JP2008277438A - Electronic component, substrate, and method of manufacturing electronic component and substrate - Google Patents

Electronic component, substrate, and method of manufacturing electronic component and substrate Download PDF

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丈司 小林
Kazunori Miyamoto
和徳 宮本
Takabumi Ogura
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic component with a photoelectric conversion element which can be reduced in size and manufacturing cost and can be improved in installation accuracy, to provide a substrate equipped with the electronic component, and also to provide methods of manufacturing the electronic component and the substrate. <P>SOLUTION: In the electronic component 1 equipped with the photoelectric conversion element (VCSEL) 10, a driving electrode formed in an edge portion of the surface whereon a light-emitting portion of the photoelectric conversion element 10 exists and an electrode for element connection formed in a light-transmitting member 20 so disposed as to face the surface whereon the light-emitting portion of the photoelectric conversion element 10 exists are laser-bonded via a conductive bonding material 40. On the surface of the light-transmitting member 20, an antireflection film 21 may be formed. On the photoelectric conversion element-side surface of the light-transmitting member 20, an interconnection 30 consisting of the electrode for element connection, an electrode for substrate connection, and an electrode connecting portion is formed. As a material of the interconnection 30, a material which allows easy transmission of laser light used for laser bonding (for example, aluminum, gold, or copper) can be used. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、電気信号に基づいて光を発する光電変換素子や光を受けて電気信号を出力する光電変換素子を備えた電子部品、その電子部品を備えた基板、並びに、それら電子部品及び基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a photoelectric conversion element that emits light based on an electric signal, an electronic component that includes a photoelectric conversion element that receives light and outputs an electric signal, a substrate including the electronic component, and the electronic component and the substrate. It relates to a manufacturing method.

この種の電子部品を構成する光電変換素子として、例えば、垂直共振器型面発光レーザ(VCSEL:Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser。以下、「VCSEL素子」という。)が知られている。このVCSEL素子は、化合物半導体を積層させて作製され、素子の基板面に対して垂直方向に光を共振させ、基板面に垂直な方向にレーザ光を出射させる面発光レーザである。このVCSEL素子は、製造工程が大量生産に適しているため低コストで製造でき、また、ビーム形状が円に近くファイバとの光結合も容易であるため、各種装置の光源として注目されている。   As a photoelectric conversion element constituting this type of electronic component, for example, a vertical-cavity surface-emitting laser (VCSEL: hereinafter referred to as “VCSEL element”) is known. This VCSEL element is a surface emitting laser that is manufactured by laminating compound semiconductors, resonates light in a direction perpendicular to the substrate surface of the element, and emits laser light in a direction perpendicular to the substrate surface. This VCSEL element is attracting attention as a light source for various devices because its manufacturing process is suitable for mass production and can be manufactured at low cost, and its beam shape is close to a circle and optical coupling with a fiber is easy.

従来、上記VCSEL素子を備えた電子部品は、図30に示すように樹脂製のパッケージ900の中にVCSEL素子10が装着され、VCSEL素子10の裏面のグランド電極がパッケージ900内面のグランド電極と接続されるとともに、VCSEL素子10の上面の駆動電極とパッケージ900の電極とがワイヤ901で接続される。そして、VCSEL素子10が大気にさらされないようにパッケージ900の開口を塞ぐ光透過部材としてのガラス板902が装着され、パッケージ90の裏面の電極と基板903の電極がはんだ904で接合される。   Conventionally, in the electronic component including the VCSEL element, the VCSEL element 10 is mounted in a resin package 900 as shown in FIG. 30, and the ground electrode on the back surface of the VCSEL element 10 is connected to the ground electrode on the inner surface of the package 900. At the same time, the drive electrode on the upper surface of the VCSEL element 10 and the electrode of the package 900 are connected by a wire 901. Then, a glass plate 902 as a light transmitting member that closes the opening of the package 900 is attached so that the VCSEL element 10 is not exposed to the atmosphere, and the electrode on the back surface of the package 90 and the electrode on the substrate 903 are joined by solder 904.

上記従来のVCSEL素子を備えた電子部品では、パッケージ900を用いるため、そのパッケージの分だけサイズが大きくなってしまうとともに、パッケージの材料費や金型を作製する費用がかかり製造コストが高くなってしまう。また、VCSEL素子10が、パッケージ900の内部に取り付けられるためその取り付け精度を確保することが難しい。
なお、このような問題は、上記VCSEL素子を備えた電子部品の場合だけではなく、同様な形状を有する光電変換素子を備えた電子部品についても同様に発生し得るものである。
In the electronic component having the conventional VCSEL element, since the package 900 is used, the size is increased by the size of the package, and the material cost of the package and the cost for producing the mold are increased, resulting in an increase in the manufacturing cost. End up. Further, since the VCSEL element 10 is mounted inside the package 900, it is difficult to ensure the mounting accuracy.
Such a problem can occur not only in the case of an electronic component including the VCSEL element but also in an electronic component including a photoelectric conversion element having a similar shape.

本発明は以上の背景の下でなされたものであり、その目的は、小型化、製造コストの低減及び取り付け精度の向上を図ることができる、光電変換素子を備えた電子部品、その電子部品を備えた基板、並びに、それら電子部品及び基板の製造方法を提供することである。   The present invention has been made under the above background, and an object of the present invention is to provide an electronic component equipped with a photoelectric conversion element, which can reduce the size, reduce the manufacturing cost, and improve the mounting accuracy. It is an object of the present invention to provide a board provided with the electronic component and a method for manufacturing the board.

本発明に係る電子部品は、電気信号に基づいて光を発する光電変換素子を備えた電子部品であって、上記光電変換素子の光出射部がある表面の端部に設けられた駆動電極と、該光電変換素子の光出射部がある表面に対向するように配置された光透過部材に設けられた素子接続用電極とが、導電性の接合材料を介して接合されている。
この電子部品においては、パッケージを用いずに、光電変換素子の駆動電極と光透過部材の素子接続用電極とを導電性の接合材料を介して接合することにより、基板に装着可能な光電変換素子を備えた光透過部材からなる電子部品を製造できるため、かかる電子部品の小型化及び製造コストの低減を図ることができる。しかも、上記接合により、パッケージを介さずに光電変換素子を光透過部材に精度よく位置決めして取り付けることが可能になるので、電子部品における光電変換素子の取り付け精度の向上を図ることができる。
An electronic component according to the present invention is an electronic component including a photoelectric conversion element that emits light based on an electrical signal, and a drive electrode provided at an end of a surface where a light emitting portion of the photoelectric conversion element is provided; An element connection electrode provided on a light transmitting member disposed so as to face the surface where the light emitting portion of the photoelectric conversion element is located is bonded via a conductive bonding material.
In this electronic component, a photoelectric conversion element that can be mounted on a substrate by bonding a driving electrode of a photoelectric conversion element and an element connection electrode of a light transmitting member via a conductive bonding material without using a package. Since the electronic component which consists of a light transmissive member provided with this can be manufactured, size reduction of this electronic component and reduction of manufacturing cost can be aimed at. In addition, the bonding enables the photoelectric conversion element to be accurately positioned and attached to the light transmission member without using a package, so that the accuracy of attaching the photoelectric conversion element in the electronic component can be improved.

上記電子部品において、上記光電変換素子の駆動電極と上記光透過部材の素子接続用電極とが、上記接合材料をレーザ光で溶融させて接合されているものであってもよい。この場合は、接合材料をターゲットにしてレーザ光を照射し、接合材料及びその周辺のみを局所的に加熱して接合材料を溶融させることにより、電子部品全体を加熱して接合する場合とは異なり、加熱による光電変換素子の劣化を抑制しつつ、光電変換素子の駆動電極と光透過部材の素子接続用電極とを導電性の接合材料を介して確実に接合し、両電極の電気的導通を確保することができる。   In the electronic component, the driving electrode of the photoelectric conversion element and the element connection electrode of the light transmitting member may be bonded by melting the bonding material with laser light. In this case, unlike the case where the entire electronic component is heated and bonded by irradiating the bonding material with a laser beam and locally heating only the bonding material and its periphery to melt the bonding material. In addition, while suppressing deterioration of the photoelectric conversion element due to heating, the drive electrode of the photoelectric conversion element and the element connection electrode of the light transmitting member are securely bonded via a conductive bonding material, and the electrical continuity of both electrodes is ensured. Can be secured.

また、上記電子部品において、上記光透過部材の表面に、上記光電変換素子から出射する光の反射を防止する反射防止膜が形成されていてもよい。この場合は、反射防止膜により、光電変換素子から出射された光が光透過部材を通過するときの反射を防止し、光電変換素子からの光を効率的に外部へ取り出すことができる。   In the electronic component, an antireflection film for preventing reflection of light emitted from the photoelectric conversion element may be formed on the surface of the light transmission member. In this case, the reflection when the light emitted from the photoelectric conversion element passes through the light transmitting member is prevented by the antireflection film, and the light from the photoelectric conversion element can be efficiently extracted to the outside.

また、上記電子部品において、上記反射防止膜の表面には保護層を設けてもよい。この場合は、電子部品の製造時や使用時における反射防止膜の表面の劣化を抑制できる。   In the electronic component, a protective layer may be provided on the surface of the antireflection film. In this case, it is possible to suppress deterioration of the surface of the antireflection film at the time of manufacturing or using the electronic component.

また、上記電子部品において、上記保護層は、ポリイミド等の樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)シート、又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムで形成されていてもよい。この場合は、長期高耐熱性及び高熱伝導率を有するポリイミド等の樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)シート、又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムで反射防止膜を保護することにより、製造時の加熱処理や光電変換素子の動作時の発熱による反射防止膜の劣化を抑制し、その反射防止膜の表面の劣化抑制機能を長期にわたって維持して長寿命化を図ることができるとともに、光電変換素子の動作時の発熱を遮蔽することなく光透過部材側に伝えて良好な放熱に寄与できる。更に、これらの保護層の材料は透明性にも優れているので、上記レーザ接合の際に光透過部材側から光電変換素子の駆動電極上の接合材料にレーザ光を照射する場合に、そのレーザ光の光量低下を抑制することができる。   In the electronic component, the protective layer may be formed of a resin tape such as polyimide, a TSA (adhesive for semiconductor manufactured by Toray Industries, Inc.) sheet, or a highly transparent film without filler. In this case, the antireflection film is protected with a resin tape such as polyimide having a long-term high heat resistance and high thermal conductivity, a TSA (adhesive for semiconductor manufactured by Toray Industries, Inc.) sheet, or a highly transparent film without filler. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the antireflection film due to heat treatment during production and heat generation during operation of the photoelectric conversion element, and to maintain the function of suppressing the deterioration of the surface of the antireflection film over a long period of time, thereby extending the life. In addition, the heat generated during operation of the photoelectric conversion element can be transmitted to the light transmitting member side without being shielded, thereby contributing to good heat dissipation. Furthermore, since the material of these protective layers is also excellent in transparency, when the laser beam is irradiated from the light transmitting member side to the bonding material on the drive electrode of the photoelectric conversion element during the laser bonding, the laser is used. A decrease in the amount of light can be suppressed.

また、上記電子部品において、上記光透過部材の表面に、上記光電変換素子を駆動する駆動回路部品が実装されていてもよい。この場合は、電子部品が取り付けられる基板上に駆動回路部品が実装されている場合に比して、光電変換素子とその光電変換素子を駆動する駆動回路部品との配線の長さが短くなるので、光電変換素子の高速駆動が可能になる。   In the electronic component, a drive circuit component that drives the photoelectric conversion element may be mounted on the surface of the light transmitting member. In this case, the length of the wiring between the photoelectric conversion element and the drive circuit part that drives the photoelectric conversion element is shorter than when the drive circuit part is mounted on the substrate on which the electronic component is mounted. The photoelectric conversion element can be driven at high speed.

また、上記電子部品において、上記接合材料は、はんだと同等以下の電気抵抗を有する金属材料であってもよい。この場合は、光透過部材の素子接続用電極と光電変換素子の駆動電極との間の接合において、はんだと同等以上の導電性を確保できる。   In the electronic component, the bonding material may be a metal material having an electrical resistance equal to or lower than that of solder. In this case, conductivity equal to or higher than that of solder can be secured in the bonding between the element connection electrode of the light transmitting member and the drive electrode of the photoelectric conversion element.

また、上記電子部品において、上記接合材料は、結晶構造が面心立方格子構造以外の金属材料であってよい。この場合は、上記接合においてさらに良好な導電性を確保できる。   In the electronic component, the bonding material may be a metal material having a crystal structure other than the face-centered cubic lattice structure. In this case, better electrical conductivity can be ensured in the above bonding.

また、上記電子部品において、上記接合材料は、Sn-Ag-Cu系はんだ、Sn-Bi系はんだ、モリブデン、亜鉛、コバルト、タングステン、スズ、又はカドニウムであってもよい。この場合は、上記所定の材料を接合材料として用いることにより、印刷処理、蒸着処理、又はメッキ処理で光透過部材の素子接続用電極又は光電変換素子の駆動電極の上に接合材料を容易に設けることができる。   In the electronic component, the bonding material may be Sn—Ag—Cu solder, Sn—Bi solder, molybdenum, zinc, cobalt, tungsten, tin, or cadmium. In this case, by using the predetermined material as the bonding material, the bonding material can be easily provided on the element connection electrode of the light transmitting member or the driving electrode of the photoelectric conversion element by printing, vapor deposition, or plating. be able to.

また、上記電子部品において、上記接合材料を介した上記光電変換素子の駆動電極と上記光透過部材の素子接続用電極とのレーザ接合により、該光透過部材と該光電変換素子との隙間に密閉空間が形成されるように該光透過部材の表面と該光電変換素子の端部とがレーザ照射で溶融した該接合材料で封止されているものであってもよい。この場合は、光電変換素子の光出射部が上記密閉空間内にあり、その密閉空間の外側の空間に露出しないので、外側の空間に存在する水分等による光電変換素子の劣化を防止できる。また、上記レーザ接合時に、レーザ照射で溶融した接合材料で封止されるので、封止工程を別に設ける必要がない。   In the electronic component, the gap between the light transmitting member and the photoelectric conversion element is sealed by laser bonding of the driving electrode of the photoelectric conversion element and the element connection electrode of the light transmitting member via the bonding material. The surface of the light transmitting member and the end of the photoelectric conversion element may be sealed with the bonding material melted by laser irradiation so that a space is formed. In this case, since the light emitting portion of the photoelectric conversion element is in the sealed space and is not exposed to the space outside the sealed space, deterioration of the photoelectric conversion element due to moisture or the like existing in the outer space can be prevented. Further, since sealing is performed with a bonding material melted by laser irradiation at the time of the laser bonding, there is no need to provide a separate sealing step.

また、上記電子部品において、上記光透過部材に対向する上記光電変換素子の端部と該光透過部材の表面とが樹脂で封止されていてもよい。この場合も、光電変換素子の光出射部が上記密閉空間内にあり、その密閉空間の外側の空間に露出しなくなるので、外側の空間に存在する水分等による光電変換素子の劣化を防止できる。また、軟化した状態の樹脂により光電変換素子の端部と光透過部材の表面との隙間を確実に封止するように該隙間に行き渡らせることができるとともに、その後の硬化によってその封止状態が固定化されるため、上記封止をより確実に行い長期にわたって維持できる。   In the electronic component, an end portion of the photoelectric conversion element facing the light transmitting member and a surface of the light transmitting member may be sealed with a resin. Also in this case, since the light emitting portion of the photoelectric conversion element is in the sealed space and is not exposed to the space outside the sealed space, deterioration of the photoelectric conversion element due to moisture or the like existing in the outer space can be prevented. Further, the softened resin can be spread over the gap so as to securely seal the gap between the end of the photoelectric conversion element and the surface of the light transmitting member, and the sealing state is improved by subsequent curing. Since it is fixed, the sealing can be performed more reliably and maintained for a long time.

また、上記電子部品において、上記樹脂による封止の際に該樹脂が上記光電変換素子の光出射部へ流入するのを阻止する樹脂流入阻止部を、上記光透過部材の表面に設けてもよい。この場合は、樹脂が光電変換素子の光出射部へ流入することによる光電変換素子の劣化を防止できる。   Further, in the electronic component, a resin inflow prevention portion that prevents the resin from flowing into the light emitting portion of the photoelectric conversion element when sealed with the resin may be provided on the surface of the light transmitting member. . In this case, deterioration of the photoelectric conversion element due to the resin flowing into the light emitting portion of the photoelectric conversion element can be prevented.

また、上記電子部品において、上記樹脂流入阻止部は、上記光透過部材の表面の上記樹脂に対する撥水性を高めた部分であってもよい。この場合は、光透過部材の表面の機械的加工を行うことなく、光電変換素子の光出射部への樹脂の流入を防止できる。   In the electronic component, the resin inflow blocking portion may be a portion on the surface of the light transmitting member that has improved water repellency with respect to the resin. In this case, the resin can be prevented from flowing into the light emitting portion of the photoelectric conversion element without mechanically processing the surface of the light transmitting member.

また、上記電子部品において、上記樹脂流入阻止部は、上記光透過部材の表面に設けた凸部又は凹部であってもよい。この場合は、上記光透過部材の表面に設けた凸部又は凹部により、光電変換素子の光出射部への樹脂の流入を確実に防止できる。   Moreover, the said electronic component WHEREIN: The convex part or recessed part provided in the surface of the said light transmissive member may be sufficient as the said resin inflow prevention part. In this case, the inflow of the resin to the light emitting portion of the photoelectric conversion element can be reliably prevented by the convex portion or the concave portion provided on the surface of the light transmitting member.

また、上記電子部品において、上記光透過部材と上記光電変換素子との隙間の密閉空間に、乾燥気体が充填されていてもよい。この場合は、密閉空間に露出している光電変換素子の光出射部が水分によって劣化するのを防止できる。   In the electronic component, a dry gas may be filled in a sealed space in a gap between the light transmitting member and the photoelectric conversion element. In this case, it can prevent that the light emission part of the photoelectric conversion element exposed to sealed space deteriorates with a water | moisture content.

また、上記電子部品において、上記乾燥気体は乾燥窒素ガスであってもよい。この場合は、比較的安価な乾燥窒素ガスにより、上記光電変換素子の光出射部の水分による劣化を防止できる。   In the electronic component, the dry gas may be a dry nitrogen gas. In this case, it is possible to prevent the light emitting portion of the photoelectric conversion element from being deteriorated by moisture with a relatively inexpensive dry nitrogen gas.

また、上記電子部品において、上記光電変換素子は、垂直共振器型面発光レーザであってもよい。この場合は、上記光透過部材と垂直共振器型面発光レーザとを有する電子部品の小型化及び製造コストの低減を図ることができるとともに、その垂直共振器型面発光レーザの取り付け精度の向上を図ることができる。   In the electronic component, the photoelectric conversion element may be a vertical cavity surface emitting laser. In this case, the electronic component having the light transmitting member and the vertical cavity surface emitting laser can be miniaturized and the manufacturing cost can be reduced, and the mounting accuracy of the vertical cavity surface emitting laser can be improved. Can be planned.

また、上記電子部品において、上記垂直共振器型面発光レーザの発光波長は780nmであってもよい。この場合は、波長780nmのレーザ光を出射する電子部品の小型化及び製造コストの低減を図ることができる。   In the electronic component, the emission wavelength of the vertical cavity surface emitting laser may be 780 nm. In this case, it is possible to reduce the size and manufacturing cost of an electronic component that emits laser light having a wavelength of 780 nm.

また、上記電子部品において、上記光透過部材の材料は、BK7、D263、CG−1、合成石英又はソーダライムガラスであってもよい。この場合は、波長780nmのレーザ光に対する透過率に優れたBK7、D263、CG−1、合成石英又はソーダライムガラスからなる光透過部材を用いることにより、上記垂直共振器型面発光レーザから出射されるレーザ光を効率的に外部に取り出すことができる。特に、比較的安価な合成石英又はソーダライムガラスを用いた場合は、上記垂直共振器型面発光レーザを備えた電子部品の製造コストを更に低減することができる。   In the electronic component, the material of the light transmitting member may be BK7, D263, CG-1, synthetic quartz, or soda lime glass. In this case, by using a light transmitting member made of BK7, D263, CG-1, synthetic quartz or soda lime glass having excellent transmittance with respect to a laser beam having a wavelength of 780 nm, it is emitted from the vertical cavity surface emitting laser. Laser light can be efficiently extracted outside. In particular, when a relatively inexpensive synthetic quartz or soda lime glass is used, the manufacturing cost of an electronic component equipped with the vertical cavity surface emitting laser can be further reduced.

また、上記電子部品において、上記光透過部材の両面に、波長780nmの光の反射を防止する反射防止膜が形成されていてもよい。この場合は、反射防止膜により、上記垂直共振器型面発光レーザから出射された波長780nm光が光透過部材を通過するときの反射を防止し、上記垂直共振器型面発光レーザからの光を効率的に外部へ取り出すことができる。   In the electronic component, an antireflection film for preventing reflection of light having a wavelength of 780 nm may be formed on both surfaces of the light transmitting member. In this case, the antireflection film prevents reflection when light having a wavelength of 780 nm emitted from the vertical cavity surface emitting laser passes through the light transmitting member, and allows light from the vertical cavity surface emitting laser to pass through. It can be taken out efficiently.

また、上記電子部品において、上記光電変換素子は、光を受けて電気信号を出力する受光素子であり、上記光出射部は、外部から該光電変換素子への光が通過する光入射部であり、上記駆動電極は、該電気信号の出力電極であってもよい。この場合は、上記光透過部材と上記受光素子とを有する電子部品の小型化及び製造コストの低減を図ることができるとともに、その受光素子の取り付け精度の向上を図ることができる。   In the electronic component, the photoelectric conversion element is a light receiving element that receives light and outputs an electrical signal, and the light emitting unit is a light incident part through which light from the outside passes to the photoelectric conversion element. The drive electrode may be an output electrode for the electric signal. In this case, the electronic component having the light transmitting member and the light receiving element can be reduced in size and the manufacturing cost can be reduced, and the mounting accuracy of the light receiving element can be improved.

また、上記電子部品において、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、該光電変換素子の駆動電極と接続される素子接続用電極と、該光透過部材の端部にある基板接続用電極と、該素子接続用電極と該基板接続用電極とを結ぶ電極接続部とからなる配線が形成されているものであってもよい。この場合は、基板接続用電極を素子接続用電極とは離れた位置に形成し、その基板接続用電極と素子接続用電極とを電極接続部で結んでいるので、基板接続用電極の配置の自由度が高まる。   In the electronic component, on the surface of the light transmission member on the photoelectric conversion element side, an element connection electrode connected to a drive electrode of the photoelectric conversion element, and a substrate connection electrode at an end of the light transmission member The wiring which consists of an electrode and the electrode connection part which connects this element connection electrode and this board | substrate connection electrode may be formed. In this case, the substrate connection electrode is formed at a position distant from the element connection electrode, and the substrate connection electrode and the element connection electrode are connected by the electrode connection portion. Increased freedom.

また、上記電子部品において、上記接合材料によるレーザ接合を行う場合、上記配線の材料は該レーザ接合に用いるレーザ光を透過しやすい材料であってもよい。この場合は、上記レーザ接合に用いるレーザ光を光透明部材の表面から照射し、配線の部分を効率的に通過させて接合材料の部分に到達させることができるので、接合材料を溶融させて接合するために必要なレーザ光のパワーを小さくすることができる。   In the electronic component, when laser bonding using the bonding material is performed, the wiring material may be a material that easily transmits laser light used for the laser bonding. In this case, the laser beam used for the laser bonding can be irradiated from the surface of the light transparent member, and the wiring portion can be efficiently passed to reach the bonding material portion. Therefore, it is possible to reduce the power of the laser beam necessary for the purpose.

また、上記電子部品において、上記配線の材料は、アルミニウム、金、又は銅であってもよい。この場合は、アルミニウム、金、又は銅を用いることにより、蒸着やメッキ等の方法によって上記配線を容易に形成できる。   In the electronic component, the wiring material may be aluminum, gold, or copper. In this case, by using aluminum, gold, or copper, the wiring can be easily formed by a method such as vapor deposition or plating.

また、上記電子部品において、上記配線と上記光透過部材との間にアンカー層が設けられていてもよい。この場合は、アンカー層により光透過部材に対する配線の密着性を高めることができる。   In the electronic component, an anchor layer may be provided between the wiring and the light transmission member. In this case, the adhesion of the wiring to the light transmitting member can be enhanced by the anchor layer.

また、上記電子部品において、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、金属膜を表面に有するテープ、シート又はフィルムを貼り付け、該金属膜の不要部分を除去することにより上記配線が形成され、該配線の素子接続用電極を構成する部分にある該金属膜の表面をはんだメッキし、該はんだを介して該配線の素子接続用電極と該光電変換素子の駆動電極とがレーザ接合されているものであってもよい。この場合は、光透過部材の面に金属膜付きのテープ等を貼り付けるという簡易な方法で上記配線を形成することができる。   In the electronic component, a tape, a sheet, or a film having a metal film on the surface is attached to the surface of the light transmitting member on the photoelectric conversion element side, and the wiring is formed by removing unnecessary portions of the metal film. The surface of the metal film formed on the portion constituting the element connection electrode of the wiring is solder-plated, and the element connection electrode of the wiring and the drive electrode of the photoelectric conversion element are laser-bonded via the solder It may be what has been done. In this case, the wiring can be formed by a simple method of attaching a tape or the like with a metal film to the surface of the light transmitting member.

また、上記電子部品において、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に貼り付けるものは、金属膜を表面に有する、ポリイミド等の樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)シート又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムであってもよい。この場合は、長期高耐熱性及び高熱伝導率を有する金属膜付きのポリイミド等の樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)シート又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムを貼り付けることにより、上記配線が製造時の加熱処理や光電変換素子の動作時の発熱によって上記テープ等からなる配線のベース層が劣化することがなく、配線の機能を長期にわたって維持して長寿命化を図ることができるとともに、また、光電変換素子の動作時の発熱を遮蔽することなく光透過部材側に伝えて良好な放熱に寄与できる。更に、上記配線のベース層としてのテープ等は透明性にも優れているので、上記レーザ接合の際に光透過部材側から光電変換素子の駆動電極上の接合材料にレーザ光を照射する場合に、そのレーザ光の光量低下を抑制することができる。   Moreover, in the electronic component, what is attached to the surface of the light transmitting member on the photoelectric conversion element side is a resin tape such as polyimide having a metal film on the surface, TSA (adhesive for semiconductor manufactured by Toray Industries, Inc.) It may be a sheet or a filler-less highly transparent type film. In this case, stick a resin tape such as polyimide with a metal film having a long-term high heat resistance and high thermal conductivity, a TSA (adhesive for semiconductor manufactured by Toray Industries, Inc.) sheet or a highly transparent film without filler. Thus, the wiring base layer made of the tape or the like is not deteriorated due to heat treatment during manufacturing of the wiring or operation of the photoelectric conversion element, and the function of the wiring is maintained over a long period of time, thereby extending the life. In addition, the heat generated during the operation of the photoelectric conversion element can be transmitted to the light transmitting member side without being shielded, thereby contributing to good heat dissipation. Furthermore, since the tape as the base layer of the wiring is excellent in transparency, when the laser beam is irradiated to the bonding material on the drive electrode of the photoelectric conversion element from the light transmitting member side during the laser bonding. , It is possible to suppress a decrease in the amount of laser light.

