JP2008274368A - BiFeO3膜形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】スパッタ法を用いて、良質なBiFeO3膜を直接シリコン基板の上に形成できるようにする。
【解決手段】単結晶シリコンからなり、主表面が清浄化された基板101を用意し、基板101の上に膜厚200nm程度のBiFeO3の結晶からなるBiFeO3結晶膜102が形成された状態とする。ここで、BiFeO3結晶膜102の形成は、主として、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いたECRプラズマスパッタ法により行う。ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットとしては、Bi2O3:Fe2O3=1.1:1の割合で原料を混合して焼結したBi1.1FeO3ターゲットを用いる。
【選択図】 図1
【解決手段】単結晶シリコンからなり、主表面が清浄化された基板101を用意し、基板101の上に膜厚200nm程度のBiFeO3の結晶からなるBiFeO3結晶膜102が形成された状態とする。ここで、BiFeO3結晶膜102の形成は、主として、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いたECRプラズマスパッタ法により行う。ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットとしては、Bi2O3:Fe2O3=1.1:1の割合で原料を混合して焼結したBi1.1FeO3ターゲットを用いる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、薄膜の状態にすることで大きな分極が得られることが知られているBiFeO3の結晶膜を形成するBiFeO3膜形成方法に関するものである。
BiFeO3は、Pb(Ti,Zr)O3に代わり、RoHS指令の要求を満足する強誘電体メモリ用の分極保持材料としての応用が期待されている。強誘電体メモリの分極保持材料としては、既にPb(Ti,Zr)O3が実用化され、実際にメモリーカードなどに用いられている。しかしながら、この材料は、Pbを含んでいるため、場合によっては環境に関する規制の対象となる。一方、1990年代の半ばに登場したBi系層状強誘電体は、Bi4Ti3O12,Bi4-xLaxTi3O12,及びSrBi2Ta2O9などが代表的であり、Pbを含まない点以外、分極疲労がPb(Ti,Zr)O3に比べて小さいことが特徴である。
しかしながら、Pb(Ti,Zr)O3の標準的な分極量40μC/cm2に比較し、Bi系層状強誘電体の分極量は、10μC/cm2程度と小さい。分極の大きさは、分極保持材料を用いるデバイスの製造プロセス及び設計の様々な側面におけるマージンや、デザインルールへも影響する。このため、一般に、用いる分極保持材料の分極量は大きいほど好都合である。
このような背景の下、2003年に、Pb(Ti,Zr)O3及びBi系強誘電体の特徴を併せ持つ新物質としてBiFeO3が見出された(非特許文献1参照)。BiFeO3の単結晶は、三方晶系に属し、本来小さな分極しか持たないが、異種基板の上に薄膜として形成し、格子を正方晶系へと歪ませると、70μC/cm2あるいはこれ以上の分極が実現する(非特許文献2参照)。
しかし、良質なBiFeO3の結晶が形成しにくいという問題がある。一般的に、強誘電体薄膜は有機金属分解法により形成されているが、この方法では、良質なBiFeO3の結晶が得られにくいことが知られている。このような中で、小数の研究機関において、これまで主にパルスレーザー堆積(PLD)法によって、良好な膜質のBiFeO3の形成が成功している。しかしながら、PDL法は成膜面積が小さく、現実的なデバイス製造プロセスに適用することが非常に困難である。
一方、一般的には、生産性に優れた強誘電体膜の形成方法としては、スパッタ法がある。しかしながら、スパッタ法によるBiFeO3の形成条件は知られていない。このように、従来では、良質なBiFeO3膜の形成技術が確立されていない。
また、いわゆる1T型の強誘電体メモリにおいては、強誘電体の分極方向が、基板平面の法線方向に上向きか下向きかで、シリコン基板との界面に誘起される電荷が変化することを利用してON状態とOFF状態とを区別している。このように、BiFeO3膜を用いた1T型の強誘電体メモリの実現には、シリコン基板の上に直接BiFeO3膜を形成する必要がある。
