JP2008270073A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 試料の表面に集束イオンビームを照射すると共に原料ガスを供給して、表面を保護するデポジション膜を形成する保護工程と、
   前記集束イオンビームを利用して、一方向に向かってライン状に延びる補正用マークを前記デポジション膜に形成するマーク形成工程と、
   前記補正用マークを横切るように前記集束イオンビームを照射しながら前記デポジション膜及び前記試料をエッチング加工して、デポジション膜及び試料の断面を露出させる露出工程と、
   露出した前記デポジション膜及び前記試料の断面に荷電粒子ビームを照射すると共に、該照射によってデポジション膜及び試料から放出された二次荷電粒子に基づいて断面像を取得する取得工程と、
   前記露出工程及び前記取得工程を所定回数繰り返し行って、前記一方向に向かって前記断面像を連続的に複数枚取得する繰り返し工程と、
   前記マーク形成工程時に形成した補正用マークを構築するように、前記断面像に写り込んだ補正用マークを基準にして、前記複数枚の断面像を取得した順番に重ね合わせて基礎三次元画像を構築する構築工程と、を行うことを特徴とする三次元画像構築方法。
2. 請求項１に記載の三次元画像構築方法において、
   前記構築工程後、前記基礎三次元画像から前記デポジション膜の三次元画像を除去して、前記試料の三次元画像だけを抽出する抽出工程を行うことを特徴とする三次元画像構築方法。
3. 請求項１又は２に記載の三次元画像構築方法において、
   前記露出工程の際、前記集束イオンビームを照射する前に、前記補正用マークを基準として照射位置を補正することを特徴とする三次元画像構築方法。
4. 請求項１から３のいずれか１項に記載の三次元画像構築方法において、
   前記取得工程の際、前記荷電粒子ビームを照射する前に、前記補正用マークを基準として照射位置を補正することを特徴とする三次元画像構築方法。
5. 請求項１から４のいずれか１項に記載の三次元画像構築方法において、
   前記マーク形成工程の際、前記集束イオンビームの照射により前記デポジション膜をエッチング加工することで前記補正用マークを形成することを特徴とする三次元画像構築方法。
6. 請求項１から４のいずれか１項に記載の三次元画像構築方法において、
   前記マーク形成工程の際、前記集束イオンビームの照射と同時に前記原料ガスを供給して、前記デポジション膜上にさらにデポジション膜を堆積させることで前記補正用マークを形成することを特徴とする三次元画像構築方法。
7. 請求項１から６のいずれか１項に記載の三次元画像構築方法において、
   前記マーク形成工程の際、前記補正用マークを並行に複数本形成することを特徴とする三次元画像構築方法。
8. 請求項１から７のいずれか１項に記載の三次元画像構築方法において、
   前記露出工程の際、前記補正用マークに直交するように前記断面を露出させることを特徴とする三次元画像構築方法。