また、上記電子部品において、上記配線は、上記素子接続用電極と上記基板接続用電極とを結ぶ上記電極接続部の途中に、はんだ供給用の中間パッドを有するものであってもよい。この場合は、上記電極接続部の途中にある中間パッドにはんだを供給した後、加熱することにより、中間パッド上のはんだを溶融させて配線上を移動させることにより、配線の表面をはんだでメッキできる。特に、素子接続用電極のサイズや配線の幅が小さくそれらの表面にはんだを直接付けることが難しい場合でも、上記中間パッドからの溶融はんだを延ばして供給することにより、配線の素子接続用電極及びそこから延びる電極接続部のを確実にはんだでメッキできる。   In the electronic component, the wiring may include an intermediate pad for supplying solder in the middle of the electrode connecting portion that connects the element connecting electrode and the substrate connecting electrode. In this case, after supplying the solder to the intermediate pad in the middle of the electrode connection portion, by heating, the solder on the intermediate pad is melted and moved on the wiring, thereby plating the surface of the wiring with the solder. it can. In particular, even when the size of the element connection electrode or the width of the wiring is small and it is difficult to directly apply solder to the surface, by extending and supplying the molten solder from the intermediate pad, the element connection electrode of the wiring and The electrode connecting portion extending therefrom can be surely plated with solder.

また、上記電子部品において、上記光電変換素子の駆動電極が複数設けられ、上記配線で結ばれる上記素子接続用電極と上記基板接続用電極との組が、上記各駆動電極に対応するように複数設けられている場合、該複数の配線における上記はんだ供給用の中間パッドと上記素子接続用電極との距離が互いに等しくなるように該中間パッドが設けられているものであってもよい。この場合は、複数の配線におけるはんだ供給用の中間パッドと素子接続用電極との距離が互いに等しいので、中間パッドにはんだを供給した後、同じ加熱処理条件で中間パッド上の溶融はんだを素子接続用電極まで行き渡らせることができるため、上記複数の素子接続用電極を確実にはんだメッキすることができる。   In the electronic component, a plurality of drive electrodes of the photoelectric conversion element are provided, and a plurality of sets of the element connection electrodes and the substrate connection electrodes connected by the wiring correspond to the drive electrodes. When provided, the intermediate pads may be provided so that the distance between the solder supplying intermediate pad and the element connecting electrode in the plurality of wirings is equal to each other. In this case, since the distance between the intermediate pad for supplying solder and the element connecting electrode in the plurality of wirings is equal to each other, after supplying the solder to the intermediate pad, the molten solder on the intermediate pad is connected to the element under the same heat treatment conditions. Therefore, the plurality of element connection electrodes can be surely solder-plated.

また、上記電子部品において、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、該光電変換素子の駆動電極と接続される素子接続用電極と、該光透過部材の端部にある基板接続用電極と、該素子接続用電極と該基板接続用電極とを結ぶ電極接続部とからなるアルミニウムの配線が形成され、該配線の表面に、ニッケルメッキ層を形成するメッキ処理、金メッキ層を形成するメッキ処理、又は、ニッケルメッキ層の上に更に金メッキ層を形成するメッキ処理が施され、該光透過部材の表面の少なくとも上記光電変換素子から出射する光が通過する部分に、該光電変換素子から出射する光の反射を防止する反射防止膜が形成されているものであってもよい。この場合は、光透過部材の光電変換素子側の面にアルミニウムの配線を形成した後に反射防止膜を形成しているので、アルミニウムの配線形成前に光透過部材上に反射防止膜を形成する場合に比して、アルミニウムの配線と光透過部材との密着性を高めることができる。また、アルミニウムの配線の上にニッケルメッキ層を形成し、更にその上にはんだの固着力が高い金メッキ層を形成しているので、アルミニウムの配線上の直接はんだを付ける場合に比してはんだの固着力を高めることができる。   In the electronic component, on the surface of the light transmission member on the photoelectric conversion element side, an element connection electrode connected to a drive electrode of the photoelectric conversion element, and a substrate connection electrode at an end of the light transmission member An aluminum wiring comprising an electrode and an electrode connecting portion connecting the element connecting electrode and the substrate connecting electrode is formed, and a plating process for forming a nickel plating layer and a gold plating layer are formed on the surface of the wiring A plating process or a plating process for further forming a gold plating layer on the nickel plating layer is performed, and at least a portion of the surface of the light transmission member through which light emitted from the photoelectric conversion element passes is provided from the photoelectric conversion element. An antireflection film that prevents reflection of emitted light may be formed. In this case, since the antireflection film is formed after the aluminum wiring is formed on the surface of the light transmitting member on the photoelectric conversion element side, the antireflection film is formed on the light transmitting member before forming the aluminum wiring. Compared to the above, the adhesion between the aluminum wiring and the light transmitting member can be improved. In addition, a nickel plating layer is formed on the aluminum wiring, and a gold plating layer with high solder adhesion is formed on the aluminum wiring. The fixing force can be increased.

また、上記電子部品において、上記光電変換素子の駆動電極が複数設けられ、上記配線で結ばれる上記素子接続用電極と上記基板接続用電極との組が、上記各駆動電極に対応するように複数設けられ、各配線の幅及び長さが、各配線の電気的特性が同等になるように設定されているものであってもよい。この場合は、電子部品内での各配線の電気的特性が同等になるので、上記光電変換素子を駆動する駆動回路側の駆動制御回路又は駆動制御プログラムの設計が容易になる。   In the electronic component, a plurality of drive electrodes of the photoelectric conversion element are provided, and a plurality of sets of the element connection electrodes and the substrate connection electrodes connected by the wiring correspond to the drive electrodes. It may be provided and the width and length of each wiring may be set so that the electrical characteristics of each wiring are equal. In this case, since the electrical characteristics of each wiring in the electronic component are equal, it becomes easy to design a drive control circuit or a drive control program on the drive circuit side for driving the photoelectric conversion element.

また、上記電子部品において、上記複数の配線は、各配線の長さが同等になるように上記素子接続用電極から外側の基板接続用電極に向かって扇状に延びるように形成され、上記複数の基板接続用電極は、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面の端部に円弧状に配置されているものであってもよい。この場合は、複数の基板接続用電極が円弧状に配置しているため、各基板接続用電極と基板側の電極との接合処理が容易になる。   In the electronic component, the plurality of wirings are formed so as to extend in a fan shape from the element connection electrode toward the outer substrate connection electrode so that the lengths of the respective wirings are equal to each other. The substrate connecting electrode may be arranged in an arc shape at an end of the surface of the light transmitting member on the photoelectric conversion element side. In this case, since the plurality of substrate connection electrodes are arranged in an arc shape, the bonding process between each substrate connection electrode and the substrate-side electrode is facilitated.

また、上記電子部品において、上記光電変換素子は、上記光出射部に互いに独立に駆動される複数の発光部を有するとともに、該複数の発光部と上記複数の駆動電極とがそれぞれ素子内配線で結ばれ、各素子内配線の幅及び長さが、各素子内配線の電気的特性が同等になるように設定されているものであってもよい。この場合は、光電変換素子の内部にある各素子内配線を含めて電子部品内での各配線の電気的特性が同等になるので、上記光電変換素子を駆動する駆動回路側の駆動制御回路又は駆動制御プログラムの設計が更に容易になる。   In the electronic component, the photoelectric conversion element includes a plurality of light emitting units that are driven independently from each other by the light emitting unit, and the plurality of light emitting units and the plurality of driving electrodes are respectively connected to the element wiring. In other words, the width and length of each intra-element wiring may be set such that the electrical characteristics of each intra-element wiring are equal. In this case, since the electrical characteristics of each wiring in the electronic component including the wiring in each element inside the photoelectric conversion element are equal, the drive control circuit on the side of the driving circuit that drives the photoelectric conversion element or The design of the drive control program is further facilitated.

また、上記電子部品において、上記複数の素子内配線は、各素子内配線の長さが同等になるように上記発光部から外側の駆動電極に向かって扇状に延びるように形成され、上記複数の駆動電極は、上記光電変換素子の光出射部がある面の端部に円弧状に配置されているものであってもよい。この場合は、この場合は、複数の駆動電極が円弧状に配置しているため、各駆動電極と光透過部材側の素子接合用電極との接合処理が容易になる。   Further, in the electronic component, the plurality of element internal wirings are formed so as to extend in a fan shape from the light emitting portion toward the outer drive electrode so that the lengths of the respective element internal wirings are equal to each other. The drive electrode may be arranged in an arc shape at the end of the surface where the light emitting portion of the photoelectric conversion element is provided. In this case, since the plurality of drive electrodes are arranged in an arc shape in this case, the bonding process between each drive electrode and the element bonding electrode on the light transmitting member side is facilitated.

また、上記電子部品において、上記基板接続用電極の表面にプリフラックスコーティングが施されていてもよい。この場合は、基板接続用電極の表面にコーティングしたプリフラックスにより、はんだの濡れ性を高めることができるので、光透過部材側の基板接続用電極と基板側の電極とをはんだを介して確実に接続できる。   In the electronic component, a preflux coating may be applied to the surface of the substrate connection electrode. In this case, the pre-flux coated on the surface of the substrate connection electrode can increase the wettability of the solder, so that the substrate connection electrode on the light transmitting member side and the electrode on the substrate side can be securely connected via the solder. Can connect.

また、上記電子部品において、上記基板接続用電極の表面に金メッキが施されていてもよい。この場合は、基板接続用電極の表面の金メッキにより基板接続用電極に対するはんだの固着力を高めることができる。   In the electronic component, the surface of the substrate connection electrode may be plated with gold. In this case, the adhesion of solder to the substrate connection electrode can be increased by gold plating on the surface of the substrate connection electrode.

本発明に係る基板は、上記いずれかの電子部品が装着され、上記電子部品の光透過部材に形成された上記基板接続用電極がはんだ付けされているものである。この場合は、上記電子部品付きの基板の小型化と製造コストの低減とを図ることができる。   The substrate according to the present invention is one in which any one of the electronic components is mounted and the substrate connecting electrode formed on the light transmitting member of the electronic component is soldered. In this case, it is possible to reduce the size of the substrate with the electronic component and reduce the manufacturing cost.

また、上記基板において、上記電子部品の上記光透過部材の基板接続用電極が形成されている端部が、上記光電変換素子に対向している部分よりも外側に露出し、上記光電変換素子を当該基板側に向けて上記電子部品が装着されたときに該光電変換素子が干渉しないで挿入可能な開口が形成されているものであってもよい。この場合は、基板に形成した開口に光電変換素子を挿入するように電子部品を実装することにより、基板から突出する部分を少なくすることができるので、上記電子部品を実装した基板の小型化を図ることができる。   In the substrate, an end portion of the electronic component on which the electrode for connecting the substrate of the light transmitting member is formed is exposed to the outside of a portion facing the photoelectric conversion element, and the photoelectric conversion element is An opening in which the photoelectric conversion element can be inserted without interference when the electronic component is mounted toward the substrate may be formed. In this case, by mounting the electronic component so that the photoelectric conversion element is inserted into the opening formed in the substrate, the portion protruding from the substrate can be reduced, so the size of the substrate on which the electronic component is mounted can be reduced. Can be planned.

また、上記基板において、該基板の開口に挿入された上記光電変換素子の裏面と該基板の裏面とが接着剤で接続されているものであってもよい。この場合は、上記光電変換素子の裏面と基板の裏面とが接着剤で接続されているので、光電変換素子のぐらつきを抑制することができ、光電変換素子の強度が高まり、光電変換素子から出射される光軸のブレも防止できる。   In the substrate, the back surface of the photoelectric conversion element inserted into the opening of the substrate and the back surface of the substrate may be connected with an adhesive. In this case, since the back surface of the photoelectric conversion element and the back surface of the substrate are connected by an adhesive, wobbling of the photoelectric conversion element can be suppressed, the strength of the photoelectric conversion element is increased, and the light is emitted from the photoelectric conversion element. The optical axis can be prevented from blurring.

また、上記基板において、上記光電変換素子の裏面にあるグランド電極と上記基板の裏面にあるグランド電極とが導電性の接着剤で接続されているものであってもよい。この場合には、光電変換素子のグランド電極と基板のグランド電極との接続に、光電変換素子の固定用の導電性接着剤を兼用できるため、両グランド電極を接続する配線を別に設ける必要がない。   In the substrate, the ground electrode on the back surface of the photoelectric conversion element and the ground electrode on the back surface of the substrate may be connected with a conductive adhesive. In this case, since the conductive adhesive for fixing the photoelectric conversion element can also be used for the connection between the ground electrode of the photoelectric conversion element and the ground electrode of the substrate, it is not necessary to separately provide wiring for connecting both ground electrodes. .

本発明に係る電子部品の製造方法は、電気信号に基づいて光を発する光電変換素子を備えた電子部品の製造方法であって、上記光電変換素子の光出射部がある表面の端部に設けられた駆動電極と、該光電変換素子の光出射部がある表面に対向するように配置された光透過部材に設けられた素子接続用電極とを、導電性の接合材料を介してレーザ接合するものである。
この電子部品の製造方法においては、パッケージを用いずに、光電変換素子の駆動電極と光透過部材の素子接続用電極とを導電性の接合材料を介してレーザ接合することにより、基板に装着可能な光電変換素子を備えた光透過部材からなる電子部品を製造できるため、かかる電子部品の小型化及び製造コストの低減を図ることができる。しかも、上記レーザ接合により、パッケージを介さずに光電変換素子を光透過部材に精度よく位置決めして取り付けることが可能になるので、電子部品における光電変換素子の取り付け精度の向上を図ることができる。
A method of manufacturing an electronic component according to the present invention is a method of manufacturing an electronic component including a photoelectric conversion element that emits light based on an electrical signal, and is provided at an end of a surface where the light emitting portion of the photoelectric conversion element is provided. The drive electrode and the element connection electrode provided on the light transmission member arranged so as to face the surface where the light emitting portion of the photoelectric conversion element is provided are laser-bonded via a conductive bonding material. Is.
This electronic component manufacturing method can be mounted on a substrate by laser bonding the drive electrode of the photoelectric conversion element and the element connection electrode of the light transmitting member via a conductive bonding material without using a package. Since the electronic component which consists of a light transmissive member provided with a photoelectric conversion element can be manufactured, size reduction of this electronic component and reduction of manufacturing cost can be aimed at. In addition, the laser bonding enables the photoelectric conversion element to be accurately positioned and attached to the light transmission member without using a package, so that the accuracy of attaching the photoelectric conversion element in the electronic component can be improved.

上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材に素子接続用電極を形成し、該光透過部材の素子接続用電極と上記光電変換素子の駆動電極とを上記接合材料を介して接触させるように該光透過部材と該光電変換素子とを対向させて配置し、該光透過部材の該光電変換素子と対向する対向面とは反対側の表面から該光透過部材を通過させて該接合材料に到達させるように、該光透過部材を透過可能な波長のレーザ光を照射し、該レーザ光が照射された該接合材料を介して該光透過部材の素子接続用電極と該光電変換素子の駆動電極とを接合してもよい。この場合は、光透過部材と光電変換素子とを互いに位置合わせして対向させた状態で、接合材料をターゲットにしてレーザ光を照射し、そのレーザ光が照射された接合材料を介して光透過部材の素子接続用電極と光電変換素子の駆動電極とを接合することができるので、両電極を確実に接合できる。   In the method for manufacturing the electronic component, an element connection electrode is formed on the light transmission member, and the element connection electrode of the light transmission member and the drive electrode of the photoelectric conversion element are brought into contact with each other through the bonding material. The light transmissive member and the photoelectric conversion element are disposed to face each other, and the light transmissive member is passed through the surface of the light transmissive member opposite to the surface facing the photoelectric conversion element to the bonding material. A laser beam having a wavelength that can be transmitted through the light transmitting member is irradiated so as to reach the device, and the element connecting electrode of the light transmitting member and the photoelectric conversion element are driven through the bonding material irradiated with the laser light. You may join an electrode. In this case, in a state where the light transmitting member and the photoelectric conversion element are aligned and opposed to each other, the bonding material is irradiated with laser light, and light is transmitted through the bonding material irradiated with the laser light. Since the element connection electrode of the member and the drive electrode of the photoelectric conversion element can be joined, both electrodes can be reliably joined.

また、上記電子部品の製造方法において、上記レーザ光の照射で上記接合材料を溶融させることにより、上記光透過部材の素子接続用電極と上記光電変換素子の駆動電極とを接合してもよい。この場合は、接合材料をターゲットにしてレーザ光を照射し、接合材料及びその周辺のみを局所的に加熱して接合材料を溶融させることにより、電子部品全体を加熱して接合する場合とは異なり、加熱による光電変換素子の劣化を抑制しつつ、光電変換素子の駆動電極と光透過部材の素子接続用電極とを導電性の接合材料を介して確実に接合し、両電極の電気的導通を確保することができる。   In the electronic component manufacturing method, the element connection electrode of the light transmitting member and the drive electrode of the photoelectric conversion element may be bonded by melting the bonding material by irradiation with the laser beam. In this case, unlike the case where the entire electronic component is heated and bonded by irradiating the bonding material with a laser beam and locally heating only the bonding material and its periphery to melt the bonding material. In addition, while suppressing deterioration of the photoelectric conversion element due to heating, the drive electrode of the photoelectric conversion element and the element connection electrode of the light transmitting member are securely bonded via a conductive bonding material, and the electrical continuity of both electrodes is ensured. Can be secured.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材と上記光電変換素子とを対向配置する前に、該光透過部材の素子接続用電極上に上記接合材料からなる接合層を形成してもよい。この場合は、光透過部材と光電変換素子とを互いに位置合わせして対向させる際に、光透過部材の素子接続用電極と光電変換素子の駆動電極との間に接合材料を位置合わせして介在させるという工程が不要になる。   In the electronic component manufacturing method, a bonding layer made of the bonding material may be formed on the element connection electrode of the light transmission member before the light transmission member and the photoelectric conversion element are arranged to face each other. Good. In this case, when the light transmission member and the photoelectric conversion element are aligned and face each other, the bonding material is positioned and interposed between the element connection electrode of the light transmission member and the drive electrode of the photoelectric conversion element. The process of making it unnecessary becomes unnecessary.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材と上記光電変換素子とを対向配置する前に、該光電変換素子の駆動電極上に上記接合材料からなる接合層を形成してもよい。この場合も、光透過部材と光電変換素子とを互いに位置合わせして対向させる際に、光透過部材の素子接続用電極と光電変換素子の駆動電極との間に接合材料を位置合わせして介在させるという工程が不要になる。   In the method for manufacturing an electronic component, a bonding layer made of the bonding material may be formed on the drive electrode of the photoelectric conversion element before the light transmitting member and the photoelectric conversion element are arranged to face each other. Also in this case, when the light transmitting member and the photoelectric conversion element are aligned and face each other, the bonding material is positioned and interposed between the element connecting electrode of the light transmitting member and the driving electrode of the photoelectric conversion element. The process of making it unnecessary becomes unnecessary.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材に素子接続用電極を形成する前に、上記光電変換素子から出射する光の反射を防止する反射防止膜を、該光透過部材の表面に形成してもよい。この場合は、反射防止膜により、光電変換素子から出射された光が光透過部材を通過するときの反射を防止し、光電変換素子からの光を効率的に外部へ取り出すことができる。   Further, in the method for manufacturing an electronic component, an antireflection film for preventing reflection of light emitted from the photoelectric conversion element is formed on the surface of the light transmitting member before forming the element connection electrode on the light transmitting member. It may be formed. In this case, the reflection when the light emitted from the photoelectric conversion element passes through the light transmitting member is prevented by the antireflection film, and the light from the photoelectric conversion element can be efficiently extracted to the outside.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材に素子接続用電極を形成する前に、上記反射防止膜の表面に保護層を設けてもよい。この場合は、電子部品の製造時や使用時における反射防止膜の表面の劣化を抑制できる。   In the method for manufacturing an electronic component, a protective layer may be provided on the surface of the antireflection film before the element connection electrode is formed on the light transmitting member. In this case, it is possible to suppress deterioration of the surface of the antireflection film at the time of manufacturing or using the electronic component.

また、上記電子部品の製造方法において、上記保護層は、ポリイミド等の樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)シート、又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムで形成してもよい。この場合は、長期高耐熱性及び高熱伝導率を有するポリイミド等の樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)シート、又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムで反射防止膜を保護することにより、製造時の加熱処理や光電変換素子の動作時の発熱による反射防止膜の劣化を抑制し、その反射防止膜の表面の劣化抑制機能を長期にわたって維持して長寿命化を図ることができるとともに、光電変換素子の動作時の発熱を遮蔽することなく光透過部材側に伝えて良好な放熱に寄与できる。更に、これらの保護層の材料は透明性にも優れているので、上記レーザ接合の際に光透過部材側から光電変換素子の駆動電極上の接合材料にレーザ光を照射する場合に、そのレーザ光の光量低下を抑制することができる。   In the method for manufacturing an electronic component, the protective layer may be formed of a resin tape such as polyimide, a TSA (adhesive for semiconductor manufactured by Toray Industries, Inc.) sheet, or a filler-less highly transparent film. . In this case, the antireflection film is protected with a resin tape such as polyimide having a long-term high heat resistance and high thermal conductivity, a TSA (adhesive for semiconductor manufactured by Toray Industries, Inc.) sheet, or a highly transparent film without filler. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the antireflection film due to heat treatment during production and heat generation during operation of the photoelectric conversion element, and to maintain the function of suppressing the deterioration of the surface of the antireflection film over a long period of time, thereby extending the life. In addition, the heat generated during operation of the photoelectric conversion element can be transmitted to the light transmitting member side without being shielded, thereby contributing to good heat dissipation. Furthermore, since the material of these protective layers is also excellent in transparency, when the laser beam is irradiated from the light transmitting member side to the bonding material on the drive electrode of the photoelectric conversion element during the laser bonding, the laser is used. A decrease in the amount of light can be suppressed.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材の表面に、上記光電変換素子を駆動する駆動回路部品を実装してもよい。この場合は、電子部品が取り付けられる基板上に駆動回路部品が実装されている場合に比して、光電変換素子とその光電変換素子を駆動する駆動回路部品との配線の長さが短くなるので、光電変換素子の高速駆動が可能になる。   In the electronic component manufacturing method, a driving circuit component for driving the photoelectric conversion element may be mounted on the surface of the light transmitting member. In this case, the length of the wiring between the photoelectric conversion element and the drive circuit part that drives the photoelectric conversion element is shorter than when the drive circuit part is mounted on the substrate on which the electronic component is mounted. The photoelectric conversion element can be driven at high speed.

また、上記電子部品の製造方法において、上記レーザ光を照射する際に、上記光透過部材の素子接続用電極と上記光電変換素子の駆動電極とを密着させるように、該光透過部材及び該光電変換素子の少なくとも一方に圧力をかけてよい。この場合は、上記レーザ接合による光透過部材の素子接続用電極と光電変換素子の駆動電極との密着力が高まるので、接合品質が向上する。   In the electronic component manufacturing method, when the laser beam is irradiated, the light transmitting member and the photoelectric conversion member are connected so that the element connecting electrode of the light transmitting member and the driving electrode of the photoelectric conversion element are in close contact with each other. Pressure may be applied to at least one of the conversion elements. In this case, since the adhesion force between the element connecting electrode of the light transmitting member and the drive electrode of the photoelectric conversion element by the laser bonding is increased, the bonding quality is improved.

また、上記電子部品の製造方法において、上記接合材料は、はんだと同等以下の電気抵抗を有する金属材料であってもよい。この場合は、光透過部材の素子接続用電極と光電変換素子の駆動電極との間の接合において、はんだと同等以上の導電性を確保できる。   In the electronic component manufacturing method, the bonding material may be a metal material having an electrical resistance equal to or lower than that of solder. In this case, conductivity equal to or higher than that of solder can be secured in the bonding between the element connection electrode of the light transmitting member and the drive electrode of the photoelectric conversion element.

また、上記電子部品の製造方法において、上記接合材料は、結晶構造が面心立方格子構造以外の金属材料であってもよい。この場合は、上記接合においてさらに良好な導電性を確保できる。   In the electronic component manufacturing method, the bonding material may be a metal material having a crystal structure other than the face-centered cubic lattice structure. In this case, better electrical conductivity can be ensured in the above bonding.

また、上記電子部品の製造方法において、上記接合材料は、Sn-Ag-Cu系はんだ、Sn-Bi系はんだ、モリブデン、亜鉛、コバルト、タングステン、スズ、又は、カドニウムであってもよい。この場合は、上記所定の材料を接合材料として用いることにより、印刷処理、蒸着処理、又はメッキ処理で光透過部材の素子接続用電極又は光電変換素子の駆動電極の上に接合材料を容易に設けることができる。   In the electronic component manufacturing method, the bonding material may be Sn—Ag—Cu solder, Sn—Bi solder, molybdenum, zinc, cobalt, tungsten, tin, or cadmium. In this case, by using the predetermined material as the bonding material, the bonding material can be easily provided on the element connection electrode of the light transmitting member or the driving electrode of the photoelectric conversion element by printing, vapor deposition, or plating. be able to.

また、上記電子部品の製造方法において、上記レーザ接合の前に、上記接合材料の表面に酸化防止処理を施してもよい。この場合は、上記接合材料の表面酸化による接合不良を未然に防止できる。   In the method for manufacturing an electronic component, the surface of the bonding material may be subjected to an antioxidant treatment before the laser bonding. In this case, bonding failure due to surface oxidation of the bonding material can be prevented in advance.

また、上記電子部品の製造方法において、少なくとも上記光透過部材及び上記素子接続用電極を貫通する貫通孔を形成し、上記レーザ接合のときに該貫通孔を上記接合材料で封止することにより、該光透過部材と該光電変換素子との隙間に密閉空間が形成されるように該光透過部材の表面と該光電変換素子の端部とを封止してもよい。この場合は、光電変換素子の光出射部が上記密閉空間内にあり、その密閉空間の外側の空間に露出しないので、外側の空間に存在する水分等による光電変換素子の劣化を防止できる。また、上記レーザ接合時に、レーザ照射で溶融した接合材料で封止されるので、封止工程を別に設ける必要がない。   Further, in the method for manufacturing the electronic component, by forming a through hole penetrating at least the light transmitting member and the element connecting electrode, and sealing the through hole with the bonding material at the time of the laser bonding, You may seal the surface of this light transmissive member, and the edge part of this photoelectric conversion element so that sealed space may be formed in the clearance gap between this light transmissive member and this photoelectric conversion element. In this case, since the light emitting portion of the photoelectric conversion element is in the sealed space and is not exposed to the space outside the sealed space, deterioration of the photoelectric conversion element due to moisture or the like existing in the outer space can be prevented. Further, since sealing is performed with a bonding material melted by laser irradiation at the time of the laser bonding, there is no need to provide a separate sealing step.

また、上記電子部品の製造方法において、上記レーザ接合の前に、上記貫通孔を通して上記光透過部材と上記光電変換素子との隙間に乾燥気体を送り込んだ後に、上記レーザ接合を行ってもよい。この場合は、上記密閉空間内が乾燥気体で充填されるため、密閉空間に露出している光電変換素子の光出射部が水分によって劣化するのを防止できる。   In the method for manufacturing the electronic component, the laser bonding may be performed after the dry gas is fed into the gap between the light transmitting member and the photoelectric conversion element through the through hole before the laser bonding. In this case, since the inside of the sealed space is filled with dry gas, the light emitting portion of the photoelectric conversion element exposed to the sealed space can be prevented from being deteriorated by moisture.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材に対向する上記光電変換素子の端部と該光透過部材の表面とを樹脂で封止してもよい。この場合は、光電変換素子の光出射部が上記密閉空間内にあり、その密閉空間の外側の空間に露出しなくなるので、外側の空間に存在する水分等による光電変換素子の劣化を防止できる。また、軟化した状態の樹脂により光電変換素子の端部と光透過部材の表面との隙間を確実に封止するように該隙間に行き渡らせることができるとともに、その後の硬化によってその封止状態が固定化されるため、上記封止をより確実に行い長期にわたって維持できる。   In the method for manufacturing an electronic component, an end portion of the photoelectric conversion element facing the light transmitting member and a surface of the light transmitting member may be sealed with a resin. In this case, since the light emitting portion of the photoelectric conversion element is in the sealed space and is not exposed to the space outside the sealed space, deterioration of the photoelectric conversion element due to moisture or the like existing in the outer space can be prevented. Further, the softened resin can be spread over the gap so as to securely seal the gap between the end of the photoelectric conversion element and the surface of the light transmitting member, and the sealing state is improved by subsequent curing. Since it is fixed, the sealing can be performed more reliably and maintained for a long time.

また、上記電子部品の製造方法において、上記樹脂による封止の際に該樹脂が上記光電変換素子の光出射部へ流入するのを阻止する樹脂流入阻止部を、上記光透過部材の表面に設けてもよい。この場合は、樹脂が光電変換素子の光出射部へ流入することによる光電変換素子の劣化を防止できる。   Further, in the method of manufacturing the electronic component, a resin inflow prevention portion that prevents the resin from flowing into the light emitting portion of the photoelectric conversion element when sealed with the resin is provided on the surface of the light transmitting member. May be. In this case, deterioration of the photoelectric conversion element due to the resin flowing into the light emitting portion of the photoelectric conversion element can be prevented.

また、上記電子部品の製造方法において、上記樹脂流入阻止部は、上記光透過部材の表面の上記樹脂に対する撥水性を高めた部分であってもよい。この場合は、光透過部材の表面の機械的加工を行うことなく、光電変換素子の光出射部への樹脂の流入を防止できる。   In the electronic component manufacturing method, the resin inflow blocking portion may be a portion on the surface of the light transmitting member that has improved water repellency with respect to the resin. In this case, the resin can be prevented from flowing into the light emitting portion of the photoelectric conversion element without mechanically processing the surface of the light transmitting member.

また、上記電子部品の製造方法において、上記樹脂流入阻止部は、上記光透過部材の表面に設けた凸部又は凹部であってもよい。この場合は、上記光透過部材の表面に設けた凸部又は凹部により、光電変換素子の光出射部への樹脂の流入を確実に防止できる。   In the electronic component manufacturing method, the resin inflow prevention portion may be a convex portion or a concave portion provided on the surface of the light transmitting member. In this case, the inflow of the resin to the light emitting portion of the photoelectric conversion element can be reliably prevented by the convex portion or the concave portion provided on the surface of the light transmitting member.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材と上記光電変換素子との隙間の上記樹脂で密閉された空間に乾燥気体を充填してもよい。この場合は、密閉空間に露出している光電変換素子の光出射部が水分によって劣化するのを防止できる。   In the method for manufacturing an electronic component, a dry gas may be filled in a space sealed with the resin in a gap between the light transmitting member and the photoelectric conversion element. In this case, it can prevent that the light emission part of the photoelectric conversion element exposed to sealed space deteriorates with a water | moisture content.

また、上記電子部品の製造方法において、上記乾燥気体は乾燥窒素ガスであってもよい。この場合は、比較的安価な乾燥窒素ガスにより、上記光電変換素子の光出射部の水分による劣化を防止できる。   In the electronic component manufacturing method, the dry gas may be a dry nitrogen gas. In this case, it is possible to prevent the light emitting portion of the photoelectric conversion element from being deteriorated by moisture with a relatively inexpensive dry nitrogen gas.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光電変換素子は、垂直共振器型面発光レーザであってもよい。この場合は、上記光透過部材と垂直共振器型面発光レーザとを有する電子部品の小型化及び製造コストの低減を図ることができるとともに、その垂直共振器型面発光レーザの取り付け精度の向上を図ることができる。   In the electronic component manufacturing method, the photoelectric conversion element may be a vertical cavity surface emitting laser. In this case, the electronic component having the light transmitting member and the vertical cavity surface emitting laser can be miniaturized and the manufacturing cost can be reduced, and the mounting accuracy of the vertical cavity surface emitting laser can be improved. Can be planned.

また、上記電子部品の製造方法において、上記垂直共振器型面発光レーザの発光波長が780nmであってもよい。この場合は、波長780nmのレーザ光を出射する電子部品の小型化及び製造コストの低減を図ることができる。   In the electronic component manufacturing method, the emission wavelength of the vertical cavity surface emitting laser may be 780 nm. In this case, it is possible to reduce the size and manufacturing cost of an electronic component that emits laser light having a wavelength of 780 nm.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材の材料は、BK7、D263、CG−1、合成石英又はソーダライムガラスであってもよい。この場合は、波長780nmのレーザ光に対する透過率に優れたBK7、D263、CG−1、合成石英又はソーダライムガラスからなる光透過部材を用いることにより、上記垂直共振器型面発光レーザから出射されるレーザ光を効率的に外部に取り出すことができる。特に、比較的安価な合成石英又はソーダライムガラスを用いた場合は、上記垂直共振器型面発光レーザを備えた電子部品の製造コストを更に低減することができる。   In the electronic component manufacturing method, the material of the light transmitting member may be BK7, D263, CG-1, synthetic quartz, or soda lime glass. In this case, by using a light transmitting member made of BK7, D263, CG-1, synthetic quartz or soda lime glass having excellent transmittance with respect to a laser beam having a wavelength of 780 nm, it is emitted from the vertical cavity surface emitting laser. Laser light can be efficiently extracted outside. In particular, when a relatively inexpensive synthetic quartz or soda lime glass is used, the manufacturing cost of an electronic component equipped with the vertical cavity surface emitting laser can be further reduced.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材の両面に、波長780nmの光の反射を防止する反射防止膜を形成してもよい。この場合は、反射防止膜により、上記垂直共振器型面発光レーザから出射された波長780nm光が光透過部材を通過するときの反射を防止し、上記垂直共振器型面発光レーザからの光を効率的に外部へ取り出すことができる。   In the method for manufacturing an electronic component, an antireflection film that prevents reflection of light having a wavelength of 780 nm may be formed on both surfaces of the light transmitting member. In this case, the antireflection film prevents reflection when light having a wavelength of 780 nm emitted from the vertical cavity surface emitting laser passes through the light transmitting member, and allows light from the vertical cavity surface emitting laser to pass through. It can be taken out efficiently.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光電変換素子は、光を受けて電気信号を出力する受光素子であり、上記光出射部は、外部から該光電変換素子への光が通過する光入射部であり、上記駆動電極は、該電気信号の出力電極であってもよい。この場合は、上記光透過部材と上記受光素子とを有する電子部品の小型化及び製造コストの低減を図ることができるとともに、その受光素子の取り付け精度の向上を図ることができる。   In the method for manufacturing an electronic component, the photoelectric conversion element is a light receiving element that receives light and outputs an electrical signal, and the light emitting unit receives light from which light from the outside passes through the photoelectric conversion element. The drive electrode may be an output electrode for the electrical signal. In this case, the electronic component having the light transmitting member and the light receiving element can be reduced in size and the manufacturing cost can be reduced, and the mounting accuracy of the light receiving element can be improved.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、該光電変換素子の電極と接続される素子接続用電極と該光透過部材の端部にある基板接続用電極とを結ぶ配線を形成してもよい。この場合は、基板接続用電極を素子接続用電極とは離れた位置に形成し、その基板接続用電極と素子接続用電極とを電極接続部で結んでいるので、基板接続用電極の配置の自由度が高まる。   In the method for manufacturing an electronic component, an element connection electrode connected to an electrode of the photoelectric conversion element and a substrate connection at an end of the light transmission member on a surface of the light transmission member on the photoelectric conversion element side You may form the wiring which connects the electrode for an object. In this case, the substrate connection electrode is formed at a position distant from the element connection electrode, and the substrate connection electrode and the element connection electrode are connected by the electrode connection portion. Increased freedom.

また、上記電子部品の製造方法において、上記接合材料によるレーザ接合を行う場合、上記配線の材料として、該レーザ接合に用いるレーザ光を透過しやすい材料を用いてもよい。この場合は、上記レーザ接合に用いるレーザ光を光透明部材の表面から照射し、配線の部分を効率的に通過させて接合材料の部分に到達させることができるので、接合材料を溶融させて接合するために必要なレーザ光のパワーを小さくすることができる。   In the electronic component manufacturing method, when laser bonding is performed using the bonding material, a material that easily transmits laser light used for the laser bonding may be used as the wiring material. In this case, the laser beam used for the laser bonding can be irradiated from the surface of the light transparent member, and the wiring portion can be efficiently passed to reach the bonding material portion. Therefore, it is possible to reduce the power of the laser beam necessary for the purpose.

また、上記電子部品の製造方法において、上記配線の材料は、アルミニウム、金、又は銅であってもよい。この場合は、アルミニウム、金、又は銅を用いることにより、蒸着やメッキ等の方法によって上記配線を容易に形成できる。   In the electronic component manufacturing method, the wiring material may be aluminum, gold, or copper. In this case, by using aluminum, gold, or copper, the wiring can be easily formed by a method such as vapor deposition or plating.

また、上記電子部品の製造方法において、上記配線と上記光透過部材との間にアンカー層を設けてもよい。この場合は、アンカー層により光透過部材に対する配線の密着性を高めることができる。   In the electronic component manufacturing method, an anchor layer may be provided between the wiring and the light transmitting member. In this case, the adhesion of the wiring to the light transmitting member can be enhanced by the anchor layer.

また、上記電子部品の製造方法において、上記アンカー層を介して上記配線を形成した後、上記光透過部材の該配線が形成された面とは反対側の表面から該配線の形成領域にレーザ光を照射し、該アンカー層を除去してもよい。この場合は、   In the method for manufacturing the electronic component, after the wiring is formed through the anchor layer, a laser beam is applied from the surface opposite to the surface on which the wiring is formed to the formation region of the wiring. May be removed to remove the anchor layer. in this case,

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材の上記配線が形成される面とは反対側の表面のうち該配線に対向する領域に、防眩加工を施してもよい。この場合は、上記光透過部材の上記配線が形成される面の全面に金属膜等の導電性膜を形成した後、反対側の面から導電性膜を除去する配線パターンニング用のレーザ光を照射する際に、上記防眩加工により、配線を形成したい部分にはレーザ光が到達しにくくなるので、上記光透過部材の配線を簡易に且つ確実に形成できる。   Moreover, in the manufacturing method of the electronic component, an anti-glare process may be performed on a region of the light transmitting member opposite to the surface on which the wiring is formed, on a region facing the wiring. In this case, after forming a conductive film such as a metal film on the entire surface of the light transmitting member on which the wiring is formed, a laser beam for wiring patterning is used to remove the conductive film from the opposite surface. When irradiating, the anti-glare processing makes it difficult for the laser light to reach the part where the wiring is to be formed, so the wiring of the light transmitting member can be easily and reliably formed.

また、上記電子部品の製造方法において、紫外レーザのレーザ光を照射することにより上記防眩加工を施してもよい。この場合は、紫外レーザのレーザ光を選択的に照射することにより、上記光透過部材の表面を部分的に防眩加工する処理を正確且つ容易に行うことができる。なお、上記紫外レーザとしては、例えばエキシマレーザを用いることができる。   In the electronic component manufacturing method, the anti-glare processing may be performed by irradiating a laser beam of an ultraviolet laser. In this case, by selectively irradiating the laser beam of the ultraviolet laser, the process of partially anti-glare processing the surface of the light transmitting member can be performed accurately and easily. For example, an excimer laser can be used as the ultraviolet laser.

また、上記電子部品の製造方法において、上記配線の表面にはんだメッキを施してもよい。この場合は、光透過部材の配線の表面にメッキしたはんだを、配線の両端部それぞれの電極において、光電変換素子の駆動電極とのレーザ接合の接合材料および基板の電極との接合材料として用いることができる。   In the electronic component manufacturing method, the surface of the wiring may be subjected to solder plating. In this case, solder plated on the surface of the wiring of the light transmitting member is used as a bonding material for laser bonding to the drive electrode of the photoelectric conversion element and a bonding material to the electrode of the substrate at each electrode at both ends of the wiring. Can do.

また、上記電子部品の製造方法において、上記配線の表面のはんだを付着させたい部分を金でメッキし、はんだを付着させたくない部分を酸化させ、該配線の金でメッキした部分の一部に該配線のはんだメッキに必要な量のはんだを付着させ、該付着させたはんだを溶融させることにより、該配線にはんだメッキを施してもよい。この場合は、配線の金メッキした部分に一部にはんだを供給して溶融させることにより、配線の所望の部分にはんだを容易に付着させることができる。   Further, in the method of manufacturing the electronic component, a portion of the wiring surface where the solder is to be attached is plated with gold, a portion where the solder is not desired to be oxidized is oxidized, and a portion of the wiring is plated with gold. Solder plating may be applied to the wiring by attaching an amount of solder necessary for solder plating of the wiring and melting the attached solder. In this case, the solder can be easily attached to a desired portion of the wiring by supplying the solder to the gold-plated portion of the wiring and melting it.

また、上記電子部品の製造方法において、上記はんだの溶融の前に、上記配線の素子接続用電極及び基板接続用電極の外周部を酸化しておいてもよい。この場合は、上記溶融したはんだが素子接続用電極及び基板接続用電極の外周部から過剰にはみ出して電極同士が短絡するのを防止できる。   In the method for manufacturing an electronic component, the outer peripheral portions of the element connection electrode and the substrate connection electrode of the wiring may be oxidized before the melting of the solder. In this case, it is possible to prevent the molten solder from excessively protruding from the outer peripheral portions of the element connecting electrode and the substrate connecting electrode and short-circuiting the electrodes.

また、上記電子部品の製造方法において、上記はんだメッキは、上記配線の素子接続用電極及び基板接続用電極の外周部から面方向にはんだがはみ出るように行ってもよい。この場合は、上記素子接続用電極及び基板接続用電極に対してレーザ接合を行う際に、光透過部材を通過してきたレーザ接合用のレーザ光が、各電極からはみ出た接合材料としてのはんだに直接当たることにより、はんだが溶融しやすくなるので、レーザ接合を効率的に行うことができる。   In the electronic component manufacturing method, the solder plating may be performed so that the solder protrudes in the surface direction from the outer peripheral portions of the element connecting electrode and the substrate connecting electrode of the wiring. In this case, when laser bonding is performed on the element connection electrode and the substrate connection electrode, the laser beam for laser bonding that has passed through the light transmitting member is applied to the solder as a bonding material protruding from each electrode. By direct contact, the solder is easily melted, so that laser joining can be performed efficiently.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、金属膜を表面に有するテープ、シート又はフィルムを貼り付け、該金属膜の不要部分が除去された後の該金属膜の表面をはんだメッキすることにより、該光電変換素子の電極と接続される素子接続用電極と該光透過部材の端部にある基板接続用電極とを結ぶ配線を形成してもよい。この場合は、光透過部材の面に金属膜付きのテープ等を貼り付けるという簡易な方法で上記配線を形成することができる。   In the method for manufacturing an electronic component, after a tape, a sheet, or a film having a metal film is pasted on the surface of the light transmitting member on the photoelectric conversion element side, and unnecessary portions of the metal film are removed. By solder plating the surface of the metal film, a wiring connecting the element connection electrode connected to the electrode of the photoelectric conversion element and the substrate connection electrode at the end of the light transmitting member may be formed. Good. In this case, the wiring can be formed by a simple method of attaching a tape or the like with a metal film to the surface of the light transmitting member.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に貼り付けるものは、金属膜を表面に有する、ポリイミド等の樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)シート又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムであってもよい。この場合は、長期高耐熱性及び高熱伝導率を有する金属膜付きのポリイミド等の樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)シート又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムを貼り付けることにより、上記配線が製造時の加熱処理や光電変換素子の動作時の発熱によって上記テープ等からなる配線のベース層が劣化することがなく、配線の機能を長期にわたって維持して長寿命化を図ることができるとともに、また、光電変換素子の動作時の発熱を遮蔽することなく光透過部材側に伝えて良好な放熱に寄与できる。更に、上記配線のベース層としてのテープ等は透明性にも優れているので、上記レーザ接合の際に光透過部材側から光電変換素子の駆動電極上の接合材料にレーザ光を照射する場合に、そのレーザ光の光量低下を抑制することができる。   Moreover, in the said manufacturing method of an electronic component, what is affixed on the surface by the side of the said photoelectric conversion element of the said light transmissive member is resin tape, such as a polyimide which has a metal film on the surface, TSA (for semiconductors by Toray Industries, Inc.) An adhesive) sheet or a filler-less highly transparent film may be used. In this case, stick a resin tape such as polyimide with a metal film having a long-term high heat resistance and high thermal conductivity, a TSA (adhesive for semiconductor manufactured by Toray Industries, Inc.) sheet or a highly transparent film without filler. Thus, the wiring base layer made of the tape or the like is not deteriorated due to heat treatment during manufacturing of the wiring or operation of the photoelectric conversion element, and the function of the wiring is maintained over a long period of time, thereby extending the life. In addition, the heat generated during the operation of the photoelectric conversion element can be transmitted to the light transmitting member side without being shielded, thereby contributing to good heat dissipation. Furthermore, since the tape as the base layer of the wiring is excellent in transparency, when the laser beam is irradiated to the bonding material on the drive electrode of the photoelectric conversion element from the light transmitting member side during the laser bonding. , It is possible to suppress a decrease in the amount of laser light.

また、上記電子部品の製造方法において、上記配線は、上記素子接続用電極と上記基板接続用電極とを結ぶ上記電極接続部の途中に、はんだ供給用の中間パッドを有し、該中間パッドにはんだを供給した後、該供給したはんだを溶融させて該素子接続用電極と上記基板接続用電極とに向けて延ばすことにより、該配線の表面にはんだメッキしてもよい。この場合は、上記電極接続部の途中にある中間パッドにはんだを供給した後、加熱することにより、中間パッド上のはんだを溶融させて配線上を移動させることにより、配線の表面をはんだでメッキできる。特に、素子接続用電極のサイズや配線の幅が小さくそれらの表面にはんだを直接付けることが難しい場合でも、上記中間パッドからの溶融はんだを延ばして供給することにより、配線の素子接続用電極及びそこから延びる電極接続部の表面を確実にはんだでメッキできる。   In the method of manufacturing an electronic component, the wiring has an intermediate pad for supplying solder in the middle of the electrode connecting portion connecting the element connecting electrode and the substrate connecting electrode. After supplying the solder, the surface of the wiring may be solder-plated by melting the supplied solder and extending it toward the element connecting electrode and the substrate connecting electrode. In this case, after supplying the solder to the intermediate pad in the middle of the electrode connection portion, by heating, the solder on the intermediate pad is melted and moved on the wiring, thereby plating the surface of the wiring with the solder. it can. In particular, even when the size of the element connection electrode or the width of the wiring is small and it is difficult to directly apply solder to the surface, by extending and supplying the molten solder from the intermediate pad, the element connection electrode of the wiring and The surface of the electrode connecting portion extending therefrom can be reliably plated with solder.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光電変換素子の駆動電極が複数設けられ、上記配線で結ばれる上記素子接続用電極と上記基板接続用電極との組が、上記各駆動電極に対応するように複数設けられている場合、該複数の配線における上記はんだ供給用の中間パッドと上記素子接続用電極との距離が互いに等しくなるように該中間パッドを設けておいてもよい。この場合は、複数の配線におけるはんだ供給用の中間パッドと素子接続用電極との距離が互いに等しいので、中間パッドにはんだを供給した後、同じ加熱処理条件で中間パッド上の溶融はんだを素子接続用電極まで行き渡らせることができるため、上記複数の素子接続用電極を確実にはんだメッキすることができる。   In the electronic component manufacturing method, a plurality of drive electrodes of the photoelectric conversion element are provided, and a set of the element connection electrode and the substrate connection electrode connected by the wiring corresponds to each of the drive electrodes. In such a case, the intermediate pads may be provided so that the distance between the solder supplying intermediate pad and the element connecting electrode in the plurality of wirings is equal to each other. In this case, since the distance between the intermediate pad for supplying solder and the element connecting electrode in the plurality of wirings is equal to each other, after supplying the solder to the intermediate pad, the molten solder on the intermediate pad is connected to the element under the same heat treatment conditions. Therefore, the plurality of element connection electrodes can be surely solder-plated.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、該光電変換素子の電極と接続される素子接続用電極と該光透過部材の端部にある基板接続用電極とを結ぶアルミニウムからなる配線を形成し、該配線の表面に、ニッケルメッキ層を形成するメッキ処理、金メッキ層を形成するメッキ処理、又は、ニッケルメッキ層の上に更に金メッキ層を形成するメッキ処理を施し、該光透過部材の表面の少なくとも上記光電変換素子から出射する光が通過する部分に、該光電変換素子から出射する光の反射を防止する反射防止膜を形成してもよい。この場合は、光透過部材の光電変換素子側の面にアルミニウムの配線を形成した後に反射防止膜を形成しているので、アルミニウムの配線形成前に光透過部材上に反射防止膜を形成する場合に比して、アルミニウムの配線と光透過部材との密着性を高めることができる。また、アルミニウムの配線の上にニッケルメッキ層を形成し、更にその上にはんだの固着力が高い金メッキ層を形成しているので、アルミニウムの配線上の直接はんだを付ける場合に比してはんだの固着力を高めることができる。   In the method for manufacturing an electronic component, an element connection electrode connected to an electrode of the photoelectric conversion element and a substrate connection at an end of the light transmission member on a surface of the light transmission member on the photoelectric conversion element side Forming a wiring made of aluminum connecting the electrode for plating, and forming a nickel plating layer on the surface of the wiring, a plating process forming a gold plating layer, or forming a gold plating layer on the nickel plating layer An antireflection film for preventing reflection of light emitted from the photoelectric conversion element may be formed on at least a portion of the surface of the light transmitting member through which light emitted from the photoelectric conversion element passes, by plating. In this case, since the antireflection film is formed after the aluminum wiring is formed on the surface of the light transmitting member on the photoelectric conversion element side, the antireflection film is formed on the light transmitting member before forming the aluminum wiring. Compared to the above, the adhesion between the aluminum wiring and the light transmitting member can be improved. In addition, a nickel plating layer is formed on the aluminum wiring, and a gold plating layer with high solder adhesion is formed on the aluminum wiring. The fixing force can be increased.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光電変換素子の駆動電極を複数設け、上記配線で結ばれる上記素子接続用電極と上記基板接続用電極との組を、上記各駆動電極に対応するように複数設け、各配線の幅及び長さを、各配線の電気的特性が同等になるように設定してもよい。この場合は、電子部品内での各配線の電気的特性が同等になるので、上記光電変換素子を駆動する駆動回路側の駆動制御回路又は駆動制御プログラムの設計が容易になる。   In the electronic component manufacturing method, a plurality of drive electrodes for the photoelectric conversion element are provided, and a set of the element connection electrode and the substrate connection electrode connected by the wiring corresponds to each of the drive electrodes. A plurality of wirings may be provided, and the width and length of each wiring may be set so that the electrical characteristics of each wiring are equal. In this case, since the electrical characteristics of each wiring in the electronic component are equal, it becomes easy to design a drive control circuit or a drive control program on the drive circuit side for driving the photoelectric conversion element.

また、上記電子部品の製造方法において、上記複数の配線を、各配線の長さが同等になるように上記素子接続用電極から外側の基板接続用電極に向かって扇状に延ばすように形成し、上記複数の基板接続用電極を、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面の端部に円弧状に配置してもよい。この場合は、複数の基板接続用電極が円弧状に配置しているため、各基板接続用電極と基板側の電極との接合処理が容易になる。   In the electronic component manufacturing method, the plurality of wirings are formed so as to extend in a fan shape from the element connection electrodes toward the outer substrate connection electrodes so that the lengths of the respective wirings are equal. The plurality of substrate connection electrodes may be arranged in an arc shape at an end portion of the surface of the light transmission member on the photoelectric conversion element side. In this case, since the plurality of substrate connection electrodes are arranged in an arc shape, the bonding process between each substrate connection electrode and the substrate-side electrode is facilitated.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光電変換素子は、上記光出射部に互いに独立に駆動される複数の発光部を有するとともに、該複数の発光部と上記複数の駆動電極とがそれぞれ素子内配線で結ばれ、各素子内配線の幅及び長さを、各素子内配線の電気的特性が同等になるように設定してもよい。この場合は、光電変換素子の内部にある各素子内配線を含めて電子部品内での各配線の電気的特性が同等になるので、上記光電変換素子を駆動する駆動回路側の駆動制御回路又は駆動制御プログラムの設計が更に容易になる。   In the electronic component manufacturing method, the photoelectric conversion element includes a plurality of light emitting units that are driven independently of each other by the light emitting unit, and the plurality of light emitting units and the plurality of driving electrodes are respectively elements. The width and length of each element internal wiring may be set so that the electrical characteristics of each element internal wiring are equal. In this case, since the electrical characteristics of each wiring in the electronic component including the wiring in each element inside the photoelectric conversion element are equal, the drive control circuit on the side of the driving circuit that drives the photoelectric conversion element or The design of the drive control program is further facilitated.

また、上記電子部品の製造方法において、上記複数の素子内配線を、各素子内配線の長さが同等になるように上記発光部から外側の駆動電極に向かって扇状に延ばすように形成し、上記複数の駆動電極を、上記光電変換素子の光出射部がある面の端部に円弧状に配置してもよい。この場合は、複数の駆動電極が円弧状に配置しているため、各駆動電極と光透過部材側の素子接合用電極との接合処理が容易になる。   Further, in the method of manufacturing the electronic component, the plurality of element wirings are formed so as to extend in a fan shape from the light emitting portion toward the outer drive electrode so that the lengths of the respective element wirings are equal, The plurality of drive electrodes may be arranged in an arc shape at an end of a surface where the light emitting portion of the photoelectric conversion element is provided. In this case, since the plurality of drive electrodes are arranged in an arc shape, the bonding process between each drive electrode and the element bonding electrode on the light transmitting member side is facilitated.

また、上記電子部品の製造方法において、上記基板接続用電極の表面にプリフラックスコーティングを施してもよい。この場合は、基板接続用電極の表面にコーティングしたプリフラックスにより、はんだの濡れ性を高めることができるので、光透過部材側の基板接続用電極と基板側の電極とをはんだを介して確実に接続できる。   In the electronic component manufacturing method, a preflux coating may be applied to the surface of the substrate connection electrode. In this case, the pre-flux coated on the surface of the substrate connection electrode can increase the wettability of the solder, so that the substrate connection electrode on the light transmitting member side and the electrode on the substrate side can be securely connected via the solder. Can connect.

また、上記電子部品の製造方法において、上記基板接続用電極の表面に金メッキを施してもよい。この場合は、基板接続用電極の表面の金メッキにより基板接続用電極に対するはんだの固着力を高めることができる。   In the electronic component manufacturing method, the surface of the substrate connection electrode may be plated with gold. In this case, the adhesion of solder to the substrate connection electrode can be increased by gold plating on the surface of the substrate connection electrode.

また、上記電子部品の製造方法において、上記レーザ接合を行うレーザ光として、断面方向のレーザエネルギー分布が均一化されたレーザ光を用いてもよい。この場合は、レーザ接合を行うときのレーザ光の電子部品に対する相対的な移動距離が短くても、複数のレーザ接合箇所を均一に接合できる。   In the electronic component manufacturing method, a laser beam having a uniform laser energy distribution in a cross-sectional direction may be used as the laser beam for performing the laser bonding. In this case, even if the relative movement distance of the laser beam with respect to the electronic component when performing laser bonding is short, a plurality of laser bonding locations can be bonded uniformly.

また、上記電子部品の製造方法において、上記レーザ接合を行うレーザ接合箇所が複数箇所である場合、上記レーザ接合を行うレーザ光として、該複数のレーザ接合箇所の少なくとも一箇所を照射する程度の照射スポットの大きさを有し且つ所定の繰り返し周波数で間欠的に出力されるパルス状のレーザ光を用い、該パルス状のレーザ光が各レーザ接合箇所に照射されるように、当該電子部品と該レーザ光との間の相対的な移動と該レーザ光の繰り返し周波数との同期させてもよい。この場合は、複数のレーザ接合箇所のそれぞれに対するレーザ光の照射エネルギーを高めることができるため、接合材料がレーザ光を吸収しにくい場合でも良好に溶融させてレーザ接合を確実に行うことができる。   Further, in the method for manufacturing an electronic component, when there are a plurality of laser bonding portions for performing the laser bonding, the laser beam for performing the laser bonding is irradiated so as to irradiate at least one of the plurality of laser bonding portions. Using a pulsed laser beam having a spot size and intermittently output at a predetermined repetition frequency, the electronic component and the electronic component The relative movement between the laser beam and the repetition frequency of the laser beam may be synchronized. In this case, since the irradiation energy of the laser beam to each of the plurality of laser bonding portions can be increased, even when the bonding material hardly absorbs the laser beam, it can be melted well and laser bonding can be reliably performed.

また、上記電子部品の製造方法において、上記光透過部材の板材又はシート材に上記光電変換素子を複数装着して上記レーザ接合を行い、該光透過部材の板材又はシート材を各光電変換素子ごとに分離するように切断することにより、光電変換素子を備えた複数の電子部品をまとめて製造してもよい。この場合は、上記光透過部材の板材又はシート材上で、光電変換素子を備えた複数の電子部品をまとめて製造できるため、かかる電子部品の製造効率を高めることができる。   In the electronic component manufacturing method, a plurality of the photoelectric conversion elements are mounted on a plate material or a sheet material of the light transmission member and the laser bonding is performed, and the plate material or the sheet material of the light transmission member is attached to each photoelectric conversion element. A plurality of electronic components provided with photoelectric conversion elements may be manufactured together by cutting them so as to be separated. In this case, since the several electronic component provided with the photoelectric conversion element can be manufactured collectively on the board | plate material or sheet | seat material of the said light transmissive member, the manufacture efficiency of this electronic component can be improved.

また、上記電子部品の製造方法において、上記レーザ光が照射されている上記電子部品の周辺の気体を吸引し、該吸引した気体から、該レーザ光の照射によって該電子部品から放出された物質を除去してもよい。この場合は、レーザ接合に用いるレーザ光が電子部品に照射されている際に電子部品から有害な物質が放出されても、その物質を含む気体を吸引し、その吸引した気体から上記有害な物質を除去できるため、上記電子部品のレーザ接合を行っている場所の良好な作業環境を維持できる。   In the electronic component manufacturing method, a gas around the electronic component irradiated with the laser light is sucked, and a substance released from the electronic component by the laser light irradiation is sucked from the sucked gas. It may be removed. In this case, even if a harmful substance is released from the electronic component when the laser beam used for laser bonding is irradiated to the electronic component, the gas containing the substance is sucked and the harmful substance is extracted from the sucked gas. Therefore, it is possible to maintain a good working environment in a place where the electronic parts are laser-joined.

本発明に係る基板の製造方法は、上記いずれかの電子部品の製造方法により上記電子部品を製造し、該電子部品を基板に装着し、該電子部品の光透過部材に形成された上記基板接続用電極と該基板の電極とをはんだ付けするものである。この場合は、上記電子部品付きの基板の小型化と製造コストの低減とを図ることができる。   The substrate manufacturing method according to the present invention is the above-described substrate connection formed on the light transmission member of the electronic component by manufacturing the electronic component by any one of the electronic component manufacturing methods, mounting the electronic component on the substrate, and The electrode for use and the electrode of the substrate are soldered. In this case, it is possible to reduce the size of the substrate with the electronic component and reduce the manufacturing cost.

上記基板の製造方法において、上記電子部品は、上記光透過部材の基板接続用電極が形成されている端部が、上記光電変換素子に対向している部分よりも外側に露出し、上記基板には、上記光電変換素子を該基板側に向けて上記電子部品が装着されたときに該光電変換素子が干渉しないで挿入可能な開口が形成されていてもよい。この場合は、基板に形成した開口に光電変換素子を挿入するように電子部品を実装することにより、基板から突出する部分を少なくすることができるので、上記電子部品を実装した基板の小型化を図ることができる。   In the method for manufacturing the substrate, the electronic component has an end portion where the electrode for connecting the substrate of the light transmitting member is formed outside the portion facing the photoelectric conversion element, and the electronic component is exposed to the substrate. May be formed with an opening that allows the photoelectric conversion element to be inserted without interference when the electronic component is mounted with the photoelectric conversion element facing the substrate. In this case, by mounting the electronic component so that the photoelectric conversion element is inserted into the opening formed in the substrate, the portion protruding from the substrate can be reduced, so the size of the substrate on which the electronic component is mounted can be reduced. Can be planned.

また、上記基板の製造方法において、上記基板の開口に挿入された上記光電変換素子の裏面と該基板の裏面とを接着剤で接続してもよい。この場合は、上記光電変換素子の裏面と基板の裏面とが接着剤で接続されているので、光電変換素子のぐらつきを抑制することができ、光電変換素子の強度が高まり、光電変換素子から出射される光軸のブレも防止できる。   Moreover, in the manufacturing method of the said board | substrate, you may connect the back surface of the said photoelectric conversion element inserted in opening of the said board | substrate, and the back surface of this board | substrate with an adhesive agent. In this case, since the back surface of the photoelectric conversion element and the back surface of the substrate are connected by an adhesive, wobbling of the photoelectric conversion element can be suppressed, the strength of the photoelectric conversion element is increased, and the light is emitted from the photoelectric conversion element. The optical axis can be prevented from blurring.

また、上記基板の製造方法において、上記光電変換素子の裏面にあるグランド電極と上記基板の裏面にあるグランド電極とを導電性の接着剤で接続してもよい。この場合には、光電変換素子のグランド電極と基板のグランド電極との接続に、光電変換素子の固定用の導電性接着剤を兼用できるため、両グランド電極を接続する配線を別に設ける必要がない。   Moreover, in the manufacturing method of the said board | substrate, you may connect the ground electrode in the back surface of the said photoelectric conversion element, and the ground electrode in the back surface of the said board | substrate with a conductive adhesive. In this case, since the conductive adhesive for fixing the photoelectric conversion element can also be used for the connection between the ground electrode of the photoelectric conversion element and the ground electrode of the substrate, it is not necessary to separately provide wiring for connecting both ground electrodes. .

本発明によれば、パッケージを用いずに、光電変換素子の駆動電極と光透過部材の素子接続用電極とを導電性の接合材料を介して接合することにより、基板に装着可能な光電変換素子及び光透過部材を備えた電子部品を製造できるため、上記光電変換素子等を備えた電子部品の小型化及び製造コストの低減を図ることができる。しかも、上記接合により、パッケージを介さずに光電変換素子を光透過部材に精度よく位置決めして取り付けることが可能になるので、光電変換素子の取り付け精度の向上を図ることができるという効果がある。   According to the present invention, a photoelectric conversion element that can be mounted on a substrate by bonding a driving electrode of a photoelectric conversion element and an element connection electrode of a light transmission member via a conductive bonding material without using a package. And since the electronic component provided with the light transmissive member can be manufactured, it is possible to reduce the size and the manufacturing cost of the electronic component including the photoelectric conversion element and the like. In addition, the bonding enables the photoelectric conversion element to be positioned and attached to the light transmission member with high accuracy without using a package, so that there is an effect that the attachment accuracy of the photoelectric conversion element can be improved.

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図1は本実施形態に係る電子部品の一構成例を示す断面図である。この電子部品1は、電気信号に基づいて光を発する光電変換素子としての垂直共振器型面発光レーザ(以下「VCSEL素子」という。)10と、VCSEL素子10の光出射部側に設けられる光透過部材としてのガラス板であるキャップガラス20とを備えている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of an electronic component according to this embodiment. The electronic component 1 includes a vertical cavity surface emitting laser (hereinafter referred to as a “VCSEL element”) 10 as a photoelectric conversion element that emits light based on an electrical signal, and light provided on the light emitting part side of the VCSEL element 10. The cap glass 20 which is a glass plate as a transmissive member is provided.

上記VCSEL素子10は、端面からではなく、厚さ方向に直交する半導体基板面から所定の波長のレーザ光を出射するものである。なお、本実施形態では、光電変換素子として、化合物半導体が積層された構造で波長780nmのレーザ光を出力するVCSEL素子10を有する電子部品について説明するが、本発明は、このVCSEL素子10に限定されることなく、他の光電変換素子を有する電子部品について適用することができる。   The VCSEL element 10 emits laser light having a predetermined wavelength from the semiconductor substrate surface orthogonal to the thickness direction, not from the end surface. In this embodiment, an electronic component having a VCSEL element 10 that outputs a laser beam having a wavelength of 780 nm as a photoelectric conversion element with a structure in which compound semiconductors are stacked will be described. However, the present invention is limited to this VCSEL element 10. The present invention can be applied to an electronic component having another photoelectric conversion element.

上記キャップガラス20は、VCSEL素子10から出力されるレーザ光(本実施形態の場合は波長780nmのレーザ光)が透過する材料で構成され、その両面に、VCSEL素子10からのレーザ光の反射を防止する反射防止膜21が形成されている。キャップガラス20のVCSEL素子10側の面には、VCSEL素子10の駆動電極と接続される素子接続用電極と、キャップガラス20の端部にある基板接続用電極と、これらの素子接続用電極と基板接続用電極とを結ぶ電極接続部とからなる配線30が形成されている。また、VCSEL素子10の光出射部がある表面(図1の上側の面)の端部には駆動電極が設けられている。このVCSEL素子10の駆動電極と、キャップガラス20の配線の素子接続用電極とが、導電性の接合材料40を介してレーザ接合されている。また、VCSEL素子10の端部とキャップガラス20の表面とが樹脂50で封止され、VCSEL素子10とキャップガラス20との隙間に密閉された空間70が形成されている。この密閉空間70には、VCSEL素子10が劣化しないように、乾燥窒素ガス等の乾燥気体が充填されている。また、キャップガラス20上の配線30の外側端部にある基板接続用電極には、基板側の電極と接続するためのはんだメッキによるはんだ層60が形成されている。   The cap glass 20 is made of a material that transmits laser light output from the VCSEL element 10 (laser light having a wavelength of 780 nm in the present embodiment), and reflects the laser light from the VCSEL element 10 on both sides thereof. An antireflection film 21 is formed to prevent it. On the surface of the cap glass 20 on the VCSEL element 10 side, an element connection electrode connected to the drive electrode of the VCSEL element 10, a substrate connection electrode at the end of the cap glass 20, and these element connection electrodes, A wiring 30 including an electrode connecting portion that connects the substrate connecting electrodes is formed. Further, a drive electrode is provided at the end of the surface (upper surface in FIG. 1) where the light emitting portion of the VCSEL element 10 is provided. The drive electrode of the VCSEL element 10 and the element connection electrode of the wiring of the cap glass 20 are laser bonded via a conductive bonding material 40. Moreover, the edge part of the VCSEL element 10 and the surface of the cap glass 20 are sealed with the resin 50, and a sealed space 70 is formed in the gap between the VCSEL element 10 and the cap glass 20. The sealed space 70 is filled with a dry gas such as a dry nitrogen gas so that the VCSEL element 10 does not deteriorate. In addition, a solder layer 60 by solder plating for connecting to the electrode on the substrate side is formed on the substrate connection electrode at the outer end of the wiring 30 on the cap glass 20.

上記キャップガラス20の材料としては、記号BK7、D263又はCG−1で特定される材料や、比較的安価な合成石英又はソーダライムガラスを使用することができる。上記BK7、D263、CG−1等のキャップガラスは、例えば京セラ株式会社製のものを使用することができ、図2(a),(b)に示すように780nmを含む広い波長範囲で良好な分光透過率を有している。   As a material of the cap glass 20, a material specified by the symbols BK7, D263, or CG-1, or a relatively inexpensive synthetic quartz or soda lime glass can be used. As the cap glass such as BK7, D263, CG-1, etc., those manufactured by Kyocera Corporation can be used, for example, which are good in a wide wavelength range including 780 nm as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). It has spectral transmittance.

また、上記キャップガラス20の両面に形成される反射防止膜21としては、例えば、図3に示すようなSiO層21a及びSiO膜21bからなる2層構造の反射防止膜21を形成することができる。図示の例では、まずキャップガラス20(例えば、材料:D263,厚さ:0.55mm)の表面にSiO層21a(例えば、厚さ:100nm)が形成され、更にその上にSiO膜21b(例えば、厚さ:100nm)が形成されている。この反射防止膜21は、上記配線30などを形成する前に予めキャップガラス20の両面に形成してもいいし、上記上記配線30などを形成した後、レーザ接合用の接合材料を配線電極上に設ける前に形成してもよい。また、反射防止膜21は、キャップガラスの全面に形成してもいいし、少なくともVCSEL素子10からのレーザ光が透過する表面部分に選択的に形成してもよい。 Further, as the antireflection film 21 formed on both surfaces of the cap glass 20, for example, the antireflection film 21 having a two-layer structure composed of the SiO layer 21a and the SiO 2 film 21b as shown in FIG. 3 may be formed. it can. In the illustrated example, first, a SiO layer 21a (for example, thickness: 100 nm) is formed on the surface of the cap glass 20 (for example, material: D263, thickness: 0.55 mm), and further, a SiO 2 film 21b ( For example, a thickness: 100 nm) is formed. The antireflection film 21 may be formed on both surfaces of the cap glass 20 in advance before forming the wiring 30 or the like, or after forming the wiring 30 or the like, a bonding material for laser bonding may be formed on the wiring electrode. You may form before providing. The antireflection film 21 may be formed on the entire surface of the cap glass, or may be selectively formed on at least a surface portion through which the laser light from the VCSEL element 10 is transmitted.

また、上記反射防止膜12の劣化を防止するために、反射防止膜12の表面は、樹脂テープ(例えばポリイミドからなる樹脂テープ、TSA(Toray Semiconductor Adhesive)シート、又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムで保護してもよい。上記TSAシートは、240°Cや260°Cの耐リフロー性を有する東レ株式会社製の半導体用接着剤シートであり、熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂、無機粒子及び硬化剤からなる接着剤層(厚さ:30,50,100μm)がカバーフィルム(PETフィルム,厚さ:38,75μm)で挟まれたサンドイッチ構造をしたものである。また、このTSAシートは、リフロー等の高温処理の後においても、高い透明性(波長780nmに対する分光透過率:97%)を有している。上記フィラーレスの高透明タイプのフィルムとしては、例えば、滑剤が混練されていない材料からなる樹脂フィルムを用いることができる。   In order to prevent the deterioration of the antireflection film 12, the surface of the antireflection film 12 is made of a resin tape (for example, a resin tape made of polyimide, a TSA (Toray Semiconductor Adhesive) sheet, or a filler-less highly transparent film. The TSA sheet is an adhesive sheet for semiconductors manufactured by Toray Industries, Inc. having a reflow resistance of 240 ° C. or 260 ° C., and is a thermoplastic resin, an epoxy resin, inorganic particles, and a curing agent. The adhesive layer (thickness: 30, 50, 100 μm) is sandwiched between cover films (PET film, thickness: 38, 75 μm), and this TSA sheet is reflowed, etc. Even after the high-temperature treatment, high transparency (spectral transmittance for wavelength 780 nm: 97%). The type of film, for example, it is possible to use a resin film lubricant is made of a material that is not kneaded.

上記配線30の材料としては、上記レーザ接合に用いるレーザ光(例えば波長1064nmのYAGレーザ光)を透過しやすい導電性材料を用いることができる。配線30の材料の具体例としては、アルミニウム、金、銅等を挙げることができ、必要に応じて、配線30とキャップガラス20上の反射防止膜12との間にアンカー層を設けてもよい。例えば、配線30の材料として銅を用いる場合は、アンカー層として例えば数十nm〜数百nm程度のCr層やTi層を設けてもよい。   As the material of the wiring 30, a conductive material that easily transmits laser light used for the laser bonding (for example, YAG laser light having a wavelength of 1064 nm) can be used. Specific examples of the material of the wiring 30 include aluminum, gold, copper, and the like, and an anchor layer may be provided between the wiring 30 and the antireflection film 12 on the cap glass 20 as necessary. . For example, when copper is used as the material of the wiring 30, for example, a Cr layer or a Ti layer of about several tens nm to several hundreds nm may be provided as the anchor layer.

上記接合材料40としては、レーザ接合に用いるレーザ光(例えば波長1064nmのYAGレーザ光)を吸収して溶融する、はんだと同等以下の電気抵抗を有する金属材料や、結晶構造が面心立方格子構造以外の金属材料を使用することができる。また、VCSEL素子10がレーザ発光駆動時の発熱によって面方向に沿って伸縮する場合があり、かかる伸縮が発生した場合でもVCSEL素子10側の駆動電極とキャップガラス20の素子接続用電極との間の接合を維持できるように、接合材料40としては延性がある金属材料が好ましい。   Examples of the bonding material 40 include a metal material that absorbs and melts laser light used for laser bonding (for example, YAG laser light having a wavelength of 1064 nm) and has an electrical resistance equal to or lower than that of solder, and a crystal structure having a face-centered cubic lattice structure. Other metal materials can be used. In addition, the VCSEL element 10 may expand and contract along the surface direction due to heat generated during laser light emission driving, and even when such expansion and contraction occurs, the VCSEL element 10 is located between the drive electrode on the VCSEL element 10 side and the element connection electrode of the cap glass 20. As the bonding material 40, a ductile metal material is preferable.

上記接合材料40として使用可能な金属材料の具体例としては、はんだ、モリブデン、亜鉛、コバルト、タングステン、スズ、カドニウム等がある。なお、上記接合材料40として「はんだ」を用いる場合は、VCSEL素子10のレーザ光が出射する発光面をフラックスで汚染しないようにフラックスフリーで用いるのが好ましい。   Specific examples of the metal material that can be used as the bonding material 40 include solder, molybdenum, zinc, cobalt, tungsten, tin, and cadmium. In the case where “solder” is used as the bonding material 40, it is preferable that the light emitting surface from which the laser light of the VCSEL element 10 is emitted is used in a flux-free manner so as not to be contaminated with the flux.

上記レーザ接合に用いる「はんだ」としては、比較的溶融温度が低いSn-Ag-Cu系はんだ、Sn-Bi系はんだ等を用いることができる。より具体的には、次の(1)〜(5)に示すはんだペーストを用いることができる。
(1)千住金属工業株式会社製の製品番号:M705
合金組成:Sn-3Ag-0.5Cu,溶融温度(固相線:217°C,液相線:220°C)
(2)千住金属工業株式会社製の製品番号:L20
合金組成:Sn-58Bi,溶融温度(固相線:139°C,液相線:141°C)
(3)千住金属工業株式会社製の製品番号:L23
合金組成:Sn-57Bi-1Ag,溶融温度(固相線:138°C,液相線:204°C)
(4)株式会社タムラ製作所製の製品番号:#402
合金組成:42Sn/Ag/57Bi,溶融温度(138°C)
(5)荒川化学工業株式会社製の製品番号:LLS140
合金組成:Sn/Bi/Cu,溶融温度(固相線:139°C,液相線:170°C)
As the “solder” used for the laser bonding, Sn—Ag—Cu solder, Sn—Bi solder, or the like having a relatively low melting temperature can be used. More specifically, the solder paste shown in the following (1) to (5) can be used.
(1) Product number manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd .: M705
Alloy composition: Sn-3Ag-0.5Cu, melting temperature (solidus: 217 ° C, liquidus: 220 ° C)
(2) Product number manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd .: L20
Alloy composition: Sn-58Bi, melting temperature (solidus: 139 ° C, liquidus: 141 ° C)
(3) Product number manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd .: L23
Alloy composition: Sn-57Bi-1Ag, melting temperature (solidus: 138 ° C, liquidus: 204 ° C)
(4) Product number manufactured by Tamura Corporation: # 402
Alloy composition: 42Sn / Ag / 57Bi, melting temperature (138 ° C)
(5) Product number manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd .: LLS140
Alloy composition: Sn / Bi / Cu, melting temperature (solidus: 139 ° C, liquidus: 170 ° C)

上記封止用の樹脂50の材料としては、例えばエポキシ樹脂を使用することができる。より具体的には、ナガセケムテックス株式会社製の黒色一液製エポキシ樹脂(製品番号:XNR5163NF, XNR5163)を塗布し、硬化条件(例えば100°C/1時間+150°C/1時間)で硬化させて使用する。   As the material of the sealing resin 50, for example, an epoxy resin can be used. More specifically, a black one-pack epoxy resin (product number: XNR5163NF, XNR5163) manufactured by Nagase ChemteX Corporation is applied and cured under curing conditions (for example, 100 ° C / 1 hour + 150 ° C / 1 hour). Let it be used.

なお、上記キャップガラス20のVCSEL素子10に対向する面に銅箔、アルミ箔等の金属膜付き樹脂(例えばポリイミド、TSA)テープを貼り付け、その銅箔の不要部分を、エキシマレーザ(例えば波長248nm)やYAG3倍波レーザ(例えば波長355nm)等の紫外レザー等で選択的に除去することにより、上記配線30を形成してもよい。そして、この配線30の素子接続用電極を構成する部分にある金属膜の表面をはんだメッキし、そのはんだを介して配線30の素子接続用電極とVCSEL素子10の駆動電極とをレーザ接合するようにしてもよい。   In addition, a resin (eg, polyimide, TSA) tape with a metal film such as a copper foil or an aluminum foil is attached to the surface of the cap glass 20 facing the VCSEL element 10, and an unnecessary portion of the copper foil is removed with an excimer laser (eg, a wavelength). The wiring 30 may be formed by selective removal with an ultraviolet laser such as 248 nm) or a YAG triple wave laser (for example, wavelength 355 nm). Then, the surface of the metal film in the portion constituting the element connection electrode of the wiring 30 is solder-plated, and the element connection electrode of the wiring 30 and the drive electrode of the VCSEL element 10 are laser-bonded via the solder. It may be.

また、上記キャップガラス20のVCSEL素子10に対向する面に、VCSEL素子10の駆動電極と接続される素子接続用電極と基板接続用電極と両電極間を結ぶ電極接続部とからなるアルミニウムの配線30を形成し、その配線30の表面にニッケル及び金の少なくとも一方のメッキを施し、メッキが施された表面を含むキャップガラス20の表面全体に、VCSEL素子から出射するレーザ光の反射を防止する反射防止膜を形成してもよい。   In addition, on the surface of the cap glass 20 facing the VCSEL element 10, an aluminum wiring comprising an element connection electrode connected to the drive electrode of the VCSEL element 10 and an electrode connection portion connecting the substrate connection electrode and both electrodes. 30 is formed, the surface of the wiring 30 is plated with at least one of nickel and gold, and the reflection of the laser light emitted from the VCSEL element is prevented on the entire surface of the cap glass 20 including the plated surface. An antireflection film may be formed.

