上に、およそ2.0〜3.0mlの先駆物質が堆積された。堆積した後、膜は2500rpmで30秒間回転されて、全ての揮発性種が除去された。膜は高温で1分間加熱され、これは空気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
0.810gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)、26.0gの2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)、4200ppmの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、先駆物質が製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質フィルム(〜4000Å厚さ)の上に、およそ2.0〜3.0mlの先駆物質が堆積された。堆積した後、膜は2500rpmで30秒間回転されて、全ての揮発性種が除去された。膜は高温で1分間加熱され、これは空気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
9.72gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)、26.0gの2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)、4200ppmの酢酸テトラメチルアンモニウム(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、先駆物質が製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質フィルム(〜4000Å厚さ)の上に、およそ2.0〜3.0mlの先駆物質が堆積された。堆積した後、膜は2500rpmで30秒間回転されて、全ての揮発性種が除去された。膜は高温で1分間加熱され、これは空気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
酢酸テトラメチルアンモニウムを含む処理剤とこれを含まない処理剤の効果を比較するために、二つの先駆物質が製造された。一つの先駆物質は、9.72gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)、26.0gの3-ペンタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)、280ppmの酢酸テトラメチルアンモニウム(TMAA)(Aldrich Chemical Company, Milwaukee, WI 53201)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。第二の先駆物質は、9.72gのジメチルジアセトキシシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)、および26.0gの2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した別々の多孔質フィルム(〜4000Å厚さ)の上に、およそ2.0〜3.0mlの各々の先駆物質が堆積された。堆積した後、各々の膜は2500rpmで30秒間回転されて、全ての揮発性種が除去された。各々の膜は高温で1分間加熱され、これは空気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
3.25gのヘキサメチルシクロトリシラザン(Gelest, Tullytone, PA 19007)および25.0gの2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、先駆物質が製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質フィルム(〜4000Å厚さ)の上に、およそ2.0〜3.0mlの先駆物質が堆積された。堆積した後、膜は2500rpmで30秒間回転されて、全ての揮発性種が除去された。膜は高温で1分間加熱され、これは空気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
6.5gのビス(ジメチルアミノ)ジメチルシラン(Gelest, Tullytone, PA 19007)および22.0gの2-ヘプタノン(Ultra Pure Solutions Inc., Castroville, CA 85012)を、60mlの粒子非含有高密度ポリエチレンボトルの中で加えることによって、先駆物質が製造された。この溶液は1分間激しく混合された。混合した後、この希釈された先駆物質はテフロン(登録商標)フィルターを用いて手作業で0.2μmまでろ過された。8インチのエッチングされ(C4F8、20秒)そしてアッシングされて(プラズマO2、20秒)炭素が減少した多孔質フィルム(〜4000Å厚さ)の上に、およそ2.0〜3.0mlの先駆物質が堆積された。堆積した後、膜は2500rpmで30秒間回転されて、全ての揮発性種が除去された。膜は高温で1分間加熱され、これは空気中で125℃、200℃および350℃のそれぞれにおいて行われた。次の結果が観察された。
Claims (52)
- 有機シリケートガラス誘電体膜を処理するための組成物であって:
a)シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分、および
b)活性化剤、
以上の成分を含む組成物。 - 溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物をさらに含み、その溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物は、シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分と活性化剤を可溶性にし、そして補助溶媒は主溶媒よりも高い蒸気圧および/または沸点を有する、請求項1に記載の組成物。
- 活性化剤は1以上の酸、塩基、オニウム化合物、脱水剤、水酸化物、またはこれらの組合せを含む、請求項1に記載の組成物。
