JP2008504320A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. ビスフェノールＡの調製において生成される部分ストリームであって、４０〜９０質量％のフェノールと、５〜４０質量％のビスフェノールＡと、フェノールとアセトンとを反応させてビスフェノールＡを得る反応により生成される５〜４０質量％の第二成分と、を含む部分ストリームからフェノールを連続的に分離するためのプロセスであって、
   ａ）上記部分ストリームを、少なくとも５つの分離理論段を含む蒸留塔に供給する工程と、
   ｂ）上記蒸留塔において、フェノールをその上部で蒸留する工程と、
   ｃ）当該プロセスから、残留生成物の第１の部分を放出する工程と、
   ｄ）滞留時間コンテナに連続的に上記残留生成物の第２の部分を移送し、上記滞留時間コンテナにおいて、上記残留生成物に含まれる第二成分を、１９０℃より高い温度、少なくとも１２０分の水力学的滞留時間、酸触媒存在下で、少なくとも部分的に異性化し、その後上記蒸留塔に再び戻す工程と、を含み、
   上記滞留時間コンテナに供給される残留生成物部分の質量流量が、工程ａ）において蒸留塔に導入される部分ストリームの質量流量の３０％より大きいことを特徴とするプロセス。
2. 上記工程ｄ）において酸触媒として硫酸が使用されることを特徴とする請求項１記載のプロセス。
3. 上記工程ｄ）における異性化が２００℃より高い温度で実行されることを特徴とする請求項１又は２記載のプロセス。
4. 上記工程ｄ）における異性化が少なくとも４時間の水力学的滞留時間で実行されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプロセス。
5. 上記工程ｄ）において、９９．８質量％より高い純度を有するフェノールが得られることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプロセス。