JP2008502123A - 垂直型トレンチ・トランジスタの形成方法(垂直パス型トランジスタdramセルの設計におけるデバイス縮小化のための自己整合型ドレイン/チャネル接合) - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 垂直型ディープトレンチ・トランジスタを形成する方法が提供される。ドープされた半導体基板内に側壁を有するディープトレンチが形成される。半導体基板は、カウンタードープされたドレイン領域をその表面内に含み、側壁に並んだチャネルを含む。ドレイン領域は上部レベル及び下部レベルを有する。カウンタードープされたソース領域がチャネルの下方の側壁と並置された基板内に形成される。ゲート酸化物層が、ゲート導体と並置されたトレンチの側壁上に形成される。ドレイン領域の下部レベルの下方にゲート導体を陥凹させるステップに続いて、垂直線に対して角度θ+δで、ソース領域より下方のチャネル内にカウンタードーパントの傾斜イオン注入を行うステップと、垂直線に対して角度θで、ソース領域の下方のチャネル内にドーパントの傾斜イオン注入を行うステップとを行う。
【選択図】 図8
Description
(1)シリコン基板15で開始し、薄い熱酸化物(2−20nm)から成るパッド構造体38が、該シリコン基板15上に成長される。窒化シリコン(50−200nm)から成る堆積されたパッド・マスキング層59、緻密化(densified)されたTEOS酸化物(又はHDP酸化物)層(50−500nm)が堆積される。次いで、BSG酸化物の上部層(50−500nm)が堆積される。
(2)次に、マスキング層59及びパッド構造体38にディープトレンチDTのパターンを開口し、Pドープされたシリコン基板15を約7マイクロメートルの深さまで異方性エッチングすることによって、通常実施される方法で、ディープトレンチ型ストレージ・キャパシタCを形成する。
(3)多数の公知の方法のいずれか1つ(例えば、ASGガラスからの外方拡散、気相ドーピングなど)を用いて、ストレージ・ディープトレンチDTの下部を通して基板15の周囲領域にN型ドーパントを拡散させることによって、N+カウンタードープされた埋め込みプレート42を形成する。
(4)シリコン酸化物から成る共形ストレージ・ノード誘電体層44が、ディープトレンチDTの内壁上に薄膜として形成される。
(5)ディープトレンチDTが、ストレージ・ノード11の下部を形成するN+ドープされたポリシリコンで充填され、次に、該ディープトレンチDTが陥凹されて、該ディープトレンチDTの内壁上に共形ポリシリコン緩衝(buffered)LOCOSカラー12を(又は、上部(大体上部1マイクロメートル)において、ストレージ・ノード誘電体層44及びストレージ・ノード11の下部の上方に他のタイプの誘電体カラー12を)形成する。ディープトレンチDTの側壁の上部は、Pドープされたシリコン基板15に対して露出されたままであり、誘電体カラー12の上部がディープトレンチDTの上部より下方に十分陥凹されたままにする。
(6)次いで、ディープトレンチDTが、N+ドープされたポリシリコンで再充填され、パッド・マスキング層59のレベルまで平坦化され、ストレージ・ノード11の形成を完了する。次いで、ストレージ・ノード11のポリシリコンが、シリコン基板の表面より低い深さまで陥凹され、そこで、誘電体カラー12の上方のストレージ・ノード11の上面内に埋め込みストラップ13を形成することが望ましい。本発明によって、従来技術よりこの陥凹部を約5nm浅くすることができる。このことはまた、約5nmのチャネル長の低減、及び20%の駆動電流の改善につながる。
(7)標準的な埋め込みストラップ・プロセスを用いて、ストレージ・ディープトレンチの側壁を通る、ストラップ13のN+ポリシリコンからのN型ドーパントの埋め込みストラップの外方拡散により、Pドープされたシリコン基板15内に埋め込みストラップ外方拡散領域ODを形成する。標準的なストラップ・プロセスは、ストラップ13が形成されることになる地点より上方のディープトレンチDTの側部から、カラー酸化物12を除去し、ドープされたストラップ・ポリシリコン13を堆積させ、エッチングすることを含む。ストラップ・ポリシリコン13は、ディープトレンチDT内のストレージ・ノード11のN+ドープされたポリシリコン(キャパシタのストレージ・ノード電極)を、ストレージ・ディープトレンチに隣接するPドープされた単結晶シリコン基板15に電気的に架橋する。その後、高温で処理する間に、N+ドープされたポリシリコン・ストラップ13からのN型ドーパントの埋め込みストラップ外方拡散により、埋め込みストラップのN+ドープされた外方拡散領域ODが形成される。
