JP2008302448A - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】積層体4となったガラス基板1の端面を研磨した後、積層体を水槽71に浸漬し、ガラス基板の表面を吸着パッド75で吸着して積層体から分離すると同時に、ガラス基板と積層体との間に水圧を加えることにより、ガラス基板と積層体との間にあるスペーサ3を除去する。
【選択図】図6
Description
ガラス基板をスペーサを介在させて複数重ね合わせて積層体とし、該積層体となった前記ガラス基板の端面を研磨する工程を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記ガラス基板の端面を研磨した後、前記積層体を水槽に浸漬し、前記積層体の上部にあるガラス基板の表面を吸着手段で吸着して前記積層体から分離すると同時に、前記吸着手段で吸着したガラス基板と前記積層体との間に水圧を加えることにより、前記吸着手段で吸着したガラス基板と前記積層体との間にあるスペーサを除去することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
前記吸着手段が、吸着パッドであることを特徴とする1に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
前記スペーサの比重が1未満であり、
前記水槽の水をオーバーフローさせ、前記水槽の表面に浮遊する分離されたスペーサを、オーバーフロー液と同時に別の水槽に回収することを特徴とする1又は2に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
1乃至3の何れか1項に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
4に記載の情報記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。
(ガラス溶融工程)
まず、ガラス溶融工程として、ガラス素材を溶融する。ガラス基板の材料としては、例えば、SiO2、Na2O、CaOを主成分としたソーダライムガラス;SiO2、Al2O3、R2O(R=K、Na、Li)を主成分としたアルミノシリケートガラス;ボロシリケートガラス;Li2O−SiO2系ガラス;Li2O−Al2O3−SiO2系ガラス;R’O−Al2O3−SiO2系ガラス(R’=Mg、Ca、Sr、Ba)などを使用することができる。中でも、アルミノシリケートガラスやボロシリケートガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため特に好ましい。
(プレス工程)
次に、プレス成形工程として、溶融ガラスを下型に流し込み、上型によってプレス成形して円板状のガラス基板前駆体を得る。なお、円板状のガラス基板前駆体は、プレス成形によらず、例えばダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。
(コアリング加工工程)
プレス成形したガラス基板前駆体は、コアリング加工工程で、中心部に穴を開ける。穴開けは、カッター部にダイヤモンド砥石等を備えたコアドリル等で研削することで中心部に孔を開ける。
(第1ラッピング工程)
次に、第1ラッピング工程として、ガラス基板の両表面を研磨加工し、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度および厚みを予備調整する。
(内・外径加工工程)
次に、内・外径加工工程として、ガラス基板の外周端面および内周端面を、例えば鼓状のダイヤモンド等の研削砥石により研削することで内・外径加工する。
(内周端面加工工程)
内・外径加工工程を終えたガラス基板を、複数積み重ねて、積層し、その状態で内周面の研磨加工を、内周端面研磨機を用いて研磨する。
(第2タッピング工程)
更に、ガラス基板の両表面を再び研磨加工して、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みを微調整する。
(外周端面加工工程)
次に、外周端面加工工程として、ガラス基板の外周端面を、研磨液を使用したブラシ研磨により面取り部の角部を曲面とし、また微細なキズ等を除去する。
(化学強化工程)
外周端面加工工程の次に、化学強化工程として、化学強化液にガラス基板を浸漬してガラス基板に化学強化層を形成する。化学強化層を形成することで耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させることができる。
(ポリッシング工程)
次に、研磨工程としてのポリッシング工程を行う。
(洗浄、検査工程)
第2ポリッシング工程の終了後、ガラス基板の洗浄及び検査を行い、情報記録媒体用ガラス基板が完成する。
ガラス材料としてTgが480℃のアルミノシリケートガラスを用い、溶融ガラスをプレス成形してブランク材(外径68mm、厚さ1.3mm)を作製した。
(2)コアリング工程
次に円筒状のダイヤモンド砥石を用いてガラス基板の中心部に円孔(直径18mm)を開けた。
(3)第1ラッピング工程
ガラス基板の両表面を研磨機(HAMAI社製)を用いて研磨した。
(4)内・外加工工程
鼓状のダイヤモンド砥石により内・外径加工をい、内径20mm、外径65mmとした。
(5)内周端面加工工程
内・外加工工程を終えて得られたガラス基板を100枚重ね、内周端面研磨機を用いて、内周端面を研磨した。
(6)第2ラッピング工程
ガラス基板の両表面を研磨機(HAMAI社製)を用いて研磨した。
(7)外周端面加工工程
第2ラッピング工程を終えて得られたガラス基板とスペーサを1枚ずつ交互に重ね、ガラス基板100枚とスペーサ100枚からなる積層体を作成した。この積層体を図5に示す外周端面研磨機50を用いて、外周端面を研磨した。この時のスペーサは、ポリプロピレン製で厚さ0.3mm、内径21mm、外径64mmのものを用いた。研磨機のブラシ毛は、直径0.2mmのナイロン繊維を用いた。研磨液は、粒径3μmの酸化セリウムを用いた。
(8)化学強化工程
次に、ガラス基板を化学強化処理液に浸漬して化学強化工程を行った。化学強化処理液には、硝酸カリウム(KNO3)と硝酸ナトリウム(NaNO3)の混合溶融塩を用いた。混合比は質量比で1:1とした。また、化学強化処理液の温度は400℃、浸漬時間は40分とした。
(9)ポリッシング工程
次に第1ポリッシング工程として、研磨機(HAMAI社製)を用い、パッドに硬度Aで80度の発泡ウレタンを用いた。研磨材は、平均粒径1.5μmの酸化セリウムを水に分散させてスラリー状にして用いた。水と研磨剤との混合比率は、2:8とした。荷重100g/cm2とし、上定盤の回転数30rpm、下定盤の回転数10rpmとした。研磨量を30μmとした。
2 磁性膜
3 スペーサ
4 積層体
10a 表主表面
10b 裏主表面
13 孔
14 外周端面
15 内周端面
41 ワークシャフト
50 外周端面研磨機
51 回転ブラシ
60 研磨ノズル
61 研磨液
70 スペーサ分離装置
71 第1の水槽
72 第2の水槽
73 ポンプ
74 パイプ
75 吸着パッド
76 吸引ヘッド
77 吸引ポンプ
78 吸引ノズル
79 ノズル
D 磁気ディスク
Claims (5)
- ガラス基板をスペーサを介在させて複数重ね合わせて積層体とし、該積層体となった前記ガラス基板の端面を研磨する工程を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記ガラス基板の端面を研磨した後、前記積層体を水槽に浸漬し、前記積層体の上部にあるガラス基板の表面を吸着手段で吸着して前記積層体から分離すると同時に、前記吸着手段で吸着したガラス基板と前記積層体との間に水圧を加えることにより、前記吸着手段で吸着したガラス基板と前記積層体との間にあるスペーサを除去することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記吸着手段が、吸着パッドであることを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記スペーサの比重が1未満であり、
前記水槽の水をオーバーフローさせ、前記水槽の表面に浮遊する分離されたスペーサを、オーバーフロー液と同時に別の水槽に回収することを特徴とする請求項1又は2に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1乃至3の何れか1項に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
- 請求項4に記載の情報記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。
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