- 溶媒または主溶媒は3-ペンタノン、2-ヘプタノン、ガンマブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸、またはこれらの組合せを含む、請求項2に記載の組成物。
- 補助溶媒は主溶媒よりも約1℃〜約100℃高い沸点を有する、請求項2に記載の組成物。
- 補助溶媒は主溶媒よりも約10℃〜約70℃高い沸点を有する、請求項2に記載の組成物。
- 補助溶媒は主溶媒よりも約20℃〜約50℃高い沸点を有する、請求項2に記載の組成物。
- 溶媒または主溶媒は、1以上のケトン、エーテル、エステル、炭化水素、アルコール、カルボン酸、アミン、アミド、またはこれらの組合せを含む、請求項2に記載の組成物。
- 溶媒または補助溶媒は、エチルアセトアセテート、メチルアセトアセテート、t-ブチルアセトアセテート、2-メトキシエチルアセトアセテート、アリルアセトアセテート、ベンジルアセトアセテート、ノニルアセテート、2-(2-ブトキシエトキシ)エチルアセテート、ペンチルアセテート、2-ブトキシエチルアセテート、2-エチルヘキシルアセテート、アルファ-メチルベンジルアセテート、ジメチルスルホキシド、N-メチル-N-メトキシアセトアミド、N,N-ジエチル-2-フェニルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジフェニルアセトアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド、N,N-ジメチルイソブチルアミド、1,2-ジクロロベンゼン、クロロトルエン、1-ヘキサノール、2-エチル-1-ヘキサノール、5-メチル-1-ヘキサノール、6-フェニル-1-ヘキサノール、1-ヘプタノール、2-ヘプタノール、4-ヘプタノール、4-メチル-3-ヘプタノール、6-メチル-2-ヘプタノール、2,6-ジメチルヘプタノール、1-オクタノール、またはこれらの組合せを含む、請求項2に記載の組成物。
- 補助溶媒はエチルアセトアセテート、ジメチルスルホキシド、1-ヘキサノール、N,N-ジメチルアセトアミド、またはこれらの組合せを含む、請求項2に記載の組成物。
- 混合物は2-ヘプタノンとエチルアセトアセテートを含む、請求項2に記載の組成物。
- 主溶媒は、混合物の約0.1〜約99.9重量パーセントの量で混合物中に存在する、請求項2に記載の組成物。
- 補助溶媒は、混合物の約0.1〜約99.9重量パーセントの量で混合物中に存在する、請求項2に記載の組成物。
- 活性化剤は、1以上のアミン、アンモニウム化合物、ホスホニウム化合物、スルホニウム化合物、ヨードニウム化合物、水酸化物、アルコキシド、酸ハロゲン化物、シラノレート、アミン塩、またはこれらの組合せを含む、請求項1に記載の組成物。
- 活性化剤は、1以上のアルキルアミン、アリールアミン、アルコールアミン、またはこれらの組合せを含む、請求項1に記載の組成物。
- 活性化剤は、1以上の第一アミン、第二アミン、第三アミン、アンモニア、第四アンモニウム塩、またはこれらの組合せを含む、請求項1に記載の組成物。
- 活性化剤は、酢酸テトラメチルアンモニウム、酢酸テトラブチルアンモニウム、またはこれらの組合せを含む、請求項1に記載の組成物。
- 活性化剤は、塩酸、硫酸、硝酸、ホウ酸、エチル硫酸、クロロ硫酸、塩化ホスホニトリル、塩化鉄、塩化亜鉛、塩化スズ、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、塩化鉄六水和物、またはこれらの組合せを含む、請求項1に記載の組成物。
- 活性化剤は、1以上のハロゲン化リン、五酸化リン、フェニルホスホン酸ジクロリド、およびフェニルホスホロジクロリデート、またはこれらの組合せを含む、請求項1に記載の組成物。
- 活性化剤は、水酸化ナトリウム、水酸化セシウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化アンモニウム、またはこれらの組合せを含む、請求項1に記載の組成物。
- シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分は、式[-SiR2NR’-]n(ここでn>2、そして環状であってもよい);R3SiNR’SiR3;(R3Si)3N;R3SiNR’2;R2Si(NR’)2;RSi(NR’)3;RxSiCly;RxSi(OH)y; R3SiOSiR’3;RxSi(OR’)y;RxSi(OCOR’)y;RxSiHy;RxSi[OC(R’)=R”]4-x またはこれらの組合せを有する少なくとも一つの化合物を含み、
ここで、xは1〜3の整数であり、
yは1〜3の整数であってy=4−xとなり、
各々のRは水素と疎水性有機成分から独立して選択され、
R’ は水素または有機成分であり、そして
R” はアルキルまたはカルボニル基である、
請求項1に記載の組成物。 - シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分は、アセトキシトリメチルシラン、アセトキシシラン、ジアセトキシシラン、トリアセトキシシラン、ジアセトキシジメチルシラン、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ヘキサメチルジシラザン、2-トリメチルシロキシペント-2-エン-4-オン、n-(トリメチルシリル)アセトアミド、2-(トリメチルシリル)酢酸、n-(トリメチルシリル)イミダゾール、トリメチルシリルプロピオレート、トリメチルシリル(トリメチルシロキシ)アセテート、ノナメチルトリシラザン、ヘキサメチルジシロキサン、トリメチルシラノール、トリエチルシラノール、トリフェニルシラノール、t-ブチルジメチルシラノール、ジフェニルシランジオール、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリクロロシラン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ビスジメチルアミノジメチルシラン、ビスジエチルアミノジメチルシラン、トリス(ジメチルアミノ)メチルシラン、トリス(ジメチルアミノ)フェニルシラン、トリス(ジメチルアミノ)シラン、ジメチルシリルジホルムアミド、ジメチルシリルジアセトアミド、ジメチルシリルジイソシアネート、トリメチルシリルトリイソシアネート、またはこれらの組合せを含む、請求項1に記載の処理剤組成物。
- シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分はジメチルジアセトキシシランを含み、そして活性化剤は酢酸テトラメチルアンモニウムを含む、請求項1に記載の処理剤組成物。
- シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分はジメチルジアセトキシシランを含む、請求項1に記載の組成物。
- シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分はジメチルジアセトキシシランを含み、そして活性化剤は酢酸テトラメチルアンモニウムと酢酸テトラブチルアンモニウムの組合せを含む、請求項1に記載の組成物。
- 腐食抑制剤をさらに含む、請求項1に記載の組成物。
- a)有機シリケートガラス誘電体膜を形成すること;
b)有機シリケートガラス誘電体膜を、シリル化によってこの有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分および活性化剤を含む組成物と接触させること;
以上の工程を含む方法。 - 組成物は溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物をさらに含み、その溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物は、シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分と活性化剤を可溶性にし、そして補助溶媒は主溶媒よりも高い蒸気圧および/または沸点を有する、請求項27に記載の方法。
- (i)溶媒または主溶媒は、1以上のケトン、エーテル、エステル、炭化水素、アルコール、カルボン酸、アミド、またはこれらの組合せを含み、そして
(ii)溶媒または補助溶媒は、エチルアセトアセテート、メチルアセトアセテート、t-ブチルアセトアセテート、2-メトキシエチルアセトアセテート、アリルアセトアセテート、ベンジルアセトアセテート、ノニルアセテート、2-(2-ブトキシエトキシ)エチルアセテート、ペンチルアセテート、2-ブトキシエチルアセテート、2-エチルヘキシルアセテート、アルファ-メチルベンジルアセテート、ジメチルスルホキシド、N-メチル-N-メトキシアセトアミド、N,N-ジエチル-2-フェニルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1,2-ジクロロベンゼン、クロロトルエン、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジフェニルアセトアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド、N,N-ジメチルイソブチルアミド、1-ヘキサノール、2-エチル-1-ヘキサノール、5-メチル-1-ヘキサノール、6-フェニル-1-ヘキサノール、1-ヘプタノール、2-ヘプタノール、4-ヘプタノール、4-メチル-3-ヘプタノール、6-メチル-2-ヘプタノール、2,6-ジメチルヘプタノール、1-オクタノール、またはこれらの組合せを含む、
請求項28に記載の方法。 - 活性化剤は1以上の酸、塩基、オニウム化合物、脱水剤、またはこれらの組合せを含む、請求項278に記載の方法。
- 有機シリケートガラス誘電体膜は多孔質である、請求項27に記載の方法。
- 有機シリケートガラス誘電体膜は実質的に非孔質である、請求項27に記載の方法。
- シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分はジメチルジアセトキシシランを含む、請求項27に記載の方法。
- シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分はジメチルジアセトキシシランを含み、そして活性化剤は酢酸テトラメチルアンモニウムと酢酸テトラブチルアンモニウムの組合せを含む、請求項27に記載の方法。
- 処理剤組成物は液体、蒸気、気体、およびプラズマからなる群から選択される状態で有機シリケートガラス誘電体膜と接触する、請求項27に記載の方法。
- 処理剤組成物は超臨界溶媒を含む、請求項27に記載の方法。
- 基板上の有機シリケートガラス誘電体膜の中で応力によって誘起されるボイドが形成されるのを防ぐための方法であって、その有機シリケートガラス誘電体膜は前もって存在している炭素含有成分の少なくとも一部を除去するかあるいは前記有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を低下させる少なくとも一つの工程に供されたものであり、前記の方法は、前もって存在している炭素含有成分の少なくとも一部を除去するかあるいは前記有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を低下させる少なくとも一つの工程に供された後に、有機シリケートガラス誘電体膜を、炭素含有成分の疎水性の少なくとも幾分かを回復させるかあるいは有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を増大させるのに有効な濃度および時間で、組成物と接触させることを含み、このとき前記組成物は次の成分:
a)シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分、および
b)活性化剤
を含む、前記方法。 - 組成物は溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物をさらに含み、その溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物は、シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分と活性化剤を可溶性にし、そして補助溶媒は主溶媒よりも高い蒸気圧および/または沸点を有する、請求項37に記載の方法。