(8)トレンチ上部酸化物(TTO)層14が、シリコン酸化物のHDP堆積によって、陥凹されたN+ドープされたポリシリコン・ストラップ領域14の上面に形成される。
(9)シリコン酸化物の共形薄膜が、ディープトレンチDTの露出された側壁上に成長され、垂直型アレイFETトランジスタ17のトレンチ・ゲート酸化物層24を形成する。
(10)N+ポリシリコン・ゲート導体(GC)16が堆積され、TTO層14より上方のトレンチの開口を充填する。
(11)次に、N+ドープされたポリシリコンGC16が、Pドープされたシリコン基板15の上面に形成されていたTTO層14の表面まで平坦化される。
(12)この時点までに、プロセスは、図1及び図2並びに図3−図7のものと類似しているが、ここで、ゲート導体GC16が、ビット線拡散(XA)領域26の下部レベルより下方に凹状にされる。このために、標準的なエッチング技術を用いて、アレイ・ポリシリコンGC16が陥凹され、シリコン基板15のXA領域26の下面より下方の線40で示される深さまで達する陥凹部Rを形成し、ゲート導体GC16の上部とチャネルCHとの間のFETトランジスタ17のゲート酸化物層24を露出させる。その他の点では、チャネルCHの長さをスケーリングするためにより浅いデバイス陥凹部深さを用い得ることを除いて、処理は標準的なものである。
(13)図8におけるように、陥凹部Rの露出されたゲート酸化物層24を通して、ディープトレンチの側壁内に、垂直線に対して角度θ+δでN型ドーパント種の傾斜イオン注入が行われ、N型ドーピング・ポケットを形成する。N型ドーパントは、リン(P)又はヒ素(As)のいずれにすることもできるが、質量が重いため、ヒ素が好ましいドーパントである。ドーパント32をドープするP型Vt調整の過補償を回避するために、チャネル領域CHへのヒ素のイオン注入についての好ましいエネルギーは、約10keVである。
その後、ゲート導体16の陥凹されたポリシリコン、ディープトレンチDTの側壁、及びゲート酸化膜層24を通して、垂直線に対して角度θでP型ドーパント32の別の傾斜イオン注入が行われる。両方の注入ともゲート導体16の端部と自己整合されるので、p−n接合が形成され、ゲート端部にも自己整合される。注入種、エネルギー、及びドーズ量は、接合が陥凹されたGC端部のレベル40のすぐ下に配置され、しきい値(スレショルド)電圧Vtがサブスレショルド漏れ電流を抑制するのに十分なものであるように選択される。角度θは約7°であり、角度θ+δは約30°であることが好ましい。
(14)ステップ(13)に続いて、標準的な処理技術を適用して、アクティブ領域(AA)を形成し、浅いトレンチ分離(STI:Shallow Trench Isolation)を充填し、ハードマスクの除去後にN型ドーパントをドープすることによってXA領域26を形成し、ワード線、ビット線スタッド(stud)、層間誘電体、及び付加的な配線レベル等を形成する。代替的に、P型イオン32及びN型イオン34をチャネル領域内に傾斜イオン注入する前に、XA領域26を形成することができる。
Claims (20)
- 表面と、ドーパントがドープされた半導体基板内に形成された側壁を備えるトレンチとを有する前記半導体基板内に、前記基板の前記表面内にあり、上部レベル及び下部レベルを有するカウンタードープされたドレイン領域と、前記側壁に並んだチャネルと、前記チャネルの下方で前記側壁に並置されて該基板内に形成されたカウンタードープされたソース領域と、前記トレンチの該側壁上に形成されたゲート酸化物層と、該トレンチ内に形成されたゲート導体とを有する垂直型トレンチ・トランジスタを形成する方法であって、
前記ゲート導体を前記半導体基板の前記表面より下方に陥凹させる(くぼませる)ステップと、
垂直線に対して角度θ+δで、前記ドレイン領域の位置より下方の前記チャネル内にカウンタードーパントの傾斜イオン注入を行うステップと、
垂直線に対して角度θで、前記ドレイン領域の前記位置より下方の前記チャネル内にドーパントの傾斜イオン注入を行うステップと
を含む方法。 - 前記ゲート導体を陥凹させる前記ステップが、前記ドレイン領域の前記下部レベルより下方に達する、請求項1に記載の方法。
- 前記角度θが約7°であり、前記角度θ+δが約30°である、請求項1に記載の方法。
- 前記カウンタードーパントが、ヒ素及びリンから成る群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記カウンタードーパントが、約10keVのエネルギーで注入されるヒ素イオンを含む、請求項3に記載の方法。
- 前記角度θが約7°であり、前記角度θ+δが約30°である、請求項5に記載の方法。