しかしながら、これまでのPLD法によるBiFeO3の形成については、SrRuO3基板の上(非特許文献1参照)、もしくは白金基板の上(非特許文献2参照)への報告はなされているが、シリコン基板の上に直接BiFeO3膜を形成する方法については報告されていない。このように、従来では、一般的に半導体装置の製造に用いられているスパッタ法を用い、良質なBiFeO3膜を直接シリコン基板の上に形成する技術が確立されていない状態である。
本発明は、以上のような問題点を解消するためになされたものであり、スパッタ法を用いて、良質なBiFeO3膜を直接シリコン基板の上に形成できるようにすることを目的とする。
本発明に係るBiFeO3膜形成方法は、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いた電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ法により、基板温度を460〜480℃の範囲とし、酸素分圧を1.3〜6.5×10-3Paの範囲とした条件で、シリコン基板の主表面上にBiFeO3を堆積することで、主表面に接して結晶状態のBiFeO3からなる膜が形成された状態とする成膜工程を少なくとも備えるようにしたものである。この方法によれば、パイロクロア相の形成が抑制されるようになる。
また、本発明に係る他のBiFeO3膜形成方法は、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いた電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ法により、酸素分圧を1.3×10-3Paとした条件で、シリコン基板の主表面上にBiFeO3を堆積することで、主表面に接して非晶質のBiFeO3からなる膜が形成された状態とする成膜工程と、この成膜工程の後、非晶質のBiFeO3からなる膜を、酸素及びアルゴンの中より選択された雰囲気の中で、加熱温度を500℃とした条件で1時間以上処理することで結晶化し、シリコン基板の上にBiFeO3の結晶からなる膜が形成された状態とする結晶化工程とを少なくとも備えるようにしたものである。この方法によれば、パイロクロア相の形成が抑制されるようになる。
上記BiFeO3膜形成方法において、成膜工程では、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットによる電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタと、ビスマスと酸素とからなる焼結体のターゲットによるスパッタとを同時に行うことで、BiFeO3からなる膜が形成された状態とするとよい。
以上説明したように、本発明によれば、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いた電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ法により、基板温度を460〜480℃の範囲とし、酸素分圧を1.3〜6.5×10-3Paの範囲とした条件で、シリコン基板の主表面上にBiFeO3を堆積するようにした。また、本発明によれば、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いた電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ法により、酸素分圧を1.3×10-3Paとした条件で、シリコン基板の主表面上にBiFeO3を堆積した後、非晶質のBiFeO3からなる膜を、酸素及びアルゴンの中より選択された雰囲気の中で、加熱温度を500℃とした条件で1時間以上処理するようにした。この結果、本発明によれば、スパッタ法により、良質なBiFeO3膜を直接シリコン基板の上に形成できるようなるという優れた効果が得られる。
以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。図1は、本発明の実施の形態におけるBiFeO3膜形成方法を説明するための工程図である。まず、図1(a)に示すように、例えば単結晶シリコンからなり、主表面が清浄化された基板101を用意する。次に、図1(b)に示すように、基板101の上に膜厚200nm程度のBiFeO3の結晶からなるBiFeO3結晶膜102が形成された状態とする。