- (i)溶媒または主溶媒は、1以上のケトン、エーテル、エステル、炭化水素、アルコール、カルボン酸、アミド、またはこれらの組合せを含み、そして
(ii)溶媒または補助溶媒は、エチルアセトアセテート、メチルアセトアセテート、t-ブチルアセトアセテート、2-メトキシエチルアセトアセテート、アリルアセトアセテート、ベンジルアセトアセテート、ノニルアセテート、2-(2-ブトキシエトキシ)エチルアセテート、ペンチルアセテート、2-ブトキシエチルアセテート、2-エチルヘキシルアセテート、アルファ-メチルベンジルアセテート、ジメチルスルホキシド、N-メチル-N-メトキシアセトアミド、N,N-ジエチル-2-フェニルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1,2-ジクロロベンゼン、クロロトルエン、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジフェニルアセトアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド、N,N-ジメチルイソブチルアミド、1-ヘキサノール、2-エチル-1-ヘキサノール、5-メチル-1-ヘキサノール、6-フェニル-1-ヘキサノール、1-ヘプタノール、2-ヘプタノール、4-ヘプタノール、4-メチル-3-ヘプタノール、6-メチル-2-ヘプタノール、2,6-ジメチルヘプタノール、1-オクタノール、またはこれらの組合せを含む、
請求項40に記載の方法。 - 活性化剤は1以上の酸、塩基、オニウム化合物、脱水剤、またはこれらの組合せを含む、請求項39に記載の方法。
- マイクロ電子デバイスを形成するための方法であって:
a)基板上に有機シリケートガラス誘電体膜を形成すること;
b)有機シリケートガラス誘電体膜を、前もって存在している炭素含有成分の少なくとも一部を除去するかあるいは前記有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を低下させる少なくとも一つの工程に供すること;
c)有機シリケートガラス誘電体膜を、前もって存在している炭素含有成分の少なくとも一部を回復させるかあるいは有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を増大させるのに有効な濃度および時間で、組成物と接触させること、このとき前記組成物は、シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分および活性化剤を含む;
以上の工程を含む、前記方法。 - 組成物は溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物をさらに含み、その溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物は、シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分と活性化剤を可溶性にし、そして補助溶媒は主溶媒よりも高い蒸気圧および/または沸点を有する、請求項41に記載の方法。
- (i)溶媒または主溶媒は、1以上のケトン、エーテル、エステル、炭化水素、アルコール、カルボン酸、アミド、またはこれらの組合せを含み、そして
(ii)溶媒または補助溶媒は、エチルアセトアセテート、メチルアセトアセテート、t-ブチルアセトアセテート、2-メトキシエチルアセトアセテート、アリルアセトアセテート、ベンジルアセトアセテート、ノニルアセテート、2-(2-ブトキシエトキシ)エチルアセテート、ペンチルアセテート、2-ブトキシエチルアセテート、2-エチルヘキシルアセテート、アルファ-メチルベンジルアセテート、ジメチルスルホキシド、N-メチル-N-メトキシアセトアミド、N,N-ジエチル-2-フェニルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1,2-ジクロロベンゼン、クロロトルエン、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジフェニルアセトアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド、N,N-ジメチルイソブチルアミド、1-ヘキサノール、2-エチル-1-ヘキサノール、5-メチル-1-ヘキサノール、6-フェニル-1-ヘキサノール、1-ヘプタノール、2-ヘプタノール、4-ヘプタノール、4-メチル-3-ヘプタノール、6-メチル-2-ヘプタノール、2,6-ジメチルヘプタノール、1-オクタノール、またはこれらの組合せを含む、
請求項42に記載の方法。 - 有機シリケートガラス誘電体膜を加熱する後続の工程をさらに含む、請求項42に記載の方法。
- マイクロ電子デバイスを形成するための方法であって:
a)基板上に有機シリケートガラス誘電体膜を付着させること;
b)有機シリケートガラス誘電体膜にビアとトレンチのパターンを形成し、そして有機シリケートガラス誘電体膜を、前もって存在している炭素含有成分の少なくとも一部を除去するかあるいは前記有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を低下させる少なくとも一つの処理に供すること;
c)有機シリケートガラス誘電体膜を、有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を増大させるのに有効な濃度および時間で、処理剤組成物と接触させること、このとき処理剤組成物は、シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分および活性化剤を含む;
以上の工程を含む、前記方法。 - 下記の後続の工程:
d)場合によって、約80℃〜約400℃において約10秒以上でベークを行うこと;次いで、
e)ビアおよび/またはトレンチを金属で埋めること;そして次に、
f)場合によって、金属をアニール処理に供すること;
をさらに含む、請求項45に記載の方法。 - 未反応の処理剤組成物、反応生成物およびこれらの混合物を除去する後続の工程をさらに含む、請求項45に記載の方法。