- 前記トレンチがディープトレンチ・キャパシタを含み、
前記ゲート導体を陥凹させる前記ステップが前記ドレイン領域の前記下部レベルより下方に達する、請求項1に記載の方法。 - 前記角度θが約7°であり、前記角度θ+δが約30°である、請求項7に記載の方法。
- 表面と、半導体基板内に形成された側壁を備えるディープトレンチとを有する前記半導体基板内に、
ノードと、ストラップと、カラーと、前記ディープトレンチの内側を覆うノード誘電体とで充填されたディープトレンチ・キャパシタと、ドーパントがドープされ、前記ディープトレンチを取り囲む、前記半導体基板内に形成された埋め込みプレートとを含むディープトレンチと、
前記基板の前記表面内にあり、上部レベル及び下部レベルを有するカウンタードープされたビット線拡散領域と、
前記側壁に並んだチャネルと、
前記チャネルの下方で前記側壁に並置されて該基板内に形成されたカウンタードープされたソース領域と、
前記トレンチの前記側壁上に形成されたゲート酸化物層と、
前記トレンチ内に形成されたゲート導体と、
を有する垂直型ディープトレンチ・トランジスタを形成する方法であって、
前記ゲート導体を前記半導体基板の前記表面より下方に陥凹させるステップと、
垂直線に対して角度θ+δで、ドレイン領域の位置より下方の前記チャネル内にカウンタードーパントの傾斜イオン注入を行うステップと、
垂直線に対して角度θで、前記ビット線拡散領域の前記位置より下方の前記チャネル内にドーパントの傾斜イオン注入を行うステップと
を含む方法。 - 前記ゲート導体を陥凹させる前記ステップが、前記ビット線拡散領域の前記下部レベルより下方に達する、請求項9に記載の方法。
- 前記角度θが約7°であり、前記角度θ+δが約30°である、請求項9に記載の方法。
- 前記カウンタードーパントが、ヒ素及びリンから成る群から選択される、請求項9に記載の方法。
- 前記カウンタードーパントが、約10keVのエネルギーで注入されるヒ素イオンを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記角度θが約7°であり、前記角度θ+δが約30°である、請求項12に記載の方法。
- 表面と、半導体基板内に形成される側壁を備えるディープトレンチと、前記半導体基板の表面上に並置されたビット線拡散領域とを有する半導体基板内に、垂直型ディープトレンチ・トランジスタを形成する方法であって、
ドープされた半導体基板内に上部及び下部を有するディープトレンチを形成するステップと、
前記基板内に前記ディープトレンチの前記下部を取り囲むカウンタードープされた埋め込みプレートを形成するステップと、
前記ディープトレンチの内壁上にストレージ・ノード誘電体層を共形薄膜として形成するステップと、
前記ディープトレンチをカウンタードープされた初期のストレージ・ノード導体で充填するステップと、
前記初期のストレージ・ノード導体を陥凹させるステップと、
前記ディープトレンチの前記上部の下方に陥凹された誘電体カラーを形成するステップであって、該ディープトレンチの露出された内壁上に前記誘電体カラーを共形膜として形成する、ステップと、
初期のストレージ・ノード導体と接触して上方にカウンタードープされた相補的ストレージ・ノード導体で前記ディープトレンチを充填するステップと、
前記ディープトレンチ内の埋め込みストラップのレベルまで前記相補的ストレージ・ノード導体を陥凹させるステップと、
前記相補的ストレージ・ノード導体から前記基板へのドーパントの拡散により、カウンタードープされた埋め込みストラップのカウンタードープされた外方拡散を形成するステップと、
前記相補的ストレージ・ノード導体を覆ってトレンチ上部酸化物層を形成するステップと、
前記ディープトレンチの露出された内壁と共形なゲート酸化物層を形成するステップと、
前記トレンチ上部酸化物層の上に前記ディープトレンチ内のゲート導体を形成するステップと、
前記ゲート導体を前記ビット線拡散領域の下面より下方に陥凹させるステップと、
垂直線に対して角度θ+δで、前記ビット線拡散領域の位置より下方のチャネル内にカウンタードーパントの傾斜イオン注入を行うステップと、
垂直線に対して角度θで、ドレイン領域の前記位置より下方の前記チャネル内にドーパントの傾斜イオン注入を行うステップと
を含む方法。 - 前記角度θが約7°であり、前記角度θ+δが約30°である、請求項15に記載の方法。
- 前記カウンタードーパントが、ヒ素及びリンから成る群から選択される、請求項15に記載の方法。
- 前記角度θが約7°であり、前記角度θ+δが約30°である、請求項17に記載の方法。
- 前記カウンタードーパントが、約10keVのエネルギーで注入されたヒ素イオンを備える、請求項17に記載の方法。
