JP2008263185A - 半導体集積回路 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】多層メタル配線層と、スタンダードセル11と、PMOSトランジスタM1及びNMOSトランジスタM2を含んだフィラーセル61と、を備える半導体集積回路において、フィラーセル61は、PMOSトランジスタとNMOSトランジスタM2のレイアウト形状をそのままにして、前記PMOSトランジスタM1のゲート端子とドレイン端子とソース端子、及び、NMOSトランジスタM2のゲート端子とドレイン端子とソース端子の接続を、多層メタル配線層の配線の修正で変更可能なレイアウトパターンを備える。
【選択図】図13
Description
また、集積回路のレイアウト設計段階における仕様変更、製造工程における動作試験での動作不良の発見、論理回路のミスや動作周波数の変更等による理由で、論理回路の修正やタイミング調整のため新たなゲートの追加を行なわなければならない場合がある。
一方、動作周波数の高速化、前述のようなプロセスの複雑化に伴う複雑な寄生抵抗及び寄生容量により、半導体回路の設計がますます困難になってきている。そのため、特許文献2に開示されるように、スタンダードセルと呼ばれる、あらかじめ用意したセルを配置配線する方式により、この問題に対応するためのバッファセル(ディレイセル)を用いることも公知の手法となっている。
また、前記セルを配置しない領域においてはフィラーセルと呼ばれる、ゲート容量を利用したデカップリングコンデンサが挿入されたり、あらかじめ修正用のリペアセルを配置したりするのが一般的である。また、これらのスタンダードセルやフィラーセルのレイアウトは前記自動配置配線ツールにて配置する制約上、同一の高さ又は基本高さの整数倍のものとなっている。
さらに、LSIの製造技術の進歩により、ゲートアレイ方式とスタンダードセル方式とを融合させたエンベデッド・アレイ・セル方式の半導体集積回路が開発されている。この方式は、半導体集積回路中の一部の回路又は全ての回路を複数の機能ブロック内に、例えば、予め設計されたアナログブロック等のマクロブロックか新しく設計されたスタンダードセル方式ブロック内に組み込んで、各機能ブロックを半導体チップ上に配置し、各機能ブロック外はゲートアレイ領域と定めておく。そして、機能ブロックに収納された回路以外の回路の生成と、機能ブロック外の配線とはゲートアレイ領域で行なって、半導体集積回路を造り上げようとするものである。従って、これらの方式では、機能ブロック外の領域で任意に回路を生成できるので製造の配線工程の前までなら、回路の追加・修正を比較的簡単に行なうことができるという利点がある。
一方、半導体集積回路内の各セルを同期して駆動させるクロック信号の周波数も増大されてきている。半導体集積回路の動作速度は、各セルに到達するクロック信号の位相差であるクロックスキューによって制約され、同様に、システム全体の動作速度は、各半導体集積回路間のクロックスキューによって制約される。そして、半導体集積回路の高集積化によって、クロック信号で駆動されるフリップフロップ等のセルの数が多くなるとともに、各機能ブロックに供給されるクロック信号も互いに同期をとらなければならないので、クロック信号を各セルに供給するための配線方式は益々重要になってきている。
また、特許文献1に開示されるように、金属配線下に回路修正に使用するための追加用トランジスタをあらかじめ配置しておく構造とするなどの対策をとることにより、比較的容易に回路修正を行なうレイアウト方法もある。
また、前記マスタースライス方法ではレイアウト完了後に回路修正のため新たにトランジスタを追加しなければならず利用しにくいという問題がある。
更に、特許文献1に記載の技術のようにPMOSトランジスタとNMOSトランジスタの未接続ゲート電極が、同一のゲート電極として接続されていると、回路の追加修正を行なう際にPMOSトランジスタ、NMOSトランジスタをそれぞれ分離できないと問題がある。
そこで本発明は、マスク修正等を行なわず、簡単な処置で回路の追加修正を行なえる半導体集積回路を提供することを目的とする。また本発明は、製造の配線工程前までに、回路のタイミング修正を行なえる半導体集積回路を提供することを目的とする。
請求項2の発明は、請求項1に記載の半導体集積回路において、前記フィラーセルは、前記多層メタル配線層の配線の修正によってバッファセルに変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項3に記載の半導体集積回路において、前記フィラーセルは、前記多層メタル配線層の配線の修正によりインバータセルの駆動能力を変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする。
請求項5の発明は、請求項1に記載の半導体集積回路において、前記フィラーセルは、前記多層メタル配線層の配線の修正によりスイッチセルに変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする。
請求項6の発明は、請求項1に記載の半導体集積回路において、前記フィラーセルは、前記多層メタル配線層の配線の修正によりNANDセルに変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする。