図4はVCSEL素子10の一構成例を示す平面図である。このVCSEL素子10は、一辺の長さが例えば1mm程度の板状の素子であり、その中央部に複数のレーザ発光部からなる光出射部11を備え、その光出射部11の各レーザ発光部から外側の4辺近傍に延びる素子内配線13が形成されている。これら複数の素子内配線13それぞれの端部に、上記レーザ接合対象の駆動電極12が設けられている。   FIG. 4 is a plan view showing a configuration example of the VCSEL element 10. The VCSEL element 10 is a plate-like element having a side length of, for example, about 1 mm. The VCSEL element 10 includes a light emitting unit 11 including a plurality of laser emitting units at the center, and each laser emitting unit of the light emitting unit 11. In-element wiring 13 is formed extending to the vicinity of the four sides on the outside. The drive electrode 12 to be laser-bonded is provided at the end of each of the plurality of intra-element wires 13.

図5(a)はキャップガラス20の一構成例を示す平面図である。図5に示すように、キャップガラス20の基板接続用電極が形成されている端部が、VCSEL素子10に対向している対向部分20’よりも外側に露出するように、キャップガラス20の面方向のサイズはVCSEL素子10よりも大きくなっている。また、キャップガラス20の中央部のVCSEL素子10に対向している対向部分20’の表面(紙面の裏側)に、VCSEL素子10の駆動電極にレーザ接合される素子接続用電極31が形成されている(図5(b)参照)。この素子接続用電極31と、キャップガラス20の4辺近傍の端部に形成された基板接続用電極32と、両電極31,32の間を結ぶ電極接続部33とにより、配線30が構成されている。   FIG. 5A is a plan view showing a configuration example of the cap glass 20. As shown in FIG. 5, the surface of the cap glass 20 is so exposed that the end portion of the cap glass 20 on which the substrate connection electrode is formed is exposed to the outside of the facing portion 20 ′ facing the VCSEL element 10. The size in the direction is larger than that of the VCSEL element 10. Also, an element connection electrode 31 that is laser-bonded to the drive electrode of the VCSEL element 10 is formed on the surface (back side of the paper) of the facing portion 20 ′ facing the VCSEL element 10 in the center of the cap glass 20. (See FIG. 5B). The element connection electrode 31, the substrate connection electrode 32 formed at the end near the four sides of the cap glass 20, and the electrode connection portion 33 connecting the electrodes 31, 32 constitute the wiring 30. ing.

上記配線30には、VCSEL素子10側に接続される素子接続用電極と、基板側に接続される基板接続用電極とを結ぶ電極接続部の途中に、はんだ供給用の中間パッドを設けてもよい。この場合は、上記電極接続部の途中にある中間パッドにはんだを供給した後、加熱することにより、中間パッド上のはんだを溶融させて配線上を移動させることにより、配線の表面をはんだでメッキできる。特に、上記素子接続用電極のサイズや配線の幅が小さくそれらの表面にはんだを直接付けることが難しい場合でも、上記中間パッドからの溶融はんだを延ばして供給することにより、配線30の素子接続用電極及びそこから延びる電極接続部の表面を確実にはんだでメッキできる。   The wiring 30 may be provided with an intermediate pad for supplying solder in the middle of the electrode connecting portion connecting the element connecting electrode connected to the VCSEL element 10 side and the substrate connecting electrode connected to the substrate side. Good. In this case, after supplying the solder to the intermediate pad in the middle of the electrode connection portion, by heating, the solder on the intermediate pad is melted and moved on the wiring, thereby plating the surface of the wiring with the solder. it can. In particular, even when the size of the element connection electrode and the width of the wiring are small and it is difficult to apply solder directly to the surfaces thereof, the molten solder from the intermediate pad is extended and supplied, thereby connecting the elements of the wiring 30 The surface of the electrode and the electrode connecting portion extending therefrom can be reliably plated with solder.

また、上記中間パッドは、その中間パッドと素子接続用電極との距離が各配線30で互いに等しくなるように設けてもよい。この場合は、複数の配線30におけるはんだ供給用の中間パッドと素子接続用電極との距離が互いに等しいので、中間パッドにはんだを供給した後、同じ加熱処理条件で中間パッド上の溶融はんだを素子接続用電極まで行き渡らせることができるため、上記複数の配線の素子接続用電極を確実にはんだメッキすることができる。   Further, the intermediate pad may be provided so that the distance between the intermediate pad and the element connection electrode is equal to each other in each wiring 30. In this case, since the distance between the solder supply intermediate pad and the element connection electrode in the plurality of wirings 30 is equal to each other, after supplying the solder to the intermediate pad, the molten solder on the intermediate pad is applied to the element under the same heat treatment conditions. Since the connection electrodes can be extended, the element connection electrodes of the plurality of wirings can be surely solder-plated.

図6(a)〜(d)は上記はんだ供給用の中間パッド34を有する配線30の構成例を示す説明図である。図6(a)の配線30には、素子接続用電極31から外側の基板接続用電極32に向かって互いに平行に且つ直線的に延びるように、中間パッド34が形成されている。この場合、素子接続用電極31及び中間パッド34の幅が同程度に設定され、複数の配線30をコンパクトにまとめることができる。また、図6(b)及び(c)の配線30にはそれぞれ、正方形及び円形の中間パッド34が形成されている。また、図6(d)の配線30には、素子接続用電極31から外側の基板接続用電極32に向かってくさび状に延びる中間パッド34が形成されている。これらの図6(a)〜(d)に示す配線30においてはそれぞれ、複数の配線30におけるはんだ供給用の中間パッド34と素子接続用電極31との距離が互いにほぼ等しくなるように構成され、各配線30の素子接続用電極31を確実にはんだメッキすることができるようになっている。   FIGS. 6A to 6D are explanatory views showing a configuration example of the wiring 30 having the intermediate pad 34 for supplying the solder. An intermediate pad 34 is formed on the wiring 30 in FIG. 6A so as to extend in parallel and linearly from the element connection electrode 31 toward the outer substrate connection electrode 32. In this case, the widths of the element connection electrode 31 and the intermediate pad 34 are set to be approximately the same, and the plurality of wirings 30 can be compactly collected. In addition, square and circular intermediate pads 34 are formed in the wirings 30 of FIGS. 6B and 6C, respectively. 6D, an intermediate pad 34 extending in a wedge shape from the element connection electrode 31 toward the outer substrate connection electrode 32 is formed. Each of the wirings 30 shown in FIGS. 6A to 6D is configured such that the distances between the solder supply intermediate pads 34 and the element connection electrodes 31 in the plurality of wirings 30 are substantially equal to each other. The element connection electrode 31 of each wiring 30 can be reliably solder-plated.

図7(a)及び(b)はそれぞれ、正方形のキャップガラス20において上記中間パッドの形成しない配線30と中間パッドを形成した配線30の構成例を示す平面図である。なお、図7(b)の例では、円形の中間パッド34を形成しているが、図8に示すように四角形などの他の形状の中間パッド34を形成してもよい。   FIGS. 7A and 7B are plan views showing a configuration example of the wiring 30 in which the intermediate pad is not formed and the wiring 30 in which the intermediate pad is formed in the square cap glass 20, respectively. In the example of FIG. 7B, the circular intermediate pad 34 is formed. However, as shown in FIG. 8, an intermediate pad 34 having another shape such as a square may be formed.

なお、上記配線30の中間パッドは、検査パッドを兼ねることができる。例えば、上記VCSEL素子10の電極とキャップガラス20の電極とを接合した後、それらを備えた電子部品を基板に実装する前に、検査装置の検査プローブの先端を上記配線30の中間パッドに接触させることにより、VCSEL素子10を検査することができる。また、特に上記VCSEL素子10とキャップガラス20とを備えた電子部品を基板に実装した後は、VCSEL素子10の電極及びキャップガラス20の電極が露出していないため、上記配線30の中間パッドは検査パッドとしての利用価値が高い。この場合、配線30の中間パッドを露出させるように上記電子部品を基板を実装し、その電子部品の中間パッドに、検査装置の検査プローブの先端を接触させる。   The intermediate pad of the wiring 30 can also serve as a test pad. For example, after joining the electrode of the VCSEL element 10 and the electrode of the cap glass 20, contact the tip of the inspection probe of the inspection apparatus with the intermediate pad of the wiring 30 before mounting the electronic component including them on the substrate. By doing so, the VCSEL element 10 can be inspected. In particular, after an electronic component including the VCSEL element 10 and the cap glass 20 is mounted on a substrate, the electrode of the VCSEL element 10 and the electrode of the cap glass 20 are not exposed. High utility value as a test pad. In this case, the substrate is mounted on the electronic component so that the intermediate pad of the wiring 30 is exposed, and the tip of the inspection probe of the inspection apparatus is brought into contact with the intermediate pad of the electronic component.

また、上記複数の配線30それぞれの電気的特性が同等になるように各配線30の幅、長さ、電極の形状を設定してもよい。この場合は、図示しないレーザ駆動部で複雑な駆動信号の制御回路や制御プログラムを採用することなく、VCSEL素子10の光出射部11にある複数のレーザ発光部それぞれを所定のタイミングで駆動する同期駆動を行うことができる。   Further, the width, length, and electrode shape of each wiring 30 may be set so that the electrical characteristics of the plurality of wirings 30 are equal. In this case, the synchronization of driving each of the plurality of laser light emitting units in the light emitting unit 11 of the VCSEL element 10 at a predetermined timing without adopting a complicated drive signal control circuit or control program in a laser drive unit (not shown). Drive can be performed.

上記複数の配線30を各配線の電極接続部33の長さが同等になるように構成する構成例としては、例えば、素子接続用電極31から外側の基板接続用電極32に向かって扇状に延びるように電極接続部33を形成し、複数の基板接続用電極32を、キャップガラス20のVCSEL素子10に対向する面の端部に円弧状に配置する。各配線30の外側先端の基板接続用電極32の形状としては各種形状を採用することができる。例えば、前述の中間パッドで例示したような四角形、円形、くさび形状等の基板接続用電極32を形成してもよい。   As an example of the configuration in which the plurality of wirings 30 are configured so that the lengths of the electrode connection portions 33 of the respective wirings are equal, for example, a fan shape extends from the element connection electrode 31 toward the outer substrate connection electrode 32. Thus, the electrode connection portion 33 is formed, and the plurality of substrate connection electrodes 32 are arranged in an arc shape at the end of the surface of the cap glass 20 facing the VCSEL element 10. Various shapes can be adopted as the shape of the substrate connection electrode 32 at the outer end of each wiring 30. For example, the substrate connection electrode 32 having a quadrangular shape, a circular shape, a wedge shape, or the like exemplified in the above-described intermediate pad may be formed.

なお、VCSEL素子10の複数の素子内配線13についても、各素子内配線13の電気的特性が同等になるように形成してもよい。例えば、複数の素子内配線13を、各素子内配線の長さが同等になるようにVCSEL素子10の中央にある光出射部11の各レーザ発光部から外側の駆動電極12に向かって扇状に延びるように形成し、複数の駆動電極12を、VCSEL素子の光出射部11がある面の端部に円弧状に配置する。この場合は、各レーザ発光部の同期駆動をより精度よく行うことができる。   Note that the plurality of intra-element wirings 13 of the VCSEL element 10 may also be formed so that the electrical characteristics of the intra-element wirings 13 are equal. For example, a plurality of in-element wirings 13 are fan-shaped from each laser light emitting part of the light emitting part 11 at the center of the VCSEL element 10 toward the outer drive electrode 12 so that the lengths of the in-element wirings are equal. The plurality of drive electrodes 12 are formed in an arc shape at the end of the surface where the light emitting portion 11 of the VCSEL element is provided. In this case, the synchronous drive of each laser light emission part can be performed more accurately.

図9は、VCSEL素子10を有する電子部品1を実装した基板90の断面図である。基板90には、VCSEL素子10を基板側に向けて電子部品1が装着されたときにVCSEL素子10が干渉しないで挿入可能な開口90aが形成されている。そして、電子部品1を構成するキャップガラス20のVCSEL素子側表面の端部に形成されている基板接続用電極32は、その基板接続用電極32に予めメッキされていたはんだ60を介して、基板90側の電極と接続される。また、VCSEL素子10の裏面にあるグランド電極14と、基板90の裏面にあるグランド電極91との間は、導電性の接着剤93で接続されている。この接続の際、導電性の接着剤93と前述の封止用の樹脂50が接触しないように、空気などによる気体層80が形成されるようにする。   FIG. 9 is a cross-sectional view of the substrate 90 on which the electronic component 1 having the VCSEL element 10 is mounted. The substrate 90 is formed with an opening 90a into which the VCSEL element 10 can be inserted without interference when the electronic component 1 is mounted with the VCSEL element 10 facing the substrate. The substrate connection electrode 32 formed at the end of the surface of the cap glass 20 constituting the electronic component 1 on the VCSEL element side is connected to the substrate via the solder 60 plated in advance on the substrate connection electrode 32. It is connected to the electrode on the 90 side. The ground electrode 14 on the back surface of the VCSEL element 10 and the ground electrode 91 on the back surface of the substrate 90 are connected by a conductive adhesive 93. At the time of this connection, a gas layer 80 made of air or the like is formed so that the conductive adhesive 93 and the sealing resin 50 do not come into contact with each other.

図10は、駆動回路部品としての駆動IC95をキャップガラス20の表面に取り付けた電子部品1を実装した基板90の断面図である。この電子部品1は、キャップガラス20のVCSEL素子10が対向していないおもて面の、VCSEL素子10からのレーザ光が通過しない部分に、VCSEL素子10を駆動する駆動IC95が実装されている。駆動IC95の電極とキャップガラス20の電極とははんだ等で接合され、キャップガラス20の電極と基板90との間の配線は、例えば、キャップガラス20に予め形成した図示しない貫通孔を通すように形成される。このようにキャップガラス20上に駆動IC95を実装した場合は、駆動IC95ととの距離を短くすることができ、VCSEL素子10のレーザ発光の高速駆動処理が可能になる。なお、駆動IC95は、キャップガラス20のおもて面ではなく、VCSEL素子10側の裏面の空きスペースに実装してもよい。   FIG. 10 is a cross-sectional view of the substrate 90 on which the electronic component 1 having the drive IC 95 as the drive circuit component attached to the surface of the cap glass 20 is mounted. In this electronic component 1, a drive IC 95 that drives the VCSEL element 10 is mounted on a portion of the front surface of the cap glass 20 where the VCSEL element 10 is not opposed to the laser light from the VCSEL element 10. . The electrode of the drive IC 95 and the electrode of the cap glass 20 are joined with solder or the like, and the wiring between the electrode of the cap glass 20 and the substrate 90 passes, for example, through a through hole (not shown) formed in the cap glass 20 in advance. It is formed. When the drive IC 95 is mounted on the cap glass 20 in this way, the distance from the drive IC 95 can be shortened, and high-speed drive processing of laser emission of the VCSEL element 10 can be performed. Note that the driving IC 95 may be mounted not in the front surface of the cap glass 20 but in a free space on the back surface on the VCSEL element 10 side.

図11は電子部品1を実装した基板90を組み込んだ光源装置の一構成例を示す説明図である。この光源装置は、基板90に実装したVCSEL素子10を含む電子部品1の上方に、光学系2が配置されている。光学系2は、VCSEL素子10からのレーザ光Lを照射対象物上に結像する結像レンズ201と、VCSEL素子10からのレーザ光Lの一部をほぼ直角方向に分割するビームスプリッタ202と、ビームスプリッタ202で分割されたレーザ光Lsを検知するエネルギーモニター用のレーザ光検知装置203とを備えている。レーザ光検知装置203の出力信号は、電子部品1を実装した基板90側の駆動制御回路にフィードバックされる。   FIG. 11 is an explanatory diagram showing a configuration example of a light source device in which a substrate 90 on which the electronic component 1 is mounted is incorporated. In this light source device, the optical system 2 is disposed above the electronic component 1 including the VCSEL element 10 mounted on the substrate 90. The optical system 2 includes an imaging lens 201 that forms an image of the laser light L from the VCSEL element 10 on an irradiation target, and a beam splitter 202 that divides a part of the laser light L from the VCSEL element 10 in a substantially perpendicular direction. And a laser beam detector 203 for energy monitoring that detects the laser beam Ls divided by the beam splitter 202. The output signal of the laser light detection device 203 is fed back to the drive control circuit on the substrate 90 side on which the electronic component 1 is mounted.

図12は電子部品1を実装した基板90を組み込んだ光源装置の他の構成例を示す説明図である。この構成例では、VCSEL素子10を含む電子部品1を実装した基板90が、取り付けネジ301によって基板保持部材3に固定されている。そして、この基板保持部材3の上面に対する光学系2のビームスプリッタ保持部2aの煽り角を調整することにより、VCSEL素子10から出射されビームスプリッタ202で分割されるレーザ光Lsの光軸を調整できるようになっている。光学系2のビームスプリッタ保持部2aの煽り角の調整は、煽り角調整ネジ303を回し、を基板保持部材3の上面と光学系2の下面との間隙に配置された軸302を支点として光学系2のビームスプリッタ保持部2aを傾けることにより行うことができる。なお、図12の構成例において、結像レンズ201は、ビームスプリッタ保持部2aとは別体の結像レンズ保持部2bに設けられ、ビームスプリッタ保持部2aの光軸と結像レンズ保持部2bの光軸とを互いに独立に調整できるようになっている。   FIG. 12 is an explanatory diagram illustrating another configuration example of the light source device in which the substrate 90 on which the electronic component 1 is mounted is incorporated. In this configuration example, the substrate 90 on which the electronic component 1 including the VCSEL element 10 is mounted is fixed to the substrate holding member 3 by the mounting screws 301. The optical axis of the laser beam Ls emitted from the VCSEL element 10 and split by the beam splitter 202 can be adjusted by adjusting the tilt angle of the beam splitter holder 2a of the optical system 2 with respect to the upper surface of the substrate holding member 3. It is like that. The turning angle of the beam splitter holding portion 2a of the optical system 2 is adjusted by turning the turning angle adjusting screw 303 so that the shaft 302 disposed in the gap between the upper surface of the substrate holding member 3 and the lower surface of the optical system 2 is a fulcrum. This can be done by tilting the beam splitter holder 2a of the system 2. In the configuration example of FIG. 12, the imaging lens 201 is provided in an imaging lens holding unit 2b separate from the beam splitter holding unit 2a, and the optical axis of the beam splitter holding unit 2a and the imaging lens holding unit 2b. These optical axes can be adjusted independently of each other.

図13(a)乃至(e)は電子部品の製造工程の一例を示す説明図である。まず、BK7、D263、CG−1、合成石英又はソーダライムガラスからなるキャップガラス20の両面全体に反射防止膜21をコーティングする(図13(a)参照)。なお、反射防止膜21をコーティング済みのキャップガラス20を用いる場合は、この反射防止膜コーティングの工程は省略することができる。   FIGS. 13A to 13E are explanatory views showing an example of a manufacturing process of an electronic component. First, the antireflection film 21 is coated on both sides of the cap glass 20 made of BK7, D263, CG-1, synthetic quartz or soda lime glass (see FIG. 13A). When the cap glass 20 coated with the antireflection film 21 is used, this antireflection film coating process can be omitted.

次に、キャップガラス20の一方の面(下面)の4辺近傍の端部に、導電性材料である低抵抗金属材料(例えば、アルミニウム、又は、Cr若しくはTiをアンカー層とした銅)で、複数の配線30をパターニングして形成する(図13(b)参照)。配線のベース層としてアルミ層を形成する場合は、例えば次のような蒸着(スパッタリング)装置及び条件で形成することができる。
(1)蒸着装置:
・メーカ名 :神港精機株式会社
・型 式 :SRV4311
・性 能 :3源マグネトロンスパッタ源(500W以上)、
基板冷却加熱回転機構(300°C常用以上)
(2)蒸着条件
・真空度:3.7×10−5Pa
・ターゲット:純アルミ
・スパッタ条件(表1参照)
・成膜厚み:経験からのアルミ成膜条件が0.66μm/hであり、90分の成膜処理で0.99μm≒1μmのアルミ層を形成した。
Next, at the end of one side (lower surface) of the cap glass 20 near the four sides, a low-resistance metal material that is a conductive material (for example, aluminum or copper with Cr or Ti as an anchor layer) A plurality of wirings 30 are formed by patterning (see FIG. 13B). When forming an aluminum layer as a base layer of wiring, it can be formed, for example, with the following vapor deposition (sputtering) apparatus and conditions.
(1) Vapor deposition equipment:
-Manufacturer name: Shinko Seiki Co., Ltd.-Model: SRV4311
・ Performance: 3 source magnetron sputtering source (500W or more),
Substrate cooling heating rotation mechanism (300 ° C normal use or more)
(2) Deposition conditions ・ Vacuum degree: 3.7 × 10 −5 Pa
・ Target: Pure aluminum ・ Sputtering conditions (see Table 1)
Film formation thickness: The aluminum film formation condition based on experience was 0.66 μm / h, and an aluminum layer of 0.99 μm≈1 μm was formed by the film formation process for 90 minutes.

また、配線30のベース層としてアルミ層を形成し、接合材料としてはんだを用いる場合、アルミとはんだとが接合しにくいので、図14に示すようにアルミ層30aの上に所定の厚さのニッケルメッキ層30b(例えば、厚さ:3μm)をまず形成し、更にその上に金メッキ層30c(例えば、厚さ:450nm)を形成するのが好ましい。接合材料としてのはんだ60のパターンは、金メッキ層30cの上に形成する。この金メッキ層がはんだの接合を助ける触媒のような働きをする。   In addition, when an aluminum layer is formed as the base layer of the wiring 30 and solder is used as the bonding material, it is difficult to bond aluminum and solder. Therefore, as shown in FIG. 14, nickel having a predetermined thickness is formed on the aluminum layer 30a. It is preferable to first form a plating layer 30b (for example, thickness: 3 μm), and further form a gold plating layer 30c (for example, thickness: 450 nm) thereon. The pattern of the solder 60 as the bonding material is formed on the gold plating layer 30c. This gold-plated layer acts as a catalyst to help solder joining.

なお、上記ニッケルメッキは次の(1)〜(8)の工程で行うことができる。ここで、亜鉛置換を2回行うのは、亜鉛の被膜を均一にして密着性を高めるためである。
(1)脱脂:メッキ対象の表面に付着した加工油や汚れなどを除去する。
(2)エッチング:表面を薄く溶かし自然酸化被膜などを除去する。
(3)デスマット:エッチングで表面に生じた不純物を除去する。
(4)第一亜鉛置換:アルミの表面に薄い亜鉛被膜を生成する。
(5)置換層剥離:亜鉛被膜を除去する。
(6)第二亜鉛置換:再度、アルミの表面に薄い亜鉛被膜を生成する。
(7)無電解Niメッキ:次亜リン酸による還元反応でニッケルをメッキする。
(8)乾燥:水分を除去する。
The nickel plating can be performed in the following steps (1) to (8). Here, the reason for performing the zinc substitution twice is to make the zinc coating uniform and improve the adhesion.
(1) Degreasing: Removes processing oil and dirt adhering to the surface to be plated.
(2) Etching: The surface is dissolved thinly to remove a natural oxide film or the like.
(3) Desmut: removing impurities generated on the surface by etching.
(4) First zinc substitution: a thin zinc coating is formed on the surface of aluminum.
(5) Substitution layer peeling: Zinc coating is removed.
(6) Second zinc substitution: Again, a thin zinc coating is formed on the aluminum surface.
(7) Electroless Ni plating: Nickel is plated by a reduction reaction with hypophosphorous acid.
(8) Drying: removing moisture.

次に、各配線30の内側端部に素子接続用電極31の表面に、接合材料として、接合用レーザ光を吸収して溶融可能な導電性材料である低抵抗金属材料(例えば、前述のはんだクリーム、モリブデン、亜鉛等)からなる接合層を、印刷、蒸着やメッキ等の方法によって形成する(図13(c)参照)。また、上記各配線30の外端部に基板接続用電極32の表面に、その配線電極材料表面の酸化を防止するとともに基板への接続時のはんだ付け性を向上させるためプリフラックス(PF)をコートする(図13(c)参照)。プリフラックス(PF)をコートする代わりに、金メッキ層等を設けてもよい。例えば、前述の図14に示すように配線30のベース層としてアルミ層30aを形成する場合は、そのアルミ層30aの表面に更にニッケル層30bと金層30cを設け、さらに金層30cの表面にはんだ60層でコーティングしてもよい。なお、図14に示しているVCSEL素子10側の駆動電極12は、下からCr層(例えば厚さ2nm)、Au/Zn層(例えば厚さ12nm)及びAu層(例えば厚さ450nm)の3層構造になっている。   Next, a low-resistance metal material (for example, the above-described solder, which is a conductive material that can be melted by absorbing laser light for bonding as a bonding material on the surface of the element connection electrode 31 at the inner end of each wiring 30. A bonding layer made of cream, molybdenum, zinc, or the like) is formed by a method such as printing, vapor deposition, or plating (see FIG. 13C). In addition, a preflux (PF) is applied to the surface of the substrate connection electrode 32 at the outer end of each wiring 30 in order to prevent oxidation of the surface of the wiring electrode material and to improve solderability at the time of connection to the substrate. Coat (see FIG. 13C). Instead of coating preflux (PF), a gold plating layer or the like may be provided. For example, when the aluminum layer 30a is formed as the base layer of the wiring 30 as shown in FIG. 14, the nickel layer 30b and the gold layer 30c are further provided on the surface of the aluminum layer 30a, and the surface of the gold layer 30c is further provided. You may coat with 60 layers of solder. The drive electrode 12 on the VCSEL element 10 side shown in FIG. 14 is composed of a Cr layer (eg, 2 nm thick), an Au / Zn layer (eg, 12 nm thick), and an Au layer (eg, 450 nm thick) from the bottom. It has a layered structure.

次に、接合材料40を介してキャップガラス20の配線30の素子接続用電極31にVCSEL素子10の駆動電極を密着させながら、キャップガラス20のVCSEL素子10と対向する対向面とは反対側の表面からキャップガラス20を通過させて接合材料40に到達させるように、キャップガラス20を透過可能な波長の加工用レーザ光(例えば、YAGレーザ光)Lpを照射する(図13(d)、図15参照)。加工用レーザ光Lpの照射時に、接合材料40を介したキャップガラス20の配線30の素子接続用電極31とVCSEL素子10の駆動電極との密着力を高めるように圧力を加えてもよい。加工用レーザ光Lpの照射により接合材料40を溶融させ、キャップガラス20の配線30の素子接続用電極31とVCSEL素子10の駆動電極とを接合することができる。   Next, the drive electrode of the VCSEL element 10 is brought into close contact with the element connection electrode 31 of the wiring 30 of the cap glass 20 through the bonding material 40, and the opposite surface of the cap glass 20 opposite to the opposite surface facing the VCSEL element 10. A processing laser beam (for example, YAG laser beam) Lp having a wavelength that can be transmitted through the cap glass 20 is irradiated so as to pass the cap glass 20 from the surface and reach the bonding material 40 (FIG. 13D). 15). During the irradiation of the processing laser beam Lp, pressure may be applied so as to increase the adhesion between the element connection electrode 31 of the wiring 30 of the cap glass 20 and the drive electrode of the VCSEL element 10 through the bonding material 40. The bonding material 40 is melted by irradiation with the processing laser beam Lp, and the element connection electrode 31 of the wiring 30 of the cap glass 20 and the drive electrode of the VCSEL element 10 can be bonded.