- 前記角度θが約7°であり、前記角度θ+δが約30°である、請求項19に記載の方法。
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US8298908B2 (en) * | 2010-02-11 | 2012-10-30 | International Business Machines Corporation | Structure and method for forming isolation and buried plate for trench capacitor |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH034560A (ja) * | 1989-05-22 | 1991-01-10 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 電界効果トレンチ・トランジスタ・アレイの製造方法 |
JP2001189456A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-07-10 | Seiko Instruments Inc | 縦形mosトランジスタ及びその製造方法 |
JP2001244433A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-09-07 | Promos Technol Inc | Dramおよびその製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5021355A (en) * | 1989-05-22 | 1991-06-04 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating cross-point lightly-doped drain-source trench transistor |
JP2837821B2 (ja) * | 1994-04-15 | 1998-12-16 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 半導体デバイス |
DE19742397C2 (de) * | 1997-09-25 | 2000-07-06 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterstruktur mit einer Mehrzahl von Gräben |
DE19742403A1 (de) * | 1997-09-25 | 1999-04-08 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterstruktur |
DE19908809B4 (de) * | 1999-03-01 | 2007-02-01 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung einer MOS-Transistorstruktur mit einstellbarer Schwellspannung |
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US6414347B1 (en) * | 2001-01-10 | 2002-07-02 | International Business Machines Corporation | Vertical MOSFET |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH034560A (ja) * | 1989-05-22 | 1991-01-10 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 電界効果トレンチ・トランジスタ・アレイの製造方法 |
JP2001189456A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-07-10 | Seiko Instruments Inc | 縦形mosトランジスタ及びその製造方法 |
JP2001244433A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-09-07 | Promos Technol Inc | Dramおよびその製造方法 |
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