ここで、BiFeO3結晶膜102の形成は、主として、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いたECRプラズマスパッタ法により行う。このような酸化膜の形成方法として最も一般的なのはRFスパッタ法であるが、薄膜表面へ高エネルギー陰イオンが入射するために、薄膜内に多くの欠陥が生成することが問題点として指摘されている。この欠点を克服した成膜法として電子サイクロトロン共鳴(ECR)プラズマスパッタ法がある。ECRプラズマスパッタ法では円筒型のターゲットを用いるため、対向型スパッタと同様な成膜環境を実現でき、低損傷なプロセスを実現できる。
また、ECRプラズマスパッタ法によれば、ガス分子の励起効率が高いため、酸素ガスを導入した場合には高密度の酸素ラジカルが生成する。BiFeO3は酸素原子の層と金属原子の層が交互に積層した構造を形成している。ECRプラズマスパッタ法においては酸素の原子層を完成するのに十分な数の酸素原子が成長表面へ供給されるので、このような酸化物膜の形成に適した手法であると言える。基板を加熱した状態で成膜すれば、順次結晶層が形成される。
また、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットとしては、Bi2O3:Fe2O3=1.1:1の割合で原料を混合して焼結したBi1.1FeO3ターゲットを用いるとよい。このようなBi過剰のターゲットを用いるのは、Feに比べてBiの方が抜け易く、パイロクロア相が形成されやすい点を緩和するためである。上記ターゲットを用い、スパッタリングガスとしてキセノンを用い、かつ、酸素分圧1.3〜6.5×10-3Paで酸素を導入し、基板加熱温度460℃〜480℃とした条件で、BiFeO3結晶膜102のスパッタ成膜を行えばよい。
次に、本発明の実施の形態における他のBiFeO3膜形成方法について説明する。図2は、本実施の形態におけるBiFeO3膜形成方法を説明するための工程図である。まず、図2(a)に示すように、例えば単結晶シリコンからなり、主表面が清浄化された基板101を用意する。次に、図2(b)に示すように、基板101の上に非晶質のBiFeO3からなる非晶質層112が形成された状態とする。非晶質層112は、例えば膜厚200nm程度に形成する。
ここで、非晶質層112の形成は、前述同様に、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いたECRプラズマスパッタ法により行えばよい。また、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットとしても、前述同様に、Bi2O3:Fe2O3=1.1:1の割合で原料を混合して焼結したBi1.1FeO3ターゲットを用いればよい。上記ターゲットを用い、スパッタリングガスとしてアルゴンを用い、かつ、酸素分圧1.3×10-3Paで酸素を導入し、基板加熱をしない条件で、非晶質層112のスパッタ成膜を行えばよい。ECRプラズマスパッタ法では、よく知られているように、基板加熱をしなくても、ECRプラズマの照射により基板表面の温度が150℃程度にまで上昇するが、この温度では、Bi1.1FeO3の結晶化は起こらない。
次に、非晶質層112が形成されている基板101に対し、酸素あるいはアルゴンの雰囲気中で、1時間・500℃程度の加熱処理を行い非晶質層112を結晶化させる。このことにより、図2(c)に示すように、基板101の上に膜厚200nm程度のBiFeO3の結晶からなるBiFeO3結晶膜102が形成された状態が得られる。
以上に示した本実施の形態におけるBiFeO3膜形成方法によれば、大面積成膜が可能で、生産性にも優れるスパッタ法を用い、PLD(パルスレーザー堆積)法と同様に単一相のBiFeO3膜を容易に得られるようになる。この結果、本実施の形態の方法によれば、強誘電体メモリの製造の上において非常に有利である。また、上述した本実施の形態における方法によれば、ゾルゲル法のような溶媒プロセスを用いることなくドライプロセスにより成膜できるため、膜の厚さや形成するパターンの幅などなどの制御がより容易であり、デザインルール面からもメリットが大きい。