請求項8の発明は、請求項3乃至請求項7のいずれか一項に記載の半導体集積回路において、複数のフィラーセルを備え、前記多層メタル配線層の配線の修正によりEXNORセルに変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする。
請求項9の発明は、請求項1に記載の半導体集積回路において、前記フィラーセルの幅及び高さは、前記スタンダードセルの基本高さ及び基本幅内に配置可能なものとしたことを特徴とする。
請求項10の発明は、請求項9に記載の半導体集積回路において、前記フィラーセルは、水平方向の電源配線及びGND配線と、垂直方向の電源配線及びGND配線とが交差する領域に配置することを特徴とする。
請求項12の発明は、請求項11に記載の半導体集積回路において、前記フィラーセルは、前記PMOSトランジスタまたはNMOSトランジスタの、ゲート端子の配線抵抗と、ゲート端子及びゲート酸化膜と基板との結合容量を用いることを特徴とする。
請求項13の発明は、請求項11に記載の半導体集積回路において、前記フィラーセルは、前記PMOSトランジスタまたはNMOSトランジスタの、ソース端子とドレイン端子間抵抗と、ゲート端子及びゲート酸化膜と基板との結合容量を用いることを特徴とする。
請求項14の発明は、請求項13に記載の半導体集積回路において、前記フィラーセルのゲート端子入力電圧を設定できる電圧設定手段を備えることを特徴とする。
請求項15の発明は、請求項13に記載の半導体集積回路において、前記フィラーセルのゲート端子のオンオフを設定できるオンオフ設定手段を備えることを特徴とする。
また、請求項2乃至請求項8に記載の本発明によれば、半導体集積回路において、フィラーセルは、インバータセル、スイッチセル、NANDセル、NORセル、EXNORセルに変更可能なものであるので、半導体集積回路のレイアウト完成後において、さまざまな論理修正や、タイミング調整を行える他、フィラーセルを電源間のデカップリングコンデンサとして機能させることができ、この場合には、電源ノイズを低減することが可能となる。
そして、請求項10に記載の本発明によれば、フィラーセルを電源への電力供給及びGND接続の自由度が高く、フィラーセル修正の自由度を高いものとすることができる。
また、請求項14又は請求項15に記載の本発明によれば、半導体集積回路において、半導体集積回路のレイアウト完成前及び完成後において設定手段によりディレイセルのタイミング調整を行えることができ、タイミング調整を任意に設定することが可能となる。
まず半導体集積回路の概略について説明する。
図1は半導体集積回路を形成する基板上での機能ブロックの配置状態を示す図である。なお、本図では、信号配線やスタンダードセルは図示していない。
半導体基板10には、例えば、半導体集積装置のパッケージピン(図示しない)と接続される入出力セル(IOセルとも呼ぶ)2が囲うように配置されている。
機能ブロックA、B、Cや、後述するスタンダードセル、フィラーセル等はスタンダードセル配置領域12内に配置される。
一般に、半導体集積回路の基板10上において、スタンダードセル11は、タイミング調整に用いられるバッファセル(BUF)及びディレイセル(DLY)14、信号の論理反転に用いられるインバータセル(INV)や信号の論理を決定するナンドゲートセル(NAND)やノアゲートセル(NOR)などの論理セル15、また信号状態を保持するためのフリップフロップセル(FF)16等で構成されている。また、スタンダードセル11のレイアウト幅寸法、高さ寸法は、所定の基本の幅寸法、高さ寸法の整数倍(図2中x1幅、x2幅等で表記、例えば、x2幅は基本幅の2倍を示す)である。
またスタンダードセル11は、基板10上に設けられたスタンダードセル配置領域12にはめ込むように配置される。上述のBUFセル及びDLYセル14やNAND等論理セル15、FF16が配置されない空き領域には、上述の通り、デカップリングコンデンサとしてフィラーセル17が配置される。
また一般にスタンダードセル11は次段のスタンダードセル11を駆動するための駆動能力が定義されており、例えば、バッファセルのうち、ある駆動能力をx1としてBUFx1、2倍の駆動能力を持つバッファセルをBUFx2と名称付けすることもある。
ここでスタンダードセル11は、交互に配線された水平方向の電源配線Vhと水平方向のGND配線Ghに合わせるように、垂直方向に反転させて配置されている。垂直方向の電源配線Vvと垂直方向のGND配線Gvは、最下層のメタル配線層よりも上位のメタル配線層を用いて、水平方向の電源配線VhとGND配線Ghと交差するように配線される。また、水平方向−垂直方向の電源配線及びGND配線の交差する部分はスルーホール13で接続される。さらに、図示していないが、前記電源配線Vh及びVv及びGND配線Gh及びGvは半導体集積回路の基幹電源配線や電源電位を入力するためのIOセルなどに接続される。
第1の実施形態に係る半導体集積回路では、スタンダードセル11が配置されていないスタンダードセル配置領域12の空き領域に、必要に応じて論理修正やタイミング調整が行なうことのできるリペアセルをあらかじめ配置しておく。そして、前記多層メタル配線層の修正により前記インバータセルや前記ナンドゲートセル等に変更する。
