JP2008263219A - 半導体集積回路および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 電源の正極が接続されるべき第1の端子と、前記電源の負極が接続されるべき第2の端子と、前記第1及び第2の端子の間に接続されており、前記電源の電力の供給を受けて駆動する負荷と、前記負荷に供給する電力を制御するNMOSトランジスタと、を有する。さらに、前記NMOSトランジスタは、前記第2の端子と前記負荷の間に接続されており、前記NMOSトランジスタのゲート電極及び基板電極には、前記第1の端子の電圧に基づいた電圧が印加されている。さらに、前記NMOSトランジスタは、SOI−MOSトランジスタである。
【選択図】 図1
Description
Cのチップ面積の増大を招くだけでなく、電源101を逆接続した際の消費電流も増大する。
上記構成することで、前記第1の手段よりも、前記ICの面積がさらに縮小でき、前記電源の逆接続時の消費電流を低下することができる。
流れ、前記SOI−PMOSのドレインからの電流は、前記SOI−PMOSのドレインを介してソースへと流れる構成とし、前記SOI−PMOSのゲートと前記SOI−NMOSのゲートは、電気的に接続されていることを特徴とする電子機器とした。
場合に、前記MOSトランジスタのゲート電極には、前記MOSトランジスタをOFFする電圧が印加されており、前記MOSトランジスタは、SOI−MOSトランジスタであることを特徴とする。
先ず、本発明で用いるSOI−MOSの構造から説明する。本発明で用いるSOI−MOSの構造は、図5に示すように、P型導電型あるいはN型導電型の支持基盤308の上に埋め込み酸化膜505を設け、埋め込み酸化膜505の上のシリコン層を部分的に酸化することでLOCOS307を形成する。また、LOCOS307は、埋め込み酸化膜505と完全に接触しており、これにより、LOCOS307に囲まれた前記シリコン層は、他の前記シリコン層と電気的に分離することができる。そして、おのおのが電気的に分離された各シリコン層に、SOI−PMOS105ないし、SOI−NMOS205を形成する構成である。つまり、SOI構造を用いることにより、従来のMOSのようにウェルを形成しなくとも、容易に素子間分離ができる。
板や第1基板領域や第2基板領域の電圧を、各々の領域と電気的に接続されるシリコン層に別々の出電位を与えることで、別々に設定できる。従って、前記各領域の真上に位置する各SOI−MOSの特性を別々にコントロールできる。
プSOI−PMOSに比べ、上記本発明の第2に実施の形態で逆流防止トランジスタとして使用した部分空乏タイプSOI−NMOS方が、駆動能力が4倍程度大きく、しかも、同じ駆動能力に対するオフリークが減少する。従って、上記本発明の第2の実施の形態では、前記した本発明の第1の実施の形態の効果に加え、前記逆流防止トランジスタを少ない面積で構成できるので、前記逆流防止トランジスタと前記負荷を同一基板上に作成したICの面積を小さくできるし、前記逆流防止トランジスタのオフリークが少なくできるので、電源を逆接続した際の消費電流が低減できる効果がある。
プラス端子106に、完全空乏タイプSOI−PMOS305のソースないしドレインを接続し、完全空乏タイプSOI−PMOS305のゲートは、マイナス電極103に接続し、基板は、ゲートに接続され、負荷104のマイナス端子107はマイナス電極103に接続され、プラス電極102とマイナス電極103の間に電源101を接続する構成である。
続された構成である。
なお、電源101は、電池等の逆接続の可能性がある電源でも良いし、熱発電素子の様に、温度差等の自然エネルギーの与えられ方によって、発電電力の極性が変化するような自然エネルギー発電素子の場合、前記自然エネルギー発電素子が発電する電力の内従来利用できなかった逆極性の電力も利用可能となるので、前記自然エネルギー発電素子の発電電力で効率良駆動する回路が実現できる。
102 プラス電極
103 マイナス電極
104 負荷
105 部分空乏タイプSOI−PMOS
106 負荷のプラス端子
205 部分空乏タイプSOI−NMOS
305 完全空乏タイプSOI−PMOS
405 完全空乏タイプSOI−NMOS
701 アナログ回路
702 デジタル回路
801 第1の回路
802 第2の回路
Claims (7)
- 電源の正極が接続されるべき第1の端子と、
前記電源の負極が接続されるべき第2の端子と、
前記第1の端子に接続された、前記電源の電力の供給を受けて駆動する負荷と、
前記負荷と前記第2の端子の間に接続され、ゲート及び基板領域に前記第1の端子の電圧に基づいた電圧が印加された、前記負荷に供給される電力を制御するNMOSトランジスタと、を有し、
前記NMOSトランジスタは、前記基板領域とは異なる導電型の支持基板上に設けられたSOI−MOSトランジスタであることを特徴とする半導体集積回路。 - 電源の正極が接続されるべき第1の端子と、
前記電源の負極が接続されるべき第2の端子と、
前記第2の端子に接続された、前記電源の電力の供給を受けて駆動する負荷と、
前記負荷と前記第1の端子の間に接続され、ゲート及び基板領域に前記第2の端子の電圧に基づいた電圧が印加された、前記負荷に供給される電力を制御するPMOSトランジスタと、を有し、
前記PMOSトランジスタは、前記基板領域とは異なる導電型の支持基板上に設けられたSOI−MOSトランジスタであることを特徴とする半導体集積回路。 - 前記SOI−MOSトランジスタは、完全空乏タイプであることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体集積回路。
- 前記負荷は、前記支持基板上に形成された完全空乏タイプのSOI−MOSトランジスタを備えていることを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路。
- 請求項1から4のいずれかに記載の半導体集積回路を有することを特徴とする電子機器。
- 電源の正極が接続されるべき第1の端子に接続された前記電源の電力の供給を受けて駆動する負荷と、
前記電源の負極が接続されるべき第2の端子と前記負荷との間に接続され、ゲート及び基板領域に前記第1の端子の電圧に基づいた電圧が印加された、前記負荷に供給される電力を制御するNMOSトランジスタと、を有し、
前記NMOSトランジスタはSOI−MOSトランジスタであることを特徴とする電子機器。 - 前記電源の負極が接続されるべき第2の端子に接続された前記電源の電力の供給を受けて駆動する負荷と、
電源の正極が接続されるべき第1の端子と前記負荷との間に接続され、ゲート及び基板領域に前記第2の端子の電圧に基づいた電圧が印加された、前記負荷に供給される電力を制御するPMOSトランジスタと、を有し、
前記PMOSトランジスタはSOI−MOSトランジスタであることを特徴とする電子機器。
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