ところで、BiFeO3結晶膜102の形成では、前述した組成のBi1.1FeO3ターゲットに加え、Bi2O3ターゲットとの2つのターゲットを用いることで、形成される結晶膜におけるBi原子の不足を補うことができるようになる。このように、2つのターゲットを用いたスパッタによるBiFeO3結晶膜102の形成や、上述した非晶質層112の形成、結晶化の加熱によるBiFeO3結晶膜102の形成は、例えば、図3に概略構成を示す成膜装置を用いることで、同一の装置内で連続して行うことが可能である(特許文献1
参照)。
参照)。
図3に示す成膜装置について簡単に説明すると、図示しない真空排気装置が連通した真空処理室301と、真空処理室301の内部に設けられたECRプラズマ源302と、ECRプラズマ源302より生成されたECRプラズマによるスパッタを行うためのビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲット(BiFeO3ターゲット)303とを備える。ECRプラズマ源302を動作させ、キセノンガスやアルゴンガスなどの希ガスを用いてECRプラズマを生成し、円筒型のBiFeO3ターゲット303にRFを印加することでBi,Fe,及びO原子がスパッタされ、これらが下流に位置する基板Wの表面に付着する。
また、図3に構成を示す成膜装置は、マグネトロンプラズマ発生部304と、マグネトロンプラズマ発生部304により生成されたプラズマによりスパッタを行うためのビスマスと酸素とからなる焼結体のターゲット(Bi2O3)ターゲット305とを備え、これらが、導入部306により真空処理室301に接続されている。マグネトロンプラズマ発生部304によりアルゴンガスのプラズマを生成し、円板状のBi2O3ターゲット305にRFを印加することで、Bi2O3ターゲット305のBi及びO原子がスパッタされ(RFマグネトロンスパッタ)、これらが下流に位置する基板Wの表面に付着する。
これらの構成により、BiFeO3ターゲット303よりスパッタされて飛び出た粒子と、Bi2O3ターゲット305よりスパッタされて飛び出た粒子とが、真空処理室301の内部に配置された処理対象の基板Wの膜形成面に堆積することが可能となる。Bi2O3は、減圧された真空処理室201(成膜雰囲気)に蒸発しやすく、形成されているBiFeO3膜におけるBi(Bi2O3)不足を招くことになる。この不足が、Bi2O3ターゲット305を用いたRFスパッタにより補うことができる。また、真空処理室301には、酸素などの酸化ガスを導入するガス導入口307を備えている。なお、図3では、アルゴンなどのスパッタガスの導入については省略している。加えて、図3に構成を示す成膜装置は、基板Wを加熱する加熱機構308を備えている。
上述した構成の成膜装置によれば、ECRプラズマ源302及びBiFeO3ターゲット303とマグネトロンプラズマ発生部304及びBi2O3ターゲット305と用い、加えて加熱機構308による加熱を行うことで、基板の上にBiFeO3結晶膜102を形成することができる。例えば、酸素分圧5×10-3Pa、ECRプラズマ生成のためのマイクロ波のパワーは500W、BiFeO3ターゲット303に印加するRFパワーは500W、Bi2O3ターゲット305に印加するRFパワーは80W、基板温度条件470℃の条件で、膜厚200nm程度にBiFeO3結晶膜102を形成(堆積)すればよい。
また、上述した構成の成膜装置を用い、まず、ECRプラズマ源302及びBiFeO3ターゲット303を用いることで、非晶質層112が形成できる。例えば、酸素分圧1.3×10-3Pa、ECRプラズマ生成のためのマイクロ波のパワーは500W、BiFeO3ターゲット303へ印加するRFパワーは500W、基板加熱はしない条件で、膜厚200nm程度に非晶質層112を形成(堆積)する。引き続いて、各ガスの供給を停止し、マイクロ波(及びRF)の投入を停止した状態で、加熱機構308による加熱を行えば、非晶質層112を結晶化してBiFeO3結晶膜102とすることができる。また、これらの成膜において基板Wを回転させることにより、得られる薄膜の膜厚の均一性を確保することができる。
なお、BiFeO3結晶膜102及び非晶質層112の形成では、一定流量の酸素ガスをガス導入口307より真空処理室301の内部に導入し、導入した酸素を生成されているプラズマで励起し、励起された酸素が形成されている膜に取り込まれるようにする。BiFeO3などの酸化物の膜をスパッタ法で形成する場合、薄膜へ取り込まれる酸素原子が不足気味になるため、上述したように酸素を導入して膜中の酸素含有量を調節する。