- 組成物は溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物をさらに含み、その溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物は、シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分と活性化剤を可溶性にし、そして補助溶媒は主溶媒よりも高い蒸気圧および/または沸点を有する、請求項45に記載の方法。
- (i)溶媒または主溶媒は、1以上のケトン、エーテル、エステル、炭化水素、アルコール、カルボン酸、アミド、またはこれらの組合せを含み、そして
(ii)溶媒または補助溶媒は、エチルアセトアセテート、メチルアセトアセテート、t-ブチルアセトアセテート、2-メトキシエチルアセトアセテート、アリルアセトアセテート、ベンジルアセトアセテート、ノニルアセテート、2-(2-ブトキシエトキシ)エチルアセテート、ペンチルアセテート、2-ブトキシエチルアセテート、2-エチルヘキシルアセテート、アルファ-メチルベンジルアセテート、ジメチルスルホキシド、N-メチル-N-メトキシアセトアミド、N,N-ジエチル-2-フェニルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1,2-ジクロロベンゼン、クロロトルエン、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジフェニルアセトアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド、N,N-ジメチルイソブチルアミド、1-ヘキサノール、2-エチル-1-ヘキサノール、5-メチル-1-ヘキサノール、6-フェニル-1-ヘキサノール、1-ヘプタノール、2-ヘプタノール、4-ヘプタノール、4-メチル-3-ヘプタノール、6-メチル-2-ヘプタノール、2,6-ジメチルヘプタノール、1-オクタノール、またはこれらの組合せを含む、
請求項48に記載の方法。 - 活性化剤は1以上の酸、塩基、オニウム化合物、脱水剤、またはこれらの組合せを含む、請求項49に記載の方法。
- 請求項46に記載の方法によって製造されたマイクロ電子デバイス。
- 前もって存在している炭素含有成分の少なくとも一部を除去するかあるいは前記有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を低下させる工程は、エッチング液による処理、アッシング処理、湿式ストリッピング処理、洗浄処理、原子層堆積、物理蒸着、および化学気相成長の処理のうちの少なくとも一つを含む、請求項46に記載の方法。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012124533A (ja) * | 2008-07-11 | 2012-06-28 | Air Products & Chemicals Inc | シャロートレンチアイソレーション膜のためのアミノシラン |
JP2012520312A (ja) * | 2009-03-10 | 2012-09-06 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | low−kシリル化用の環式アミノ化合物 |
US9859111B2 (en) | 2009-12-11 | 2018-01-02 | Toshiba Memory Corporation | Apparatus and method of treating surface of semiconductor substrate |
KR101847033B1 (ko) | 2015-11-30 | 2018-04-09 | 김태관 | 은 코팅용 용액 조성물 및 이를 이용한 은 코팅 방법 |
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Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5019714B2 (ja) * | 2005-01-31 | 2012-09-05 | 大陽日酸株式会社 | 低誘電率膜のダメージ回復法 |
US7807219B2 (en) * | 2006-06-27 | 2010-10-05 | Lam Research Corporation | Repairing and restoring strength of etch-damaged low-k dielectric materials |
JP5820688B2 (ja) * | 2011-03-23 | 2015-11-24 | 株式会社Kri | 多糖類の溶解に用いられる溶媒ならびに該溶媒を用いた成形体および多糖類誘導体の製造方法 |
US9029171B2 (en) | 2012-06-25 | 2015-05-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Self repairing process for porous dielectric materials |
JP7194372B2 (ja) | 2017-06-09 | 2022-12-22 | 株式会社 高秋化学 | 樹脂成形品の被膜形成方法 |
JP7292020B2 (ja) * | 2018-08-27 | 2023-06-16 | 東京応化工業株式会社 | 表面処理剤及び表面処理方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001118842A (ja) * | 1999-10-15 | 2001-04-27 | Nec Corp | 半導体装置とその製造方法 |
JP2002353308A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-06 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2003282698A (ja) * | 2002-03-22 | 2003-10-03 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