次に、VCSEL素子10の光出力部が露出する面とキャップガラス20との隙間に密閉された空間70が形成されるように、VCSEL素子10の端部とキャップガラス20の表面とを樹脂50で封止する(図13(e)参照)。この場合、上記樹脂50による封止の際に樹脂50がVCSEL素子10の光出射部への流入を阻止する樹脂流入阻止部を、キャップガラス20の対向面表面に設けてもよい。例えば、上記樹脂流入阻止部として、キャップガラス20の表面(反射防止膜21の表面)の樹脂50に対する撥水性を高めた部分を設けたり、凸部又は凹部を設けたりする。   Next, the end portion of the VCSEL element 10 and the surface of the cap glass 20 are bonded to the resin 50 so that a sealed space 70 is formed in the gap between the surface where the light output portion of the VCSEL element 10 is exposed and the cap glass 20. (See FIG. 13E). In this case, a resin inflow prevention portion that prevents the resin 50 from flowing into the light emitting portion of the VCSEL element 10 when sealing with the resin 50 may be provided on the surface of the facing surface of the cap glass 20. For example, as the resin inflow blocking portion, a portion of the surface of the cap glass 20 (the surface of the antireflection film 21) with increased water repellency with respect to the resin 50 is provided, or a convex portion or a concave portion is provided.

また、樹脂50で封止された密閉空間に乾燥窒素ガスなどの乾燥気体が充填されるように、その封止の前に予め乾燥気体を密閉空間に送り込むようにしてもよい。例えば、上記接合材料40を介したVCSEL素子10の駆動電極とキャップガラス20の素子接続用電極31とのレーザ接合により、キャップガラス20とVCSEL素子10との隙間に密閉空間70が形成されるようにキャップガラス20の表面とVCSEL素子10の端部とを封止してもよい。より具体的には、図16(a)に示すようにキャップガラス20及び配線30(素子接続用電極31)を貫通する貫通孔55を形成しておき、その貫通孔55を通して、接合後に密閉空間になる空間71に乾燥窒素ガスなどの乾燥気体56を送り込む。そして、図16(b)に示すように空間71に乾燥気体56を満たした状態でレーザ接合を行うことにより、貫通孔55が接合材料40で封止されるとともに、レーザ接合で形成される密閉空間70には乾燥気体56が充填される。   Alternatively, the dry gas may be sent into the sealed space in advance before the sealing so that the sealed space sealed with the resin 50 is filled with a dry gas such as dry nitrogen gas. For example, the sealed space 70 is formed in the gap between the cap glass 20 and the VCSEL element 10 by laser bonding of the drive electrode of the VCSEL element 10 and the element connection electrode 31 of the cap glass 20 through the bonding material 40. Alternatively, the surface of the cap glass 20 and the end of the VCSEL element 10 may be sealed. More specifically, as shown in FIG. 16A, a through hole 55 that penetrates the cap glass 20 and the wiring 30 (element connection electrode 31) is formed, and the sealed space is formed after joining through the through hole 55. A dry gas 56 such as dry nitrogen gas is fed into the space 71 to be formed. Then, as shown in FIG. 16B, by performing laser bonding in a state where the space 71 is filled with the dry gas 56, the through hole 55 is sealed with the bonding material 40, and the sealing formed by laser bonding. The space 70 is filled with a dry gas 56.

図17(a)乃至(e)は電子部品の他の製造工程の例を示す説明図である。この例では、配線30をアルミ層で形成した場合に、キャップガラス20の表面にある反射防止膜21によりアルミ層が剥離しやすくなるため、配線30を形成した後に反射防止膜21を形成している。まず、BK7、D263、CG−1、合成石英又はソーダライムガラスからなるキャップガラス20の一方の面(下面)の4辺近傍の端部に、導電性材料であるアルミで複数の配線30をパターニングして形成する(図17(a)参照)。配線30のアルミ層の上には、前述のようにニッケルメッキ層を形成し、更にその上に金メッキ層を形成する。本製造工程の例のようにキャップガラス20の表面にアルミ層を直接形成する場合は、キャップガラス20の表面とアルミ層との間の密着性がいいので、配線30の材料として銅を用いる場合のようなTiやCrのアンカー層をキャップガラス表面に設けておく必要がない。   17A to 17E are explanatory views showing examples of other manufacturing steps of the electronic component. In this example, when the wiring 30 is formed of an aluminum layer, the aluminum layer is easily peeled off by the antireflection film 21 on the surface of the cap glass 20, so the antireflection film 21 is formed after the wiring 30 is formed. Yes. First, a plurality of wirings 30 are patterned with aluminum, which is a conductive material, at end portions near the four sides of one surface (lower surface) of cap glass 20 made of BK7, D263, CG-1, synthetic quartz or soda lime glass. (See FIG. 17A). A nickel plating layer is formed on the aluminum layer of the wiring 30 as described above, and a gold plating layer is further formed thereon. When the aluminum layer is directly formed on the surface of the cap glass 20 as in this example of the manufacturing process, the adhesion between the surface of the cap glass 20 and the aluminum layer is good, and therefore copper is used as the material of the wiring 30. It is not necessary to provide a Ti or Cr anchor layer like that on the cap glass surface.

次に、キャップガラス20の表面が露出している部分に反射防止膜21を形成する(図17(b)参照)。図示の例では、キャップガラス20の上面(おもて面)の全面と、下面(うら面)の配線30が形成されていない部分に、反射防止膜21を形成している。なお、図示の例では、配線30の表面に反射防止膜21が付着しにくい金メッキ層があるため、キャップガラス20の下面(うら面)の全面に反射防止膜21を形成したとしても、配線表面から反射防止膜21を容易に除去でき、その結果、キャップガラス20の下面(うら面)の配線30が形成されていない部分にのみ反射防止膜21が形成される。また、反射防止膜21はVCSEL素子10からのレーザ光が通過する面にのみ形成してもよい。   Next, the antireflection film 21 is formed on a portion where the surface of the cap glass 20 is exposed (see FIG. 17B). In the illustrated example, the antireflection film 21 is formed on the entire upper surface (front surface) of the cap glass 20 and on the lower surface (back surface) where the wiring 30 is not formed. In the illustrated example, since there is a gold plating layer on which the antireflection film 21 is difficult to adhere to the surface of the wiring 30, even if the antireflection film 21 is formed on the entire lower surface (back surface) of the cap glass 20, the wiring surface As a result, the antireflection film 21 is formed only on the lower surface (back surface) of the cap glass 20 where the wiring 30 is not formed. Further, the antireflection film 21 may be formed only on the surface through which the laser light from the VCSEL element 10 passes.

その後の図17(c)〜(e)に示すはんだ層(接合材料)の形成、レーザ接合等については、前述の図13(c)〜(e)の場合と同様に行うことができる。   The subsequent solder layer (joining material) formation, laser joining, and the like shown in FIGS. 17C to 17E can be performed in the same manner as in FIGS. 13C to 13E.

図18(a)乃至(e)は電子部品の更に他の製造工程の例を示す説明図である。この例では、銅箔やアルミ箔等の金属膜付きシート(例えば、前述のTSAシート)35を用いて配線30を形成している。まず、BK7、D263、CG−1、合成石英又はソーダライムガラスからなるキャップガラス20の一方の面の全体に金属膜付きTSAシート35を貼り付ける(図18(a)参照)。このとき、金属膜付きTSAシート35の金属膜35a側を表面に露出させるように貼り付ける。   18A to 18E are explanatory views showing examples of still another manufacturing process for electronic components. In this example, the wiring 30 is formed using the sheet | seat (for example, above-mentioned TSA sheet) 35 with metal films, such as copper foil and aluminum foil. First, the TSA sheet 35 with a metal film is affixed on the entire surface of the cap glass 20 made of BK7, D263, CG-1, synthetic quartz or soda lime glass (see FIG. 18A). At this time, the metal film 35a side of the TSA sheet with metal film 35 is attached so as to be exposed on the surface.

次に、キャップガラス20の金属膜付きTSAシート35の配線形成部分以外の部分に、上記金属膜を除去する配線パターニング用のエキシマレーザ(例えば波長248nm)やYAG3倍波レーザ(例えば波長355nm)等の紫外レーザLp(UV)を照射する(図18(b)参照)。これにより、所定パタンの配線30をキャップガラス20の表面に形成することができる。なお、図示の例では、配線パターニング用の紫外レーザがキャップガラス20を通過するレーザ光であり、キャップガラス20の金属膜付きTSAシート35が貼り付けられた面とは反対側から、上記配線パターニング用の紫外レーザを照射している。   Next, an excimer laser (for example, wavelength 248 nm) for wiring patterning that removes the metal film, a YAG triple wave laser (for example, wavelength 355 nm), or the like on the portion other than the wiring formation portion of the TSA sheet 35 with a metal film of the cap glass 20 UV laser Lp (UV) is irradiated (see FIG. 18B). Thereby, the wiring 30 having a predetermined pattern can be formed on the surface of the cap glass 20. In the illustrated example, an ultraviolet laser for wiring patterning is a laser beam that passes through the cap glass 20, and the wiring patterning is performed from the opposite side of the surface of the cap glass 20 to which the TSA sheet with metal film 35 is attached. Irradiation with ultraviolet laser.

ここで、キャップガラス20の配線が形成される面とは反対側の表面のうち配線に対向する領域には、予め所定パワーのエキシマレーザ(例えば波長248nm)等の紫外レーザ光を照射して表面を荒らすような防眩加工を施しておいてもよい。この場合は、キャップガラス20の金属膜付きTSAシート35が貼り付けられた面とは反対側から比較的大きな照射スポット配線パターニング用の紫外レーザを照射したとしても、上記防眩加工により、配線を形成したい部分には上記レーザ光が到達しにくくなるので、キャップガラス10の配線を簡易に且つ確実に形成できる。また、配線パターニング用の紫外レーザがキャップガラス20を通過しない場合には、キャップガラス20の金属膜付きTSAシート35が貼り付けられた面から、上記配線パターニング用の紫外レーザを照射する。   Here, the surface opposite to the surface of the cap glass 20 opposite to the surface on which the wiring is formed is irradiated with ultraviolet laser light such as an excimer laser (for example, wavelength 248 nm) having a predetermined power in advance. You may give the glare-proof processing which roughens. In this case, even if a relatively large ultraviolet laser for irradiation spot wiring patterning is irradiated from the side opposite to the surface on which the TSA sheet 35 with the metal film of the cap glass 20 is attached, wiring is performed by the above antiglare processing. Since it becomes difficult for the laser beam to reach the portion to be formed, the wiring of the cap glass 10 can be easily and reliably formed. When the wiring patterning ultraviolet laser does not pass through the cap glass 20, the wiring patterning ultraviolet laser is irradiated from the surface of the cap glass 20 to which the TSA sheet 35 with the metal film is attached.

その後の図18(c)〜(e)に示すはんだ層(接合材料)の形成、レーザ接合等については、前述の図13(c)〜(e)の場合と同様に行うことができる。なお、金属膜付きTSAシート35の代わりに、金属膜付きのポリイミド等の樹脂テープや、金属膜付きのフィラーレスの高透明タイプのフィルムを貼り付けてもよい。   The subsequent solder layer (joining material) formation, laser joining, and the like shown in FIGS. 18C to 18E can be performed in the same manner as in FIGS. 13C to 13E. Instead of the TSA sheet 35 with a metal film, a resin tape such as polyimide with a metal film, or a fillerless highly transparent film with a metal film may be attached.

図19は電子部品のレーザ接合に用いるレーザ加工装置の一構成例を示す説明図である。このレーザ加工装置は、波長1064nmのレーザ光を出射するYAG(イットリウム・アルミニウム・ガーネット)レーザ装置101、入射光学系102、ステップインデックス型の光ファイバ103、結像光学系104、ワークWを保持するワーク保持装置106が装着されたXYテーブル105、加工制御手段を構成する図示しないメインコントローラ等を備えている。上記ワーク保持装置105及びXYテーブルは、(VCSEL素子10とキャップガラス20を有するワークWに対するレーザ光照射ポイントとワークWとを相対移動させる相対移動手段として用いている。   FIG. 19 is an explanatory view showing a configuration example of a laser processing apparatus used for laser joining of electronic components. This laser processing apparatus holds a YAG (yttrium, aluminum, garnet) laser apparatus 101 that emits laser light having a wavelength of 1064 nm, an incident optical system 102, a step index optical fiber 103, an imaging optical system 104, and a workpiece W. An XY table 105 on which a work holding device 106 is mounted, a main controller (not shown) that constitutes a machining control unit, and the like are provided. The workpiece holding device 105 and the XY table are used as relative movement means for moving the laser light irradiation point and the workpiece W relative to the workpiece W having the VCSEL element 10 and the cap glass 20.

上記YAGレーザ装置101は、適量のNd(ネオジウム)が添加されたYAGの棒状結晶体であるレーザロッド及びこれの励起用のランプを内蔵するレーザチャンバと、これから発せられる誘導放出光の光路に沿って所定の距離を隔てて対向配置されたフロントミラー及びリアミラーを備えている。また、リアミラーとレーザチャンバとの間には、シャッタ及びQスイッチが取り付けられている。フロントミラーは、一部の光の透過が可能な反射率を有するミラーであり、レーザチャンバの光路にその鏡面の中心を正対せしめて取り付けてある。リアミラーは、実質的な全反射が可能な鏡面を有しており、フロントミラーと対向するように取り付けてある。シャッタは、レーザチャンバの光路を遮断するものである。Qスイッチは、フロントミラーとリアミラーとの間での共振器のQ値を瞬間的に高め、高出力のレーザパルスを取り出すものである。   The YAG laser device 101 includes a laser chamber which is a rod rod crystal of YAG to which an appropriate amount of Nd (neodymium) is added, a laser chamber containing a pump for excitation thereof, and an optical path of stimulated emission light emitted therefrom. And a front mirror and a rear mirror arranged to face each other at a predetermined distance. A shutter and a Q switch are attached between the rear mirror and the laser chamber. The front mirror is a mirror having a reflectivity capable of transmitting a part of light, and is attached to the optical path of the laser chamber with the center of the mirror surface facing it. The rear mirror has a mirror surface capable of substantial total reflection, and is attached to face the front mirror. The shutter blocks the optical path of the laser chamber. The Q switch instantaneously increases the Q value of the resonator between the front mirror and the rear mirror, and takes out a high-power laser pulse.

上記YAGレーザ装置101としては、例えば、最大出力40W、最大加工周波数50kHz、ビームサイズ3mmのものを用いることができる。加工条件によっては、このQスイッチを用いなくてもよい。また、上記YAGレーザ装置101の構成は一例であって、これに限られるものではない。他の構成としては、例えばLD励起を用いたものがある。   As the YAG laser device 101, for example, one having a maximum output of 40 W, a maximum processing frequency of 50 kHz, and a beam size of 3 mm can be used. Depending on the processing conditions, this Q switch may not be used. The configuration of the YAG laser device 101 is an example, and is not limited to this. As another configuration, for example, there is a configuration using LD excitation.

入射光学系102は、レーザビームエキスパンダ及び集光レンズを備えている。YAGレーザ装置101から出射されたビーム径3mm程度のレーザ光は、レーザビームエキスパンダによってそのビーム径が拡大された後、集光レンズにより、ステップインデックス型の光ファイバ103の光入射端(コア部端面)にビーム径0.8mm程度まで集光されて案内される。光ファイバ103の光出射端(コア部端面)から出射するレーザ光は、後述する結像光学系104を通ってそれぞれXYテーブル105上のワークWに対して照射される。   The incident optical system 102 includes a laser beam expander and a condenser lens. The laser beam emitted from the YAG laser device 101 and having a beam diameter of about 3 mm is expanded by a laser beam expander, and then the light incident end (core portion) of the step index type optical fiber 103 by a condenser lens. The beam is condensed and guided to a beam diameter of about 0.8 mm on the end face. Laser light emitted from the light emitting end (core end face) of the optical fiber 103 is irradiated to the workpiece W on the XY table 105 through an imaging optical system 104 described later.

上記ステップインデックス型の光ファイバ103は、所定の直径(例えば0.8mm)を有する軸芯部のコアがその外周部のクラッド層よりも屈折率が大きく、そのコアとクラッド層との境界で屈折率がステップ上に変化しているものである。このステップインデックス型の光ファイバ103のコアにレーザ光を絞って入射すると、レーザ光の互いに異なる角度で入射した複数の光成分がコアとクラッド層との境界で多重に反射されながらコア内を伝送される。このようにレーザ光の複数の光成分が光ファイバ103のコア内で多重に反射されながら伝送されることにより、光ファイバ103の光出射端から出射したレーザ光の断面におけるエネルギー密度は均一になっている。すなわち、YAGレーザ装置101から出射したレーザ光が、図20(a)に示すガウシアンエネルギー分布のシングルモードのレーザ光や、図20(b)に示すマルチモードのレーザ光であっても、光ファイバ103を通過すると、図20(c)に示すようにエネルギー密度が均一になったレーザ光になる。   In the step index type optical fiber 103, the core of the axial core portion having a predetermined diameter (for example, 0.8 mm) has a higher refractive index than the cladding layer of the outer peripheral portion, and is refracted at the boundary between the core and the cladding layer The rate is changing on the step. When the laser light is focused and incident on the core of the step index type optical fiber 103, a plurality of light components incident at different angles of the laser light are transmitted through the core while being reflected multiple times at the boundary between the core and the cladding layer. Is done. As described above, the plurality of light components of the laser light are transmitted while being reflected in the core of the optical fiber 103 in a multiple manner, so that the energy density in the cross section of the laser light emitted from the light emitting end of the optical fiber 103 becomes uniform. ing. That is, even if the laser beam emitted from the YAG laser device 101 is a single mode laser beam having a Gaussian energy distribution shown in FIG. 20A or a multimode laser beam shown in FIG. After passing through 103, the laser beam has a uniform energy density as shown in FIG.

図21は、ワーク保持装置106の一構成を示す側面図である。このワーク保持装置106は、ワークWをワーク台110の中央のワークセット部111に保持し、加工中に位置がズレないようにする役割を果たすものである。ワーク台110のワークセット部111にセットされるワークWの位置は、XYθ手動ステージを用いた位置調整部112で微調整される。ワーク保持装置106全体を移動させるXYテーブル105は、XYテーブル本体と、XYテーブル本体を制御するXYテーブルコントローラとから主に構成されている。このXYテーブル本体の上に、上記ワーク保持装置106が取り付けられている。   FIG. 21 is a side view showing one configuration of the work holding device 106. The work holding device 106 serves to hold the work W on the work set unit 111 at the center of the work table 110 so that the position is not shifted during processing. The position of the workpiece W set on the workpiece setting unit 111 of the workpiece table 110 is finely adjusted by the position adjustment unit 112 using an XYθ manual stage. The XY table 105 that moves the entire work holding device 106 mainly includes an XY table main body and an XY table controller that controls the XY table main body. The work holding device 106 is attached on the XY table main body.

また、上記ワークセット部111のワーク周辺の領域111aには、図22に示すようにレーザ接合時にワークWから発生するおそれがある有毒物質(例えば、GaAs系の化合物半導体を用いた素子の場合には砒素:As)を気体と一緒に吸引する複数の吸引口115が設けられている。この吸引口115から吸引された気体は、継ぎ手114から、図23に示す所定のフィルターを備えた吸引装置120へと導かれる。この吸引装置120は、ワークセット部111から吸引した気体を複数のフィルター121に通すことにより砒素等の有毒物質を除去する。フィルター装置120を通った気体は、集塵器125によって他のゴミなどが除去された後、排気ダクトへと導かれる。なお、上記フィルター121としては、例えば、重松製作所製のメカニカルフィルター(型式:RL3−N3)を用いることができる。   Further, in the region 111a around the work of the work set unit 111, as shown in FIG. 22, in the case of an element using a toxic substance (for example, a GaAs compound semiconductor) that may be generated from the work W during laser bonding. Are provided with a plurality of suction ports 115 for sucking arsenic (As) together with gas. The gas sucked from the suction port 115 is guided from the joint 114 to the suction device 120 having a predetermined filter shown in FIG. The suction device 120 removes toxic substances such as arsenic by passing the gas sucked from the work set unit 111 through a plurality of filters 121. The gas that has passed through the filter device 120 is guided to the exhaust duct after other dust is removed by the dust collector 125. As the filter 121, for example, a mechanical filter (model: RL3-N3) manufactured by Shigematsu Corporation can be used.

また、上記ワークセット部111には、図24に示すバネなどを用いたワーク押圧機構が設けられている。このワーク押圧機構では、VICSEL素子10及びキャップガラス20からなるワークWがワークホルダー116に保持され、そのワークWの上側に位置するキャップガラス20の上面に接触するように、中間押圧部材119がフローティング状態でセットされる。この中間押圧部材119の複数の端部(2箇所又は3箇所以上)を、押圧部材117によりバネ118を介して押圧することにより、VICSEL素子10に過剰な応力を与えることなく、キャップガラス20をVICSEL素子10に対して均一に押圧することができる。この状態でレーザ接合を行うことにより、VICSEL素子10のクラックを発生させることなく、キャップガラス20の素子接続用電極とVICSEL素子10の駆動電極との間の複数の接合箇所において接合材料(例えば、ハンダ)の厚さにばらつきがあっても、各接合箇所での電極同士の押圧力がほぼ等しくなり、均一なレーザ接合を行うことができる。   Further, the work set unit 111 is provided with a work pressing mechanism using a spring or the like shown in FIG. In this work pressing mechanism, the intermediate pressing member 119 is floated so that the work W composed of the VICSEL element 10 and the cap glass 20 is held by the work holder 116 and comes into contact with the upper surface of the cap glass 20 positioned above the work W. Set in state. By pressing a plurality of ends (two or three or more) of the intermediate pressing member 119 via the spring 118 by the pressing member 117, the cap glass 20 can be removed without applying excessive stress to the VICSEL element 10. The VICSEL element 10 can be uniformly pressed. By performing laser bonding in this state, a bonding material (for example, at a plurality of bonding points between the element connection electrode of the cap glass 20 and the drive electrode of the VICSEL element 10 without generating cracks in the VICSEL element 10). Even if there is a variation in the thickness of the solder), the pressing force between the electrodes at each joining portion becomes substantially equal, and uniform laser joining can be performed.

上記結像光学系104は、光ファイバ7の先端部を保持するファイバ保持部や複数のレンズで構成され、光ファイバ103を通過したレーザ光Lpを集光してワークW上に結像するものである。結像光学系66の倍率は例えば1/2に設定されるが、この倍率に限られるものではない。   The imaging optical system 104 includes a fiber holding unit that holds the tip of the optical fiber 7 and a plurality of lenses, and focuses the laser light Lp that has passed through the optical fiber 103 to form an image on the workpiece W. It is. The magnification of the imaging optical system 66 is set to 1/2, for example, but is not limited to this magnification.

上記メインコントローラは、本レーザ加工装置全体を制御するものであり、YAGレーザ装置101、XYテーブルコントローラ等が接続されている。   The main controller controls the entire laser processing apparatus, and is connected to a YAG laser apparatus 101, an XY table controller, and the like.

図25はレーザ接合に用いるQスイッチYAGレーザ光の繰り返し周波数(加工周波数)とピークエネルギー及びパルス幅との関係を示すグラフである。繰り返し周波数が低いほど1ショット当たりのエネルギーが大きく、繰り返し周波数が高いと1ショット当たりのエネルギーは小さくなる。そこで、本実施形態におけるレーザ接合時の接合材料の溶融やはんだの溶融を行う場合には、高い繰り返し周波数を用いる。一方、配線の一部の金属膜をとばして除去する場合には、低い繰り返し周波数を用いる。なお、図25におけるピークエネルギーは、レーザパルス1ショット当たりのエネルギーをパルス幅で割ることにより求められる。   FIG. 25 is a graph showing the relationship between the repetition frequency (processing frequency) of Q-switched YAG laser light used for laser bonding, peak energy, and pulse width. The lower the repetition frequency, the larger the energy per shot, and the higher the repetition frequency, the smaller the energy per shot. Therefore, when melting the bonding material or solder at the time of laser bonding in this embodiment, a high repetition frequency is used. On the other hand, when a part of the metal film of the wiring is skipped and removed, a low repetition frequency is used. Note that the peak energy in FIG. 25 is obtained by dividing the energy per shot of the laser pulse by the pulse width.

図26はレーザ接合に用いるQスイッチYAGレーザ光のランプ電流値と出力パワーとの関係を示すグラフである。YAGレーザ装置101から出射するレーザ出力は、図示のようにランプ電流値で変化し、例えば23W〜40Wの範囲で調整することができる。ここで、図26におけるレーザ出力は繰り返し周波数にレーザパルス1ショット当たりのエネルギーをかけることによって求めることができる。   FIG. 26 is a graph showing the relationship between the lamp current value of Q-switched YAG laser light used for laser bonding and the output power. The laser output emitted from the YAG laser device 101 varies depending on the lamp current value as shown, and can be adjusted in the range of, for example, 23 W to 40 W. Here, the laser output in FIG. 26 can be obtained by applying the energy per shot of the laser pulse to the repetition frequency.