ところで、一般にECRプラズマスパッタ法を用いる方が、RFマグネトロンスパッタ法よりも低ダメージで、高品質な薄膜を得ることができる。従って、ECRプラズマスパッタ源を2基搭載し、BiFeO3ターゲットとBi2O3ターゲットとの2つのターゲットを用いることができれば理想的である。しかしながら、2つのECRプラズマスパッタ源を隣接配置して同時に動作させると、磁場が相互に干渉するため、2基のスパッタ源について同時にECR条件を満足させることが容易ではない。このため、前述したように、Bi2O3ターゲットの方は、RFマグネトロンスパッタ法を適用するとよい。また、Bi2O3ターゲットからのスパッタは、正確な組成の合わせ込みを目的としており、大きなスパッタ速度を必要としない。このため、RFマグネトロンスパッタ法を用いても、可能な範囲で小さな出力(プラズマパワー)とした状態で、Bi2O3ターゲットをスパッタすれば、高品位なBiFeO3膜の形成が可能である。
次に、上述したBiFeO3膜の形成についてより詳細に説明する。BiFeO3膜の成膜における最大の問題点は、パイロクロア相(Bi2Fe4O9)が同時に形成されやすいことである。Bi2Fe4O9は強誘電性を示さず、これが膜中に多く含まれるとリーク電流が大きくなるので、BiFeO3単相膜が望ましい。以下では、パイロクロア相の形成を抑制してBiFeO3単相膜が形成される条件について考察する。
はじめに、ヒータなどでシリコン基板を加熱した状態でスパッタ成膜することで、BiFeO3結晶膜を形成する場合について、実験の結果とともに説明する。行った実験においては、Bi2O3:Fe2O3=1.1:1の割合で原料を混合して焼結したBi1.1FeO3ターゲットを用いた。このようなBi過剰のターゲットを用いるのは、Feに比べてBiの方が抜け易く、パイロクロア相が形成されやすい点を緩和するためである。
まず、スパッタリングガスとしてキセノンを用い、酸素流量を1sccm,3sccm,10sccmとし、これら各酸素流量において、基板温度を変更したときの各基板温度条件におけるω−2θスキャンX線回折パタンを観察した。図4,図5は、酸素流量10sccmの場合を示し、図5,6は、酸素流量3sccmの場合を示し、図7は、酸素流量1sccmの場合を示している。なお、形成したBiFeO3膜の膜厚は200nmとした。
酸素流量1sccmの場合、図7に示すように、380℃ではまだ結晶化していない。図6及び図1に示すように、3sccmの380℃及び10sccmの380℃のパタンには回折ピークが見られるが、ピークの形状が裾を引いていることから、結晶性がまだ良好でないことを示している。よって結晶化には少なくとも420℃の基板温度が必要なことが分かる。
また、図4に示すように、10sccmの420℃では、BiFeO3からの(100)ピークが2θ=22.4°に、また(110)回折ピークが2θ=31.8°に見えるものの、440℃になるとパイロクロア相Bi2Fe4O9からの(121)回折ピーク(20=28.0°)と(211)回折ピーク(2θ=29.0°)、及びBi2O3からの(311)回折ピーク(2θ=33.0°)が趨勢になっている。33.0°はシリコン基板からの(002)ピークが重なる位置にあるが、アニール温度を変えると、33.0°のピーク強度は大きく変動するので、Bi2O3の存在が明らかである。
また、図6に示すように3sccmの場合は、420℃及び440℃ともに、図8に示すようにlsccmの場合は420℃で、BiFeO3からの回折ピークが消滅している。しかし460℃では、全酸素流量に対して、BiFeO3からの回折ピークが再び出現している。このことは、420℃〜440℃の温度範囲において、BiFeO3が反応式「3BiFeO3→Bi2Fe4O9+Bi2O3」に従って相分離しやすいことを示している。従ってこの温度範囲はプロセス上避けなければならない。
次に、成膜時の基板温度が高すぎる場合、例えば、図5及び図7に示すように、10sccmの530℃及び3sccmの530℃では、一転して回折ピークが全く見られなくなっている。これは、成膜時の基板温度がBi2O3の揮発温度を超えたために、スパッタにより形成されている膜中からBiの多くが再蒸発し、しかも、温度条件530℃では、まだBiが少量含まれた酸化鉄の結晶化温度に至っていないからであると解釈できる。温度条件が560℃になると、再びピークが出現するが、これらはBiFeO3結晶の位置とは全く異なっている。以上からBiFeO3結晶が生成する温度範囲は460℃〜510℃であり、この温度条件の中で、特にBi2Fe4O9(パイロクロア相)の割合が低い温度は460℃〜480℃の間であることが判明した。