JP2004511896A (ja) * | 2000-06-23 | 2004-04-15 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 誘電フィルム及び材料における疎水性を回復する方法 |
JP2004153147A (ja) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 低誘電率非晶質シリカ系被膜の形成方法および該方法より得られる低誘電率非晶質シリカ系被膜 |
JP2007508691A (ja) * | 2003-10-08 | 2007-04-05 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | シリル化剤を用いる低誘電率誘電材料の損傷の修復 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6448331B1 (en) * | 1997-07-15 | 2002-09-10 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Alkoxysilane/organic polymer composition for thin insulating film production and use thereof |
US6395651B1 (en) * | 1998-07-07 | 2002-05-28 | Alliedsignal | Simplified process for producing nanoporous silica |
US6879046B2 (en) * | 2001-06-28 | 2005-04-12 | Agere Systems Inc. | Split barrier layer including nitrogen-containing portion and oxygen-containing portion |
JP4246640B2 (ja) * | 2002-03-04 | 2009-04-02 | 東京エレクトロン株式会社 | ウェハ処理において低誘電率材料を不動態化する方法 |
US7381441B2 (en) * | 2002-04-10 | 2008-06-03 | Honeywell International Inc. | Low metal porous silica dielectric for integral circuit applications |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001118842A (ja) * | 1999-10-15 | 2001-04-27 | Nec Corp | 半導体装置とその製造方法 |
JP2004511896A (ja) * | 2000-06-23 | 2004-04-15 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 誘電フィルム及び材料における疎水性を回復する方法 |
JP2002353308A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-06 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2003282698A (ja) * | 2002-03-22 | 2003-10-03 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
JP2004153147A (ja) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 低誘電率非晶質シリカ系被膜の形成方法および該方法より得られる低誘電率非晶質シリカ系被膜 |
JP2007508691A (ja) * | 2003-10-08 | 2007-04-05 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | シリル化剤を用いる低誘電率誘電材料の損傷の修復 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012124533A (ja) * | 2008-07-11 | 2012-06-28 | Air Products & Chemicals Inc | シャロートレンチアイソレーション膜のためのアミノシラン |
JP2012520312A (ja) * | 2009-03-10 | 2012-09-06 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | low−kシリル化用の環式アミノ化合物 |
US9859111B2 (en) | 2009-12-11 | 2018-01-02 | Toshiba Memory Corporation | Apparatus and method of treating surface of semiconductor substrate |
US9991111B2 (en) | 2009-12-11 | 2018-06-05 | Toshiba Memory Corporation | Apparatus and method of treating surface of semiconductor substrate |
KR101847033B1 (ko) | 2015-11-30 | 2018-04-09 | 김태관 | 은 코팅용 용액 조성물 및 이를 이용한 은 코팅 방법 |
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WO2021176913A1 (ja) * | 2020-03-04 | 2021-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 処理液、処理液収容体 |
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