図27はレーザ接合に用いるレーザ光のビームサイズの説明図である。
VCSEL素子10の駆動電極12と同程度のビームサイズLB1(例えばφ30μm程度)を有するレーザ光を用いる場合は、パルス状のレーザ光が各レーザ接合箇所(駆動電極12)上に照射されるように、ワークWとレーザ光Lpとの間の相対的な移動速度とレーザ光の繰り返し周波数との同期させる。
また、VCSEL素子10の複数の駆動電極12をカバーするようなビームサイズLB2(例えばφ400μm程度)を有するレーザ光を用いてもよい。この場合は、比較的少ない回数のレーザ光のスキャンでVCSEL素子10全面にある複数の駆動電極12についてレーザ接合を確実に行うことができる。特に、本実施形態のようにエネルギー分布が均一になっている大きなビームサイズLB2のレーザ光を用いた場合は、図28に示すようにレーザ光の照射スポットSを一部重複させながらレーザ光を4回程度スキャンすることにより、VCSEL素子10全面にある複数の駆動電極12についてレーザ接合を確実に行うことができる。
FIG. 27 is an explanatory diagram of the beam size of laser light used for laser bonding.
When a laser beam having a beam size LB1 (for example, about φ30 μm) comparable to that of the drive electrode 12 of the VCSEL element 10 is used, the pulsed laser beam is irradiated onto each laser junction (drive electrode 12). The relative moving speed between the workpiece W and the laser beam Lp is synchronized with the repetition frequency of the laser beam.
Further, a laser beam having a beam size LB2 (for example, about φ400 μm) that covers the plurality of drive electrodes 12 of the VCSEL element 10 may be used. In this case, laser bonding can be reliably performed on the plurality of drive electrodes 12 on the entire surface of the VCSEL element 10 with a relatively small number of scans of laser light. In particular, when a laser beam having a large beam size LB2 with a uniform energy distribution is used as in the present embodiment, the laser beam is emitted while partially overlapping the irradiation spot S of the laser beam as shown in FIG. By scanning about four times, laser bonding can be reliably performed on the plurality of drive electrodes 12 on the entire surface of the VCSEL element 10.

図29は他の実施形態にかかるガラスウェーハを用いた電子部品の製造工程の説明図である。この製造方法では、上記キャップガラス20の基材(板材)としてのガラスウェーハ22に、複数のVCSEL素子10が形成された半導体ウェーハ110から分離した各VCSEL素子10を装着し、上記レーザ接合及び乾燥気体を充填した封止を行う。その後、ガラスウェーハ22を各VCSEL素子10の装着部分ごとに分離するよう切断する。これにより、VCSEL素子10をそれぞれ備えた多数の電子部品1をまとめて製造することができる。上記ガラスウェーハ22の切断方法としては、(1)円盤刃を高速回転させてカッティングするダイシング方法、(2)回転しないダイヤモンド刃で引きながら傷を入れるウェハスクライブ後、ブレーキングで割る方法、(3)エキシマレーザ等の紫外レーザでカッティングする方法などがある。上記レーザを用いてカッティングする方法では、レーザ光源として、キャップガラスの材料であるガラスウェーハ22が良く吸収する波長のレーザ光を出力できるレーザを用いる。例えば、ガラスの材料がD263の場合は、そのD263が良く吸収する波長248nmのレーザ光を出力できるエキシマレーザを用いる。この場合の加工条件としては、加工周波数:100Hz、出力:350mJ、照射回数:700ショット、加工スポット:0.5×1mmが好適である。この加工条件でレーザ光を照射することにより、切断箇所を上記長方形(0.5×1mm)で貫通させ、井桁状に加工していく。なお、貫通加工ではなくハーフ加工を行い、その後、ブレーキングで割ってもよい。また、実装工程においてマウンターで割りながら基板に実装するようにしてもよい。また、上記エキシマレーザの代わりに、非線形光学結晶を組み合わせたYAGレーザの4倍波(波長:255nm)のレーザ光を用いてもよい。特に、非線形光学結晶とYAGレーザとを組み合わせたレーザ装置の場合には、次の(1)乃至(3)のような1台で3役となり、経済的である。
(1)YAG(基本波:1064nm): レーザ接合
(2)YAG(2倍波:532nm,3倍波:355nm): レーザによる配線パターニング
(3)YAG(4倍波:255nm): レーザダイシング
FIG. 29 is an explanatory diagram of a manufacturing process of an electronic component using a glass wafer according to another embodiment. In this manufacturing method, each VCSEL element 10 separated from the semiconductor wafer 110 on which a plurality of VCSEL elements 10 are formed is mounted on a glass wafer 22 as a base material (plate material) of the cap glass 20, and the laser bonding and drying are performed. Seal with gas. Thereafter, the glass wafer 22 is cut so as to be separated for each mounting portion of each VCSEL element 10. Thereby, many electronic components 1 each provided with the VCSEL element 10 can be manufactured collectively. As the cutting method of the glass wafer 22, (1) a dicing method in which a disk blade is rotated at a high speed, (2) a wafer scribing method in which a scratch is made while pulling with a non-rotating diamond blade, and then a breaking method is applied. There is a method of cutting with an ultraviolet laser such as an excimer laser. In the method of cutting using the laser, a laser that can output laser light having a wavelength that is well absorbed by the glass wafer 22 that is a material of the cap glass is used as a laser light source. For example, when the glass material is D263, an excimer laser that can output a laser beam having a wavelength of 248 nm that D263 absorbs well is used. As processing conditions in this case, processing frequency: 100 Hz, output: 350 mJ, number of irradiations: 700 shots, processing spot: 0.5 × 1 mm are preferable. By irradiating a laser beam under these processing conditions, the cut portion is penetrated by the rectangle (0.5 × 1 mm) and processed into a cross beam shape. It is also possible to perform half machining instead of through machining, and then break by braking. Moreover, you may make it mount in a board | substrate, dividing with a mounter in a mounting process. In place of the excimer laser, a laser beam of a fourth harmonic wave (wavelength: 255 nm) of a YAG laser combined with a nonlinear optical crystal may be used. In particular, in the case of a laser device in which a nonlinear optical crystal and a YAG laser are combined, one of the following (1) to (3) serves as three roles and is economical.
(1) YAG (fundamental wave: 1064 nm): Laser junction (2) YAG (2nd harmonic: 532 nm, 3rd harmonic: 355 nm): Wiring patterning by laser (3) YAG (4th harmonic: 255 nm): Laser dicing

本実施形態に係る電子部品の一構成例を示す断面図。Sectional drawing which shows the example of 1 structure of the electronic component which concerns on this embodiment. (a),(b)はそれぞれキャップガラスの分光透過率を示す特性図。(A), (b) is a characteristic view which shows the spectral transmittance of a cap glass, respectively. キャップガラスの両面に形成した反射防止膜の一構成例を示す断面図。Sectional drawing which shows one structural example of the anti-reflective film formed in both surfaces of the cap glass. VCSEL素子の一構成例を示す平面図。The top view which shows the example of 1 structure of a VCSEL element. キャップガラスの一構成例を示す平面図。The top view which shows the example of 1 structure of cap glass. (a)〜(d)はそれぞれはんだ供給用の中間パッドを有する配線の構成例を示す説明図。(A)-(d) is explanatory drawing which shows the structural example of the wiring which has the intermediate pad for solder supply, respectively. (a)及び(b)はそれぞれ、正方形のキャップガラスにおいて中間パッドの形成しない配線と中間パッドを形成した配線の構成例を示す説明図。(A) And (b) is explanatory drawing which shows the structural example of the wiring which formed the intermediate pad and the wiring which does not form an intermediate pad, respectively in square cap glass. はんだ供給用の中間パッドを有する配線の他の構成例を示す説明図。Explanatory drawing which shows the other structural example of the wiring which has the intermediate pad for solder supply. VCSEL素子を有する電子部品1を実装した基板の断面図。Sectional drawing of the board | substrate which mounted the electronic component 1 which has a VCSEL element. 駆動ICをキャップガラスの表面に取り付けた電子部品を実装した基板の断面図。Sectional drawing of the board | substrate which mounted the electronic component which attached the drive IC to the surface of the cap glass. 電子部品を実装した基板を組み込んだ光源装置の一構成例を示す説明図。Explanatory drawing which shows the example of 1 structure of the light source device incorporating the board | substrate which mounted the electronic component. 電子部品を実装した基板を組み込んだ光源装置の他の構成例を示す説明図。Explanatory drawing which shows the other structural example of the light source device incorporating the board | substrate which mounted the electronic component. (a)乃至(e)は電子部品の製造工程の一例を示す説明図。(A) thru | or (e) is explanatory drawing which shows an example of the manufacturing process of an electronic component. アルミ層の上にメッキ層を備えた配線の一構成例を示す断面図。Sectional drawing which shows one structural example of the wiring provided with the plating layer on the aluminum layer. キャップガラスを通してレーザを照射して接合を行っている様子を示す説明図。Explanatory drawing which shows a mode that it joins by irradiating a laser through cap glass. 貫通孔を有するキャップガラスを通してレーザを照射して接合を行っている様子を示す説明図。Explanatory drawing which shows a mode that it joins by irradiating a laser through the cap glass which has a through-hole. (a)乃至(e)は電子部品の他の製造工程の例を示す説明図。(A) thru | or (e) is explanatory drawing which shows the example of the other manufacturing process of an electronic component. (a)乃至(e)は電子部品の更に他の製造工程の例を示す説明図。(A) thru | or (e) is explanatory drawing which shows the example of the further another manufacturing process of an electronic component. 電子部品のレーザ接合に用いるレーザ加工装置の一構成例を示す説明図。Explanatory drawing which shows the example of 1 structure of the laser processing apparatus used for the laser joining of an electronic component. (a)乃至(c)はそれぞれレーザ接合に使用できるレーザビームの断面方向のエネルギー分布を示す説明図。(A) thru | or (c) is explanatory drawing which shows the energy distribution of the cross-sectional direction of the laser beam which can be used for a laser joining, respectively. ワーク保持装置の一構成を示す側面図。The side view which shows one structure of a workpiece | work holding apparatus. ワーク保持装置の平面図。The top view of a workpiece holding apparatus. 吸引装置の概略構成を示す説明図。Explanatory drawing which shows schematic structure of a suction device. ワーク押圧機構の一構成例を示す説明図。Explanatory drawing which shows the example of 1 structure of a workpiece | work press mechanism. レーザ接合に用いるQスイッチYAGレーザ光の繰り返し周波数(加工周波数)とピークエネルギー及びパルス幅との関係を示す特性図。The characteristic view which shows the relationship between the repetition frequency (processing frequency) of Q switch YAG laser beam used for laser joining, peak energy, and a pulse width. レーザ接合に用いるQスイッチYAGレーザ光のランプ電流値と出力パワーとの関係を示す特性図。The characteristic view which shows the relationship between the lamp current value of Q switch YAG laser beam used for laser joining, and output power. レーザ接合に用いるレーザ光のビームサイズの説明図。Explanatory drawing of the beam size of the laser beam used for laser joining. レーザ接合時におけるレーザ光のスキャンの様子を示す説明図。Explanatory drawing which shows the mode of the scanning of the laser beam at the time of laser joining. 他の実施形態にかかるガラスウェーハを用いた電子部品の製造工程の説明図。Explanatory drawing of the manufacturing process of the electronic component using the glass wafer concerning other embodiment. 従来例に係るVCSEL素子を備えた電子部品の断面図。Sectional drawing of the electronic component provided with the VCSEL element which concerns on a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

1 電子部品
10 VICSEL素子(光電変換素子)
20 キャップガラス(光透過部材)
90 基板
1 Electronic component 10 VICSEL element (photoelectric conversion element)
20 Cap glass (light transmission member)
90 substrates

Claims (97)