次に、基板温度を460℃に固定したときの各酸素流量に対するX線回折パタンを図9に示す。1sccmは酸素分圧1.3×10-3Paに対応している。図9に示すように、酸素流量0.5sccmではBiFeO3の回折ピークが見られないが、1sccmから10sccmの範囲でBiFeO3が主成分になっている。Bi2Fe4O9に対してBiFeO3の割合が特に高くなるのは、酸素流量3sccmのときで、酸素流量を1sccm〜5sccmの範囲に設定すれば、BiFeO3成分の割合が大きな膜が得られる。実際、図4、及び図5の結果から分かるように、10sccmの場合にはBiFeO3のピークはそれほど強くない。
以上の結果から、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いたECRスパッタ法により、基板温度460℃〜480℃、酸素分圧1.3〜6.5×10-3Paの条件でスパッタ成膜すると、BiFeO3を主成分とする結晶膜が得られることが分かった。
次に、シリコン基板の上に、300℃以下の基板温度条件で非晶質のBiFeO3膜を形成した後に、アニールすることで結晶化する場合について、実験の結果とともに説明する。この場合においても、行った実験においては、Bi2O3:Fe2O3=1.1:1の割合で原料を混合して焼結したBi1.1FeO3ターゲットを用いた。このようなBi過剰のターゲットを用いるのは、Feに比べてBiの方が抜け易く、パイロクロア相が形成されやすい点を緩和するためである。
以下では、300℃以下の基板温度で非晶質BiFeO3膜を堆積した後、これをアニールして結晶化したときのX線回折パタンの観察結果について示す。なお、非晶質膜の堆積中の酸素流量として10sccm、3sccm、1sccmの3水準を設定し、また、アニール時の雰囲気としては、酸素雰囲気中、アルゴン雰囲気中、及び真空中(10-7Pa程度に減圧した環境)とした。
図10は、非晶質膜の堆積中の酸素流量として10sccm,アニール時は酸素雰囲気とした結果を示す。図11は、非晶質膜の堆積中の酸素流量として3sccm,アニール時は酸素雰囲気とした結果を示す。図12は、非晶質膜の堆積中の酸素流量として1sccm,アニール時は酸素雰囲気とした結果を示す。図13は、非晶質膜の堆積中の酸素流量として10sccm,アニール時はアルゴン雰囲気とした結果を示す。
また、図14は、非晶質膜の堆積中の酸素流量として3sccm,アニール時はアルゴン雰囲気とした結果を示す。図15は、非晶質膜の堆積中の酸素流量として1sccm,アニール時はアルゴン雰囲気とした結果を示す。図16は、非晶質膜の堆積中の酸素流量として10sccm,アニール時は真空中とした結果を示す。
また、図17は、非晶質膜の堆積中の酸素流量として3sccm,アニール時は真空中とした結果を示す。図18は、非晶質膜の堆積中の酸素流量として1sccm,アニール時は真空中とした結果を示す。図10は、非晶質膜の堆積中の酸素流量として10sccm,アニール時は酸素雰囲気とした結果を示す。
まず酸素雰囲気中でアニールをする場合、500℃で10minのアニール条件では、いずれの堆積(成膜)条件でも、回折ピークが裾を引いているため、結晶化が不十分なことが分かる(図10,図11,図12)。これらのことより、最低限でも500℃でlhのアニールが必要であることが分かる。アニール温度の条件が500℃以上であれば、アニール温度が高くなってもさほどピーク強度は増大しない。また成膜時の酸素流量が大きくなるに連れて、BiFeO3成分のピーク強度は減少している。1sccmのときが最もBiFeO3成分のピーク強度が大きい。500℃でlhもしくは470℃で3hのアニールの場合、ほぼBi2Fe4O9相の生成を抑制することができる。
よく知られているように、酸素流量0.5sccmで成膜すると、酸素は明らかに不足する。従って、1sccm(酸素分圧1.3×10-3Pa)で成膜し、470℃〜500℃の温度範囲でアニールすることによりBiFeO3単相膜を得ることが可能である。ただし、470℃では3hという長時間のアニールが必要であり、現実的でない。
次に、アルゴン雰囲気中アニールの場合、各条件でそれほど顕著な違いは見られない(図13,図14,図15)。この場合においても、500℃で10minのアニールではやはり結晶化は不十分であるが、500℃でlhのアニールでは(110)ピークが強く、Bi2Fe4O9相のピークも非常に小さい。アルゴン雰囲気中の加熱処理による結晶化処理では、500℃でlhのアニール条件が最適である。
