JP2015533256A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. 試料中の関心の特徴部分を露出させるため、荷電粒子ビームを使用する方法であって、
   前記試料の表面で前記関心の特徴部分に隣接した位置にトレンチをミリングすること、
   ビーム誘起付着を使用して前記トレンチに材料を充填すること、
   前記関心の特徴部分を露出させるために、付着させた前記材料を通してミリングする必要がある角度から、イオン・ビームを導くことであって、前記角度は、前記表面と前記イオン・ビームの間の４５度以下の角度であること、および
   露出させた前記関心の特徴部分を観察すること
   を含む方法。
2. ビーム誘起付着を使用して前記トレンチに材料を充填することが、前記関心の特徴部分に隣接した位置に材料を付着させ、前記関心の特徴部分の上には材料を付着させないことを含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記角度は、前記表面と前記イオン・ビームの間の１０度以下の角度である、請求項１または請求項２に記載の方法。
4. 充填された前記トレンチがバルクヘッドを含み、
   前記バルクヘッドが、前記関心の特徴部分に最も近い近位縁を有し、
   前記バルクヘッドが、前記関心の特徴部分を露出させるためにイオン・ビームを導くことによって前記近位縁上のそれぞれの点が異なる深さにミリングされるように構成された、
   請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
5. 前記関心の特徴部分が同一の複数の特徴部分を含み、イオン・ビームを導くことが、前記バルクヘッドに隣接した複数の関心の特徴部分を、露出させた１つの面内の異なる深さのところに露出させる、請求項４に記載の方法。
6. 前記関心の特徴部分を露出させるために、付着させた前記材料を通してミリングする必要がある角度から、イオン・ビームを導くことが、前記関心の特徴部分の側面視を提供するために、ビーム方向に対して平行な垂直面を露出させることを含む、請求項１または請求項２に記載の方法。
7. 前記関心の特徴部分を露出させるために、付着させた前記材料を通してミリングする必要がある角度から、イオン・ビームを導くことが、前記関心の特徴部分のほぼ上面視を提供するために、水平から１０度未満でかつビーム方向に対して平行な面を露出させることを含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
8. 元の表面よりも下方の複数の深さにおける前記関心の特徴部分に関する情報を提供するため、前記関心の特徴部分を露出させるために付着させた前記材料を通してミリングする必要がある角度からイオン・ビームを導く前記ステップ、および、露出させた前記関心の特徴部分を観察する前記ステップが繰り返される、請求項７に記載の方法。
9. 第１の材料を含む試料中の関心の特徴部分を荷電粒子ビームを用いて露出させる方法であって、
   前記試料の表面で前記関心の特徴部分に隣接した位置に穴をミリングすること、
   前記穴に第２の材料を充填すること、および
   前記関心の特徴部分を露出させるために、前記第２の材料を通してミリングする必要がある角度から、イオン・ビームを導くこと
   を含み、
   前記角度は、前記表面と前記イオン・ビームの間の４５度以下の角度である、方法。
10. 前記関心の特徴部分に隣接した位置に穴をミリングすることが、前記表面に対して垂直の方向に前記穴をミリングすることを含む、請求項９に記載の方法。
11. 前記穴に第２の材料を充填することが、荷電粒子ビーム付着を使用して前記穴に充填することを含む、請求項９または請求項１０に記載の方法。
12. 前記関心の特徴部分を露出させるためにイオン・ビームを導くことが、視射角ミリングを実行することを含む、請求項９から１１のいずれか一項に記載の方法。
13. 前記視射角ミリングを実行する前に前記試料の向きを再調整すること、および
    走査電子顕微鏡を用いて前記試料を画像化すること
    をさらに含む、請求項１２に記載の方法。
14. 前記穴に充填するのに使用される前記第２の材料が、前記第１の材料のエッチング速度の３０％以内のエッチング速度を有する、請求項９から１３のいずれか一項に記載の方法。
15. 前記関心の特徴部分が高アスペクト比構造体である、請求項９から１４のいずれか一項に記載の方法。
16. 前記穴に充填するのに使用される前記第２の材料がタングステン、白金または酸化物を含む、請求項９から１５のいずれか一項に記載の方法。
17. 視射角ミリングを実行する前記ステップおよび走査電子顕微鏡を用いて前記試料を画像化する前記ステップを少なくとも一度繰り返すことをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
18. 前記試料の３次元情報を生成するために、前記試料を画像化することによって得られた情報が結合される、請求項１７に記載の方法。
19. 前記関心の特徴部分に隣接した位置に穴をミリングすることが、前記関心の特徴部分に対して斜めの近位縁を有する前記穴をミリングすることを含む、請求項９に記載の方法。
20. 試料中の関心の特徴部分を露出させるシステムであって、
    集束イオン・ビームを供給するイオン光学カラムと、
    集束電子ビームを供給する電子光学カラムと、
    前記試料から放出された２次粒子を検出する粒子検出器と、
    コンピュータ・メモリと通信するコントローラと
    を備え、前記コンピュータ・メモリが、
    前記試料の表面で前記関心の特徴部分に隣接した位置に穴をミリングする命令、
    荷電粒子ビーム付着を使用して前記穴に第２の材料を充填する命令、
    前記関心の特徴部分を露出させるために、付着させた前記第２の材料を通してミリングする必要がある角度から、イオン・ビームを導く命令であり、前記角度は、前記表面と前記イオン・ビームの間の角度であり、付着させた前記第２の材料を通してミリングすることが、視射角ミリングを実行すること、および前記視射角ミリングを実行する前に前記試料の向きを再調整することを含む命令、ならびに
    走査電子顕微鏡を使用して前記試料を画像化する命令
    を記憶している
    システム。