電気信号に基づいて光を発する光電変換素子を備えた電子部品であって、
上記光電変換素子の光出射部がある表面の端部に設けられた駆動電極と、該光電変換素子の光出射部がある表面に対向するように配置された光透過部材に設けられた素子接続用電極とが、導電性の接合材料を介して接合されていることを特徴とする電子部品。
An electronic component including a photoelectric conversion element that emits light based on an electrical signal,
A drive electrode provided at the end of the surface where the light emitting portion of the photoelectric conversion element is provided, and an element connection provided on a light transmitting member disposed so as to face the surface where the light emitting portion of the photoelectric conversion element is provided An electronic component, characterized in that the electrode for use is joined via a conductive joining material.
請求項1の電子部品において、
上記光電変換素子の駆動電極と上記光透過部材の素子接続用電極とが、上記接合材料をレーザ光で溶融させて接合されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to claim 1.
An electronic component, wherein the driving electrode of the photoelectric conversion element and the element connection electrode of the light transmitting member are bonded by melting the bonding material with a laser beam.
請求項1又は2の電子部品において、
上記光透過部材の表面に、上記光電変換素子から出射する光の反射を防止する反射防止膜が形成されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to claim 1 or 2,
An electronic component, wherein an antireflection film for preventing reflection of light emitted from the photoelectric conversion element is formed on a surface of the light transmitting member.
請求項3の電子部品において、
上記反射防止膜の表面に保護層が設けられていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to claim 3.
An electronic component, wherein a protective layer is provided on a surface of the antireflection film.
請求項4の電子部品において、
上記保護層は、樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)シート、又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムで形成されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to claim 4.
The electronic component, wherein the protective layer is formed of a resin tape, a TSA (adhesive for semiconductor manufactured by Toray Industries, Inc.) sheet, or a filler-less highly transparent film.
請求項1乃至5のいずれかの電子部品において、
上記光透過部材の表面に、上記光電変換素子を駆動する駆動回路部品が実装されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 1 to 5,
An electronic component, wherein a drive circuit component for driving the photoelectric conversion element is mounted on a surface of the light transmitting member.
請求項1乃至6のいずれかの電子部品において、
上記接合材料は、はんだと同等以下の電気抵抗を有する金属材料であることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 1 to 6,
An electronic component, wherein the bonding material is a metal material having an electrical resistance equal to or lower than that of solder.
請求項1乃至6のいずれかの電子部品において、
上記接合材料は、結晶構造が面心立方格子構造以外の金属材料であることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 1 to 6,
The electronic component according to claim 1, wherein the bonding material is a metal material having a crystal structure other than a face-centered cubic lattice structure.
請求項1乃至6のいずれかの電子部品において、
上記接合材料は、Sn-Ag-Cu系はんだ、Sn-Bi系はんだ、モリブデン、亜鉛、コバルト、タングステン、スズ、又はカドニウムであることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 1 to 6,
The electronic component, wherein the bonding material is Sn-Ag-Cu solder, Sn-Bi solder, molybdenum, zinc, cobalt, tungsten, tin, or cadmium.
請求項1乃至9のいずれかの電子部品において、
上記接合材料を介した上記光電変換素子の駆動電極と上記光透過部材の素子接続用電極とのレーザ接合により、該光透過部材と該光電変換素子との隙間に密閉空間が形成されるように該光透過部材の表面と該光電変換素子の端部とがレーザ照射で溶融した該接合材料で封止されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to claim 1,
As a result of laser bonding between the drive electrode of the photoelectric conversion element and the element connection electrode of the light transmission member via the bonding material, a sealed space is formed in the gap between the light transmission member and the photoelectric conversion element. An electronic component, wherein a surface of the light transmitting member and an end of the photoelectric conversion element are sealed with the bonding material melted by laser irradiation.
請求項1乃至9のいずれかの電子部品において、
上記光透過部材に対向する上記光電変換素子の端部と該光透過部材の表面とが樹脂で封止されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to claim 1,
An electronic component, wherein an end portion of the photoelectric conversion element facing the light transmitting member and a surface of the light transmitting member are sealed with a resin.
請求項11の電子部品において、
上記樹脂による封止の際に該樹脂が上記光電変換素子の光出射部へ流入するのを阻止する樹脂流入阻止部を、上記光透過部材の表面に設けたことを特徴とする電子部品。
The electronic component of claim 11.
An electronic component comprising a resin inflow prevention portion provided on a surface of the light transmitting member for preventing the resin from flowing into the light emitting portion of the photoelectric conversion element during sealing with the resin.
請求項12の電子部品において、
上記樹脂流入阻止部は、上記光透過部材の表面の上記樹脂に対する撥水性を高めた部分であることを特徴とする電子部品。
The electronic component of claim 12,
The electronic component according to claim 1, wherein the resin inflow blocking portion is a portion of the surface of the light transmitting member that has improved water repellency with respect to the resin.
請求項12の電子部品において、
上記樹脂流入阻止部は、上記光透過部材の表面に設けた凸部又は凹部であることを特徴とする電子部品。
The electronic component of claim 12,
The electronic component, wherein the resin inflow blocking portion is a convex portion or a concave portion provided on the surface of the light transmitting member.
請求項10乃至14のいずれかの電子部品において、
上記光透過部材と上記光電変換素子との隙間の密閉空間に、乾燥気体が充填されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 10 to 14,
An electronic component, wherein a sealed space in a gap between the light transmitting member and the photoelectric conversion element is filled with a dry gas.
請求項15の電子部品において、
上記乾燥気体は乾燥窒素ガスであることを特徴とする電子部品。
The electronic component of claim 15,
The electronic component according to claim 1, wherein the dry gas is dry nitrogen gas.
請求項1乃至16のいずれかの電子部品において、
上記光電変換素子は、垂直共振器型面発光レーザであることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 1 to 16,
The electronic component is a vertical cavity surface emitting laser.
請求項17の電子部品において、
上記垂直共振器型面発光レーザの発光波長は780nmであることを特徴とする電子部品。
The electronic component of claim 17.
An electronic component characterized in that an emission wavelength of the vertical cavity surface emitting laser is 780 nm.
請求項18の電子部品において、
上記光透過部材の材料は、BK7、D263、CG−1、合成石英又はソーダライムガラスであることを特徴とする電子部品。
The electronic component of claim 18,
The material for the light transmitting member is BK7, D263, CG-1, synthetic quartz or soda lime glass.
請求項18又は19の電子部品において、
上記光透過部材の両面に、波長780nmの光の反射を防止する反射防止膜が形成されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to claim 18 or 19,
An electronic component, wherein an antireflection film for preventing reflection of light having a wavelength of 780 nm is formed on both surfaces of the light transmitting member.
請求項1乃至16のいずれかの電子部品において、
上記光電変換素子は、光を受けて電気信号を出力する受光素子であり、上記光出射部は、外部から該光電変換素子への光が通過する光入射部であり、
上記駆動電極は、該電気信号の出力電極であることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 1 to 16,
The photoelectric conversion element is a light receiving element that receives light and outputs an electrical signal, and the light emitting part is a light incident part through which light from the outside to the photoelectric conversion element passes,
The electronic component according to claim 1, wherein the drive electrode is an output electrode of the electric signal.
請求項1乃至21のいずれかの電子部品において、
上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、該光電変換素子の駆動電極と接続される素子接続用電極と、該光透過部材の端部にある基板接続用電極と、該素子接続用電極と該基板接続用電極とを結ぶ電極接続部とからなる配線が形成されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 1 to 21,
On the surface of the light transmission member on the photoelectric conversion element side, an element connection electrode connected to the drive electrode of the photoelectric conversion element, a substrate connection electrode at an end of the light transmission member, and the element connection An electronic component comprising a wiring formed of an electrode connecting portion connecting the electrode and the substrate connecting electrode.
請求項22の電子部品において、
上記接合材料によるレーザ接合を行う場合、上記配線の材料は該レーザ接合に用いるレーザ光を透過しやすい材料であることを特徴とする電子部品。
The electronic component of claim 22,
An electronic component characterized in that when laser bonding is performed using the bonding material, the material of the wiring is a material that easily transmits laser light used for the laser bonding.
請求項22又は23の電子部品において、
上記配線の材料は、アルミニウム、金、又は銅であることを特徴とする電子部品。
24. The electronic component of claim 22 or 23.
An electronic component, wherein the wiring material is aluminum, gold, or copper.
請求項22乃至24のいずれかの電子部品において、
上記配線と上記光透過部材との間にアンカー層が設けられていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 22 to 24,
An electronic component, wherein an anchor layer is provided between the wiring and the light transmitting member.
請求項23の電子部品において、
上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、金属膜を表面に有するテープ、シート又はフィルムを貼り付け、該金属膜の不要部分を除去することにより上記配線が形成され、該配線の素子接続用電極を構成する部分にある該金属膜の表面をはんだメッキし、該はんだを介して該配線の素子接続用電極と該光電変換素子の駆動電極とがレーザ接合されていることを特徴とする電子部品。
24. The electronic component of claim 23.
The wiring is formed by attaching a tape, sheet or film having a metal film on the surface of the light transmissive member on the photoelectric conversion element side and removing unnecessary portions of the metal film. The surface of the metal film in the portion constituting the connection electrode is solder-plated, and the element connection electrode of the wiring and the drive electrode of the photoelectric conversion element are laser-bonded via the solder Electronic parts.
請求項26の電子部品において、
上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に貼り付けるものが、金属膜を表面に有する、樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)シート又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムであることを特徴とする電子部品。
The electronic component of claim 26.
What is pasted on the surface of the light transmissive member on the photoelectric conversion element side is a resin tape, TSA (adhesive for semiconductor manufactured by Toray Industries, Inc.) sheet or filler-less highly transparent film having a metal film on the surface. An electronic component characterized by being
請求項22乃至27のいずれかの電子部品において、
上記配線は、上記素子接続用電極と上記基板接続用電極とを結ぶ上記電極接続部の途中に、はんだ供給用の中間パッドを有することを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 22 to 27,
2. The electronic component according to claim 1, wherein the wiring has an intermediate pad for supplying solder in the middle of the electrode connecting portion connecting the element connecting electrode and the substrate connecting electrode.
請求項28の電子部品において、
上記光電変換素子の駆動電極が複数設けられ、上記配線で結ばれる上記素子接続用電極と上記基板接続用電極との組が、上記各駆動電極に対応するように複数設けられている場合、該複数の配線における上記はんだ供給用の中間パッドと上記素子接続用電極との距離が互いに等しくなるように該中間パッドが設けられていることを特徴とする電子部品。
The electronic component of claim 28,
When a plurality of drive electrodes of the photoelectric conversion element are provided, and a plurality of sets of the element connection electrodes and the substrate connection electrodes connected by the wiring are provided so as to correspond to the drive electrodes, An electronic component, wherein the intermediate pad is provided so that the distance between the solder supplying intermediate pad and the element connecting electrode in a plurality of wirings is equal to each other.
請求項1又は2の電子部品において、
上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、該光電変換素子の駆動電極と接続される素子接続用電極と、該光透過部材の端部にある基板接続用電極と、該素子接続用電極と該基板接続用電極とを結ぶ電極接続部とからなるアルミニウムの配線が形成され、
該配線の表面に、ニッケルメッキ層を形成するメッキ処理、金メッキ層を形成するメッキ処理、又は、ニッケルメッキ層の上に更に金メッキ層を形成するメッキ処理が施され、
該光透過部材の表面の少なくとも上記光電変換素子から出射する光が通過する部分に、該光電変換素子から出射する光の反射を防止する反射防止膜が形成されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to claim 1 or 2,
On the surface of the light transmission member on the photoelectric conversion element side, an element connection electrode connected to the drive electrode of the photoelectric conversion element, a substrate connection electrode at an end of the light transmission member, and the element connection An aluminum wiring comprising an electrode connecting portion connecting the electrode and the substrate connecting electrode is formed,
A plating process for forming a nickel plating layer, a plating process for forming a gold plating layer, or a plating process for further forming a gold plating layer on the nickel plating layer is performed on the surface of the wiring,
An electronic component, wherein an antireflection film for preventing reflection of light emitted from the photoelectric conversion element is formed on at least a portion of the surface of the light transmitting member through which light emitted from the photoelectric conversion element passes .
請求項22乃至30のいずれかの電子部品において、
上記光電変換素子の駆動電極が複数設けられ、
上記配線で結ばれる上記素子接続用電極と上記基板接続用電極との組が、上記各駆動電極に対応するように複数設けられ、
各配線の幅及び長さが、各配線の電気的特性が同等になるように設定されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 22 to 30,
A plurality of drive electrodes of the photoelectric conversion element are provided,
A plurality of sets of the element connection electrodes and the substrate connection electrodes connected by the wiring are provided so as to correspond to the drive electrodes,
An electronic component characterized in that the width and length of each wiring are set so that the electrical characteristics of each wiring are equal.
請求項31の電子部品において、
上記複数の配線は、各配線の長さが同等になるように上記素子接続用電極から外側の基板接続用電極に向かって扇状に延びるように形成され、
上記複数の基板接続用電極は、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面の端部に円弧状に配置されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component of claim 31,
The plurality of wirings are formed so as to extend in a fan shape from the element connection electrodes toward the outer substrate connection electrodes so that the lengths of the respective wirings are equal.
The plurality of substrate connection electrodes are arranged in an arc shape at an end of a surface of the light transmission member on the photoelectric conversion element side.
請求項31又は32の電子部品において、
上記光電変換素子は、上記光出射部に互いに独立に駆動される複数の発光部を有するとともに、該複数の発光部と上記複数の駆動電極とがそれぞれ素子内配線で結ばれ、
各素子内配線の幅及び長さが、各素子内配線の電気的特性が同等になるように設定されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component of claim 31 or 32,
The photoelectric conversion element includes a plurality of light emitting units that are driven independently from each other at the light emitting unit, and the plurality of light emitting units and the plurality of driving electrodes are respectively connected by internal wiring.
An electronic component characterized in that the width and length of each intra-element wiring are set so that the electrical characteristics of each intra-element wiring are equal.
請求項33の電子部品において、
上記複数の素子内配線は、各素子内配線の長さが同等になるように上記発光部から外側の駆動電極に向かって扇状に延びるように形成され、
上記複数の駆動電極は、上記光電変換素子の光出射部がある面の端部に円弧状に配置されていることを特徴とする電子部品。
34. The electronic component of claim 33.
The plurality of element internal wirings are formed so as to extend in a fan shape from the light emitting portion toward the outer drive electrode so that the length of each element internal wiring is equal.
The electronic component, wherein the plurality of drive electrodes are arranged in an arc shape at an end of a surface where the light emitting portion of the photoelectric conversion element is provided.
請求項22乃至34のいずれかの電子部品において、
上記基板接続用電極の表面にプリフラックスコーティングが施されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 22 to 34,
An electronic component, wherein a preflux coating is applied to a surface of the substrate connecting electrode.
請求項22乃至34のいずれかの電子部品において、
上記基板接続用電極の表面に金メッキが施されていることを特徴とする電子部品。
The electronic component according to any one of claims 22 to 34,
An electronic component, wherein the surface of the substrate connecting electrode is gold-plated.
請求項22乃至36のいずれかの電子部品が装着され、上記電子部品の光透過部材に形成された上記基板接続用電極がはんだ付けされていることを特徴とする基板。   37. A substrate, wherein the electronic component according to claim 22 is mounted, and the substrate connection electrode formed on the light transmission member of the electronic component is soldered. 請求項37の基板において、
上記電子部品の上記光透過部材の基板接続用電極が形成されている端部が、上記光電変換素子に対向している部分よりも外側に露出し、
上記光電変換素子を当該基板側に向けて上記電子部品が装着されたときに該光電変換素子が干渉しないで挿入可能な開口が形成されていることを特徴とする基板。
38. The substrate of claim 37.
An end portion of the light transmitting member of the electronic component where the substrate connection electrode is formed is exposed to the outside of a portion facing the photoelectric conversion element,
A substrate having an opening in which the photoelectric conversion element can be inserted without interference when the electronic component is mounted with the photoelectric conversion element facing the substrate.
請求項38の基板において、
上記基板の開口に挿入された上記光電変換素子の裏面と該基板の裏面とが接着剤で接続されていることを特徴とする基板。
40. The substrate of claim 38.
A substrate, wherein the back surface of the photoelectric conversion element inserted into the opening of the substrate and the back surface of the substrate are connected by an adhesive.
請求項39の基板において、
上記光電変換素子の裏面にあるグランド電極と上記基板の裏面にあるグランド電極とが導電性の接着剤で接続されていることを特徴とする基板。
40. The substrate of claim 39.
A substrate, wherein a ground electrode on a back surface of the photoelectric conversion element and a ground electrode on a back surface of the substrate are connected by a conductive adhesive.
電気信号に基づいて光を発する光電変換素子を備えた電子部品の製造方法であって、
上記光電変換素子の光出射部がある表面の端部に設けられた駆動電極と、該光電変換素子の光出射部がある表面に対向するように配置された光透過部材に設けられた素子接続用電極とを、導電性の接合材料を介してレーザ接合することを特徴とする電子部品の製造方法。
A method of manufacturing an electronic component including a photoelectric conversion element that emits light based on an electrical signal,
A drive electrode provided at the end of the surface where the light emitting portion of the photoelectric conversion element is provided, and an element connection provided on a light transmitting member disposed so as to face the surface where the light emitting portion of the photoelectric conversion element is provided A method for manufacturing an electronic component, characterized in that a laser electrode is bonded to a working electrode via a conductive bonding material.
請求項41の電子部品の製造方法において、
上記光透過部材に素子接続用電極を形成し、
該光透過部材の素子接続用電極と上記光電変換素子の駆動電極とを上記接合材料を介して接触させるように該光透過部材と該光電変換素子とを対向させて配置し、
該光透過部材の該光電変換素子と対向する対向面とは反対側の表面から該光透過部材を通過させて該接合材料に到達させるように、該光透過部材を透過可能な波長のレーザ光を照射し、
該レーザ光が照射された該接合材料を介して該光透過部材の素子接続用電極と該光電変換素子の駆動電極とを接合することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 41,
Forming an element connecting electrode on the light transmitting member;
The light transmission member and the photoelectric conversion element are arranged to face each other so that the element connection electrode of the light transmission member and the drive electrode of the photoelectric conversion element are brought into contact with each other via the bonding material.
Laser light having a wavelength that can be transmitted through the light transmitting member so as to pass through the light transmitting member from the surface opposite to the surface facing the photoelectric conversion element of the light transmitting member and reach the bonding material. Irradiate
A method for manufacturing an electronic component, comprising: bonding an element connecting electrode of the light transmitting member and a driving electrode of the photoelectric conversion element through the bonding material irradiated with the laser beam.
請求項42の電子部品の製造方法において、
上記レーザ光の照射で上記接合材料を溶融させることにより、上記光透過部材の素子接続用電極と上記光電変換素子の駆動電極とを接合することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 42,
A method for manufacturing an electronic component, comprising: bonding an element connecting electrode of the light transmitting member and a driving electrode of the photoelectric conversion element by melting the bonding material by irradiation with the laser beam.
請求項42又は43の電子部品の製造方法において、
上記光透過部材と上記光電変換素子とを対向配置する前に、該光透過部材の素子接続用電極上に上記接合材料からなる接合層を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 42 or 43,
A method for manufacturing an electronic component, comprising: forming a bonding layer made of the bonding material on an element connection electrode of the light transmitting member before the light transmitting member and the photoelectric conversion element are arranged to face each other.
請求項42又は43の電子部品の製造方法において、
上記光透過部材と上記光電変換素子とを対向配置する前に、該光電変換素子の駆動電極上に上記接合材料からなる接合層を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 42 or 43,
A method for manufacturing an electronic component, comprising: forming a bonding layer made of the bonding material on a drive electrode of the photoelectric conversion element before the light transmitting member and the photoelectric conversion element are arranged to face each other.
請求項41乃至45のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記光透過部材に素子接続用電極を形成する前に、上記光電変換素子から出射する光の反射を防止する反射防止膜を、該光透過部材の表面に形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 41 thru | or 45,
An antireflection film for preventing reflection of light emitted from the photoelectric conversion element is formed on the surface of the light transmission member before forming the element connection electrode on the light transmission member. Production method.
請求項46の電子部品の製造方法において、
上記光透過部材に素子接続用電極を形成する前に、上記反射防止膜の表面に保護層を設けることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 46,
A method for manufacturing an electronic component, comprising: providing a protective layer on a surface of the antireflection film before forming an electrode for element connection on the light transmitting member.
請求項47の電子部品の製造方法において、
上記保護層は、樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)、又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムで形成されていることを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 47,
The said protective layer is formed with the resin tape, TSA (Toray Industries, Inc. semiconductor adhesive), or a filler-less highly transparent type film, The manufacturing method of the electronic component characterized by the above-mentioned.
(キャップガラスに駆動IC実装)
請求項41乃至48のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記光透過部材の表面に、上記光電変換素子を駆動する駆動回路部品を実装することを特徴とする電子部品の製造方法。
(Mounting IC mounted on cap glass)
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 41 thru / or 48,
A method of manufacturing an electronic component comprising mounting a drive circuit component for driving the photoelectric conversion element on a surface of the light transmitting member.
請求項41乃至49のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記レーザ光を照射する際に、上記光透過部材の素子接続用電極と上記光電変換素子の駆動電極とを密着させるように、該光透過部材及び該光電変換素子の少なくとも一方に圧力をかけることを特徴とする電子部品の製造方法。
50. The method of manufacturing an electronic component according to claim 41,
When irradiating the laser beam, pressure is applied to at least one of the light transmission member and the photoelectric conversion element so that the element connection electrode of the light transmission member and the drive electrode of the photoelectric conversion element are in close contact with each other. A method of manufacturing an electronic component characterized by the above.
請求項41乃至50のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記接合材料は、はんだと同等以下の電気抵抗を有する金属材料であることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 41 thru | or 50,
The method for manufacturing an electronic component, wherein the bonding material is a metal material having an electrical resistance equal to or lower than that of solder.
請求項41乃至50のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記接合材料は、結晶構造が面心立方格子構造以外の金属材料であることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 41 thru | or 50,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the bonding material is a metal material having a crystal structure other than a face-centered cubic lattice structure.
請求項41乃至50のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記接合材料は、Sn-Ag-Cu系はんだ、Sn-Bi系はんだ、モリブデン、亜鉛、コバルト、タングステン、スズ、又は、カドニウムであることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 41 thru | or 50,
The method for manufacturing an electronic component, wherein the bonding material is Sn—Ag—Cu solder, Sn—Bi solder, molybdenum, zinc, cobalt, tungsten, tin, or cadmium.
請求項41乃至53のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記レーザ接合の前に、上記接合材料の表面に酸化防止処理を施すことを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 41 thru | or 53,
A method for manufacturing an electronic component, wherein the surface of the bonding material is subjected to an antioxidant treatment before the laser bonding.
請求項41乃至54のいずれかの電子部品の製造方法において、
少なくとも上記光透過部材及び上記素子接続用電極を貫通する貫通孔を形成し、
上記レーザ接合のときに該貫通孔を上記接合材料で封止することにより、該光透過部材と該光電変換素子との隙間に密閉空間が形成されるように該光透過部材の表面と該光電変換素子の端部とをレーザ照射で溶融した該接合材料で封止することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic components in any one of Claims 41 thru / or 54,
Forming a through hole penetrating at least the light transmitting member and the element connecting electrode;
By sealing the through hole with the bonding material at the time of laser bonding, the surface of the light transmitting member and the photoelectrical member are formed so that a sealed space is formed in the gap between the light transmitting member and the photoelectric conversion element. A method for manufacturing an electronic component, comprising sealing an end portion of a conversion element with the bonding material melted by laser irradiation.
請求項55の電子部品の製造方法において、
上記レーザ接合の前に、上記貫通孔を通して上記光透過部材と上記光電変換素子との隙間に乾燥気体を送り込んだ後に、上記レーザ接合を行うことを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 55,
A method of manufacturing an electronic component, wherein the laser bonding is performed after a dry gas is fed into a gap between the light transmitting member and the photoelectric conversion element through the through hole before the laser bonding.
請求項41乃至54のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記光透過部材に対向する上記光電変換素子の端部と該光透過部材の表面とを樹脂で封止することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic components in any one of Claims 41 thru / or 54,
An electronic component manufacturing method, wherein an end portion of the photoelectric conversion element facing the light transmitting member and a surface of the light transmitting member are sealed with a resin.
請求項57の電子部品の製造方法において、
上記樹脂による封止の際に該樹脂が上記光電変換素子の光出射部へ流入するのを阻止する樹脂流入阻止部を、上記光透過部材の表面に設けることを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 57,
A method for manufacturing an electronic component, comprising: a resin inflow blocking portion that prevents the resin from flowing into the light emitting portion of the photoelectric conversion element when sealed with the resin, on the surface of the light transmitting member. .
請求項58の電子部品の製造方法において、
上記樹脂流入阻止部は、上記光透過部材の表面の上記樹脂に対する撥水性を高めた部分であることを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 58,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the resin inflow prevention portion is a portion on the surface of the light transmission member that has improved water repellency with respect to the resin.
請求項58の電子部品の製造方法において、
上記樹脂流入阻止部は、上記光透過部材の表面に設けた凸部又は凹部であることを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 58,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the resin inflow blocking portion is a convex portion or a concave portion provided on the surface of the light transmitting member.
請求項57乃至60のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記光透過部材と上記光電変換素子との隙間の上記樹脂で密閉された空間に、乾燥気体を充填することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 57 thru | or 60,
A method for producing an electronic component, wherein a dry gas is filled in a space sealed with the resin in a gap between the light transmitting member and the photoelectric conversion element.
請求項56又は61の電子部品の製造方法において、
上記乾燥気体は乾燥窒素ガスであることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 56 or 61,
The method for manufacturing an electronic component, wherein the dry gas is dry nitrogen gas.
請求項41乃至62のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記光電変換素子は、垂直共振器型面発光レーザであることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 41 thru | or 62,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the photoelectric conversion element is a vertical cavity surface emitting laser.
請求項63の電子部品の製造方法において、
上記垂直共振器型面発光レーザの発光波長が780nmであることを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 63,
An electronic component manufacturing method, wherein the vertical cavity surface emitting laser has an emission wavelength of 780 nm.
請求項64の電子部品の製造方法において、
上記光透過部材の材料は、BK7、D263、CG−1、合成石英又はソーダライムガラスであることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 64,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the material of the light transmitting member is BK7, D263, CG-1, synthetic quartz or soda lime glass.
請求項64又は65の電子部品の製造方法において、
上記光透過部材の両面に、波長780nmの光の反射を防止する反射防止膜を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 64 or 65,
A method of manufacturing an electronic component, comprising forming an antireflection film for preventing reflection of light having a wavelength of 780 nm on both surfaces of the light transmitting member.
請求項41乃至62のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記光電変換素子は、光を受けて電気信号を出力する受光素子であり、上記光出射部は、外部から該光電変換素子への光が通過する光入射部であり、
上記駆動電極は、該電気信号の出力電極であることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 41 thru | or 62,
The photoelectric conversion element is a light receiving element that receives light and outputs an electrical signal, and the light emitting part is a light incident part through which light from the outside to the photoelectric conversion element passes,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the drive electrode is an output electrode of the electrical signal.
請求項41乃至67のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、該光電変換素子の電極と接続される素子接続用電極と該光透過部材の端部にある基板接続用電極とを結ぶ配線を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 41 thru | or 67,
Forming a wiring connecting an element connection electrode connected to the electrode of the photoelectric conversion element and a substrate connection electrode at an end of the light transmission member on a surface of the light transmission member on the photoelectric conversion element side; A method of manufacturing an electronic component characterized by the above.
請求項68の電子部品の製造方法において、
上記接合材料によるレーザ接合を行う場合、上記配線の材料として、該レーザ接合に用いるレーザ光を透過しやすい材料を用いることを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 68, wherein
A method of manufacturing an electronic component, wherein when performing laser bonding using the bonding material, a material that easily transmits laser light used for the laser bonding is used as the material of the wiring.
請求項68又は69の電子部品の製造方法において、
上記配線の材料は、アルミニウム、金、又は銅であることを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 68 or 69,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the wiring material is aluminum, gold, or copper.
請求項68乃至70のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記配線と上記光透過部材との間にアンカー層を設けることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 68 thru / or 70,
An electronic component manufacturing method comprising providing an anchor layer between the wiring and the light transmitting member.
請求項71の電子部品の製造方法において、
上記アンカー層を介して上記配線を形成した後、上記光透過部材の該配線が形成された面とは反対側の表面から該配線の形成領域にレーザ光を照射し、該アンカー層を除去することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 71,
After forming the wiring via the anchor layer, the formation region of the wiring is irradiated with laser light from the surface opposite to the surface on which the wiring is formed of the light transmitting member, and the anchor layer is removed. An electronic component manufacturing method characterized by the above.
請求項68乃至72のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記光透過部材の上記配線が形成される面とは反対側の表面のうち該配線に対向する領域に、防眩加工を施すことを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 68 thru / or 72,
An anti-glare process is performed on an area of the surface of the light transmissive member opposite to the surface on which the wiring is formed, the area facing the wiring.
請求項73の電子部品の製造方法において、
紫外レーザのレーザ光を照射することにより上記防眩加工を施すことを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 73,
An anti-glare process is performed by irradiating a laser beam of an ultraviolet laser.
請求項68乃至74のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記配線の表面にはんだメッキを施すことを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 68 thru / or 74,
A method of manufacturing an electronic component, wherein the surface of the wiring is subjected to solder plating.
請求項68乃至74のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記配線の表面のはんだを付着させたい部分を金でメッキし、はんだを付着させたくない部分を酸化させ、
該配線の金でメッキした部分の一部に該配線のはんだメッキに必要な量のはんだを付着させ、
該付着させたはんだを溶融させることにより、該配線にはんだメッキを施すことを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 68 thru / or 74,
Plating the part of the wiring surface where you want to attach the solder with gold, oxidizing the part you do not want to attach the solder,
The amount of solder necessary for solder plating of the wiring is attached to a part of the portion plated with gold of the wiring,
A method of manufacturing an electronic component, wherein the solder is plated on the wiring by melting the adhered solder.
請求項75又は76の電子部品の製造方法において、
上記はんだの溶融の前に、上記配線の素子接続用電極及び基板接続用電極の外周部を酸化しておくことを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 75 or 76,
Before the melting of the solder, the outer peripheral portions of the element connection electrode and the substrate connection electrode of the wiring are oxidized, and the method for manufacturing an electronic component is characterized in that:
請求項75又は76の電子部品の製造方法において、
上記はんだメッキを、上記配線の素子接続用電極及び基板接続用電極の外周部から面方向にはんだがはみ出るように行うことを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 75 or 76,
A method of manufacturing an electronic component, wherein the solder plating is performed so that the solder protrudes in the surface direction from the outer peripheral portions of the element connection electrode and the substrate connection electrode of the wiring.
請求項68の電子部品の製造方法において、
上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、金属膜を表面に有するテープ、シート、又はフィルムを貼り付け、該金属膜の不要部分が除去された後の該金属膜の表面をはんだメッキすることにより、該光電変換素子の電極と接続される素子接続用電極と該光透過部材の端部にある基板接続用電極とを結ぶ配線を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 68, wherein
A tape, sheet, or film having a metal film on the surface is attached to the surface of the light transmissive member on the photoelectric conversion element side, and the surface of the metal film after the unnecessary portion of the metal film is removed is solder plated. By doing so, a wiring connecting the element connection electrode connected to the electrode of the photoelectric conversion element and the substrate connection electrode at the end of the light transmitting member is formed.
請求項79の電子部品の製造方法において、
上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に貼り付けるものが、金属膜を表面に有する、樹脂テープ、TSA(東レ株式会社製の半導体用接着剤)シート又はフィラーレスの高透明タイプのフィルムであるあることを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 79,
What is pasted on the surface of the light transmissive member on the photoelectric conversion element side is a resin tape, TSA (adhesive for semiconductor manufactured by Toray Industries, Inc.) sheet or filler-less highly transparent film having a metal film on the surface. The manufacturing method of the electronic component characterized by these.
請求項75乃至80のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記配線は、上記素子接続用電極と上記基板接続用電極とを結ぶ上記電極接続部の途中に、はんだ供給用の中間パッドを有し、
該中間パッドにはんだを供給した後、該供給したはんだを溶融させて該素子接続用電極と上記基板接続用電極とに向けて延ばすことにより、該配線の表面にはんだメッキすることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 75 thru | or 80,
The wiring has an intermediate pad for supplying solder in the middle of the electrode connecting portion connecting the element connecting electrode and the substrate connecting electrode,
After the solder is supplied to the intermediate pad, the supplied solder is melted and extended toward the element connection electrode and the substrate connection electrode, thereby solder-plating the surface of the wiring. Manufacturing method of electronic components.
請求項81の電子部品の製造方法において、
上記光電変換素子の駆動電極が複数設けられ、上記配線で結ばれる上記素子接続用電極と上記基板接続用電極との組が、上記各駆動電極に対応するように複数設けられている場合、該複数の配線における上記はんだ供給用の中間パッドと上記素子接続用電極との距離が互いに等しくなるように該中間パッドを設けておくことを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 81,
When a plurality of drive electrodes of the photoelectric conversion element are provided, and a plurality of sets of the element connection electrodes and the substrate connection electrodes connected by the wiring are provided so as to correspond to the drive electrodes, A method of manufacturing an electronic component, characterized in that the intermediate pads are provided so that the distances between the solder supplying intermediate pads and the element connecting electrodes in a plurality of wirings are equal to each other.
請求項41の電子部品の製造方法において、
上記光透過部材の上記光電変換素子側の面に、該光電変換素子の電極と接続される素子接続用電極と該光透過部材の端部にある基板接続用電極とを結ぶアルミニウムからなる配線を形成し、
該配線の表面に、ニッケルメッキ層を形成するメッキ処理、金メッキ層を形成するメッキ処理、又は、ニッケルメッキ層の上に更に金メッキ層を形成するメッキ処理を施し、
該光透過部材の表面の少なくとも上記光電変換素子から出射する光が通過する部分に、該光電変換素子から出射する光の反射を防止する反射防止膜を形成することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 41,
On the surface of the light transmissive member on the photoelectric conversion element side, a wiring made of aluminum that connects an element connection electrode connected to the electrode of the photoelectric conversion element and a substrate connection electrode at an end of the light transmissive member. Forming,
The surface of the wiring is subjected to a plating process for forming a nickel plating layer, a plating process for forming a gold plating layer, or a plating process for further forming a gold plating layer on the nickel plating layer,
Manufacturing an electronic component, wherein an antireflection film for preventing reflection of light emitted from the photoelectric conversion element is formed on at least a portion of the surface of the light transmitting member through which light emitted from the photoelectric conversion element passes. Method.
請求項68乃至83のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記光電変換素子の駆動電極を複数設け、
上記配線で結ばれる上記素子接続用電極と上記基板接続用電極との組を、上記各駆動電極に対応するように複数設け、
各配線の幅及び長さを、各配線の電気的特性が同等になるように設定することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 68 thru / or 83,
Provide a plurality of drive electrodes of the photoelectric conversion element,
A plurality of sets of the element connection electrode and the substrate connection electrode connected by the wiring are provided so as to correspond to the drive electrodes,
A method of manufacturing an electronic component, wherein the width and length of each wiring are set so that the electrical characteristics of each wiring are equal.
請求項84の電子部品の製造方法において、
上記複数の配線を、各配線の長さが同等になるように上記素子接続用電極から外側の基板接続用電極に向かって扇状に延ばすように形成し、
上記複数の基板接続用電極を、上記光透過部材の上記光電変換素子側の面の端部に円弧状に配置することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the method of manufacturing an electronic component according to claim 84,
The plurality of wirings are formed so as to extend in a fan shape from the element connection electrodes toward the outer substrate connection electrodes so that the lengths of the respective wirings are equal.
The method of manufacturing an electronic component, wherein the plurality of substrate connection electrodes are arranged in an arc shape at an end of a surface of the light transmission member on the photoelectric conversion element side.
請求項84又は85の電子部品の製造方法において、
上記光電変換素子は、上記光出射部に互いに独立に駆動される複数の発光部を有するとともに、該複数の発光部と上記複数の駆動電極とがそれぞれ素子内配線で結ばれ、
各素子内配線の幅及び長さを、各素子内配線の電気的特性が同等になるように設定することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 84 or 85,
The photoelectric conversion element includes a plurality of light emitting units that are driven independently from each other at the light emitting unit, and the plurality of light emitting units and the plurality of driving electrodes are respectively connected by internal wiring.
A method of manufacturing an electronic component, wherein the width and length of each intra-element wiring are set so that the electrical characteristics of each intra-element wiring are equal.
請求項86の電子部品の製造方法において、
上記複数の素子内配線を、各素子内配線の長さが同等になるように上記発光部から外側の駆動電極に向かって扇状に延ばすように形成し、
上記複数の駆動電極を、上記光電変換素子の光出射部がある面の端部に円弧状に配置することを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to claim 86,
The plurality of element wirings are formed so as to extend in a fan shape from the light emitting portion toward the outer drive electrode so that the lengths of the respective element wirings are equal,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the plurality of drive electrodes are arranged in an arc shape at an end of a surface where the light emitting portion of the photoelectric conversion element is provided.
請求項68乃至87のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記基板接続用電極の表面にプリフラックスコーティングを施すことを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 68 to 87,
A method of manufacturing an electronic component, wherein a preflux coating is applied to a surface of the substrate connecting electrode.
請求項68乃至87のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記基板接続用電極の表面に金メッキを施すことを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 68 to 87,
A method of manufacturing an electronic component, wherein the surface of the substrate connecting electrode is gold-plated.
請求項41乃至89のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記レーザ接合を行うレーザ光として、断面方向のレーザエネルギー分布が均一化されたレーザ光を用いることを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 41 to 89,
A method of manufacturing an electronic component, wherein a laser beam having a uniform laser energy distribution in a cross-sectional direction is used as the laser beam for performing the laser bonding.
請求項41乃至89のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記接合材料を介した上記光電変換素子の駆動電極と上記光透過部材の素子接続用電極とのレーザ接合箇所が複数箇所である場合、上記レーザ接合を行うレーザ光として、該複数のレーザ接合箇所の少なくとも一箇所を照射する程度の照射スポットの大きさを有し且つ所定の繰り返し周波数で間欠的に出力されるパルス状のレーザ光を用い、
該パルス状のレーザ光が各レーザ接合箇所に照射されるように、当該電子部品と該レーザ光との間の相対的な移動と該レーザ光の繰り返し周波数との同期させることを特徴とする電子部品の製造方法。
The method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 41 to 89,
When there are a plurality of laser joining locations between the drive electrode of the photoelectric conversion element and the element connecting electrode of the light transmitting member via the joining material, the plurality of laser joining locations are used as laser light for performing the laser joining. Using a pulsed laser beam that has an irradiation spot size that irradiates at least one spot of the laser beam and that is intermittently output at a predetermined repetition frequency,
Electrons characterized in that the relative movement between the electronic component and the laser beam is synchronized with the repetition frequency of the laser beam so that the laser beam is irradiated with the pulsed laser beam. A manufacturing method for parts.
請求項41乃至91のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記光透過部材の板材又はシート材に上記光電変換素子を複数装着して上記レーザ接合を行い、該光透過部材の板材又はシート材を各光電変換素子ごとに分離するように切断することにより、光電変換素子を備えた複数の電子部品をまとめて製造することを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component in any one of Claims 41 thru | or 91,
By mounting a plurality of the photoelectric conversion elements on the plate material or sheet material of the light transmissive member and performing the laser bonding, cutting the plate material or sheet material of the light transmissive member so as to be separated for each photoelectric conversion element, A method of manufacturing an electronic component, wherein a plurality of electronic components each including a photoelectric conversion element are manufactured together.
請求項41乃至92のいずれかの電子部品の製造方法において、
上記レーザ光が照射されている上記電子部品の周辺の気体を吸引し、該吸引した気体から、該レーザ光の照射によって該電子部品から放出された物質を除去することを特徴とする電子部品の製造方法。
93. A method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 41 to 92.
A gas around the electronic component irradiated with the laser light is sucked, and a substance released from the electronic component by the laser light irradiation is removed from the sucked gas. Production method.
請求項41乃至93のいずれかの電子部品の製造方法により上記電子部品を製造し、
該電子部品を基板に装着し、
該電子部品の光透過部材に形成された上記基板接続用電極と該基板の電極とをはんだ付けすることを特徴とする基板の製造方法。
The electronic component is manufactured by the method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 41 to 93,
The electronic component is mounted on a substrate,
A method of manufacturing a substrate, comprising: soldering the substrate connecting electrode formed on the light transmitting member of the electronic component to the electrode of the substrate.
請求項94の基板の製造方法において、
上記電子部品は、上記光透過部材の基板接続用電極が形成されている端部が、上記光電変換素子に対向している部分よりも外側に露出し、
上記基板には、上記光電変換素子を該基板側に向けて上記電子部品が装着されたときに該光電変換素子が干渉しないで挿入可能な開口が形成されていることを特徴とする基板の製造方法。
95. The method of manufacturing a substrate of claim 94,
The electronic component has an end where the substrate connection electrode of the light transmitting member is formed exposed outside a portion facing the photoelectric conversion element,
The substrate is formed with an opening into which the photoelectric conversion element can be inserted without interference when the electronic component is mounted with the photoelectric conversion element facing the substrate. Method.
請求項95の基板の製造方法において、
上記基板の開口に挿入された上記光電変換素子の裏面と該基板の裏面とを接着剤で接続することを特徴とする基板の製造方法。
The method of manufacturing a substrate of claim 95,
A method for producing a substrate, comprising: connecting a back surface of the photoelectric conversion element inserted into an opening of the substrate and a back surface of the substrate with an adhesive.
請求項96の基板の製造方法において、
上記光電変換素子の裏面にあるグランド電極と上記基板の裏面にあるグランド電極とを導電性の接着剤で接続することを特徴とする基板の製造方法。
97. The method of manufacturing a substrate of claim 96,
A method for manufacturing a substrate, comprising: connecting a ground electrode on a back surface of the photoelectric conversion element and a ground electrode on a back surface of the substrate with a conductive adhesive.
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