次に、真空中アニールの場合には、酸素雰囲気中あるいはアルゴン雰囲気中アニールに比べて、結晶化の速度が速い(図16,図17,図18)。いずれの成膜条件においても、500℃にて10minのアニールで十分に結晶化は完了している。このことは、真空中に置かれた試料については、原子のマイグレーションが容易なことを反映している。しかしながら、酸素雰囲気中及びアルゴン雰囲気中の場合に比べると、Bi2Fe4O9の割合が格段に小さくなる条件が見当たらない。
以上の結果を総合すると、非晶質状態のBiFeO3膜を形成した後、固相結晶化により結晶状態のBiFeO3膜を形成するには、酸素流量lsccm(酸素分圧1.3×10-3Pa)で非晶質のBiFeO3膜を形成しておき、これを酸素あるいはアルゴン雰囲気中で、500℃においてlhアニールすれば、パイロクロア相の形成を抑制し、BiFeO3単相に近い膜が得られることが判明した。以上のように、SrRuO3/SrTiO3(001)エピタキシャル基板上(非特許文献1参照)やPt基板上(非特許文献2参照)に比べると、最適な形成条件は大変狭いながらも、ECRスパッタ法により、シリコン基板の上にBiFeO3の結晶膜を得られる条件が存在することが示された。
以上の実験結果は、若干Bi過剰な組成のターゲットを用い、変更可能なパラメータ(酸素流量と基板温度)の範囲内で、最適な組成のBiFeO3結晶膜が得られていることを示している。ただし、多くの成膜処理を返すと、BiとFeのスパッタ速度の違いからくるターゲット組成の変化、あるいはエロージョンの形成(進行)などにより、成膜環境はかなり変化する。このような場合にも対応できるために、BiFeO3ターゲットを備えたECRスパッタ源に加え、図3に示したように、基板表面を見込む位置にBi2O3ターゲットを備えたRFスパッタ源を配置しておき、適切な入力パワーの設定の下で、両者からのスパッタを同時に行うことにより、適宜に最適な組成を実現することが望ましい。
101…基板、102…BiFeO3結晶膜、112…非晶質層。
Claims (3)
- ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いた電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ法により、基板温度を460〜480℃の範囲とし、酸素分圧を1.3〜6.5×10-3Paの範囲とした条件で、シリコン基板の主表面上にBiFeO3を堆積することで、前記主表面に接して結晶状態のBiFeO3からなる膜が形成された状態とする成膜工程を少なくとも備えることを特徴とするBiFeO3膜形成方法。
- ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いた電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ法により、酸素分圧を1.3×10-3Paとした条件で、シリコン基板の主表面上にBiFeO3を堆積することで、前記主表面に接して非晶質のBiFeO3からなる膜が形成された状態とする成膜工程と、
前記成膜工程の後、前記非晶質のBiFeO3からなる膜を、酸素及びアルゴンの中より選択された雰囲気の中で、加熱温度を500℃とした条件で1時間以上処理することで結晶化し、前記シリコン基板の上にBiFeO3の結晶からなる膜が形成された状態とする結晶化工程と
を少なくとも備えることを特徴とするBiFeO3膜形成方法。 - 請求項1又は2記載のBiFeO3膜形成方法において、
前記成膜工程では、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットによる電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタと、ビスマスと酸素とからなる焼結体のターゲットによるスパッタとを同時に行うことで、前記BiFeO3からなる膜が形成された状態とする
ことを特徴とするBiFeO3膜形成方法。
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2007
- 2007-05-01 JP JP2007120913A patent/JP2008274368A/ja active Pending
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