以下リペアセルのレイアウト構成について説明する。
まず、半導体集積回路に配置されるリペアセルの基本的なレイアウト構成について説明する。図4は半導体集積回路のリペアセルの基本的なレイアウト構成を示す図であり、(A)はリペアセルのレイアウト例を示す模式図、(B)はリペアセルの回路図である。
本例に係るリペアセル21は、公知であるPMOSトランジスタ(図中M1)とNMOSトランジスタ(図中M2)とを備えている。PMOSトランジスタM1とNMOSトランジスタM2のゲート電極22(例えばポリシリコンで形成される)は、それぞれ個別に接続できるようにPchゲート端子23とNchゲート端子24として分離されている。基板10はp型基板としているため、PMOSトランジスタM1はN−Well25及びP拡散26により形成され、Pchドレイン端子27とPchソース端子28は図中斜線の第1のメタル配線層(最下層のメタル配線層)とコンタクト29で接続されている。
電源配線Vh及びGND配線Ghは、図2に示した電源配線Vh、GND配線Ghと同様のものである。図4(B)に示しているPMOSトランジスタM1及びNMOSトランジスタM2の基板電位(図中点線)は、一般に電源配線Vh、GND配線Ghの下にそれぞれN拡散、P拡散を形成し、前記コンタクトにより接続されているため、図4(A)では図示していない。またスタンダードセル11の基板電位についても上述のように電源配線Vh、GND配線Ghの下に形成されている。
基板10にリペアセル21を配置した場合、PMOSゲート端子23、NMOSゲート端子24が未接続(フローティング)の状態になっている。このため、実動作に不具合を生じさせる可能性がある。そこでPchドレイン端子27とNchゲート端子24を電源配線Vhに接続し、Nchドレイン端子31とPchゲート端子23をGND配線Ghに接続する。これにより、PMOSトランジスタM1及びNMOSトランジスタM2はそれぞれゲート容量とした電源間デカップリングコンデンサとして機能させることが可能となる。このセルの状態をフィラーリペアセルと称し、後述するリペアセルの配置例では、このフィラーリペアセルを配置することとする。
する。図6は実施の形態に係る半導体集積回路を示す図であり、(A)はバッファセル化したリペアセルのレイアウト例を示す模式図、(B)は回路図、(C)はバッファの論理記号である。
本例では、隣接した2つのフィラーリペアセル21A、21Bでフィラーリペアセル41を構成する。フィラーリペアセル41において、第1のPchゲート端子23Aと第1のNchゲート端子24Aを互いに接続して入力端子Iとし、第2のPchドレイン端子27Bと第2のNchドレイン端子31Bを接続して出力端子Oとする。
また、PMOSトランジスタM1及びM3、NMOSトランジスタM2及びM4のトランジスタサイズ(ゲート長及びゲート幅)を、スタンダードセル11にあるバッファセルのうち上述したようなBUFx1と同様にすることにより、レイアウト後に信号線のタイミング調整を修正することが可能となる。
本例では、リペアセル21のPchゲート端子23とNchゲート端子24を互いに接続して入力端子Iとし、Pchドレイン端子27とNchドレイン端子31を接続して出力端子Oとすることによりインバータとして機能させることができ、レイアウト後の信号配線の論理反転を修正することが可能となる。
本例では、隣接した2つのフィラーリペアセル21A、21Bでフィラーリペアセル41を構成する。そして、フィラーリペアセル41の第1のPchゲート端子23Aと第1のNchゲート端子24Aと第2のPchゲート端子23Bと第2のNchゲート端子24Bを接続して入力端子Iとし、第1のPchドレイン端子27Aと第1のNchドレイン端子31Aと第2のPchドレイン端子27Bと第2のNchドレイン端子31Bを接続して出力端子Oとする。また入力端子Iと出力端子Oは配線が交差しているため、スルーホール13にてメタル層を変えて接続している。
これにより、図8(B)に示すようにPMOSトランジスタM1及びM3、NMOSトランジスタM2及びM4によって、図7に示したインバータセルの2倍のトランジスタサイズを備えるものとなる。さらにフィラーリペアセル21の接続個数を増やすことにより駆動能力を調整することができる。すなわち次段のスタンダードセルもしくは修正したフィラーリペアセルの必要駆動能力に合わせて任意に調整することが可能である。
本例ではリペアセル21のPchソース端子28とNchソース端子32を接続して入力端子Iとし、Pchドレイン端子27とNchドレイン端子31を接続して出力端子Oとし、Pchゲート端子23を入力端子A、Nchゲート端子24を入力端子Bとすることによりスイッチとして機能させることが可能となる。
本例では、隣接した2つのフィラーリペアセル21A、21Bでフィラーリペアセル41を構成する。即ち、図10(A)に示すように、各ゲート端子23A、23B、24A、24B、各ドレイン端子27A、27B、31B、各ソース端子28A、28B、32Aを接続することによりNANDゲートセルとして機能させることができる。また図示しないがNANDゲート出力端子Oに上述したインバータセルを追加することによりANDゲートセルとして機能させることが可能となる。
図11(A)のように各ゲート端子及び各ドレイン端子、各ソース端子を接続することによりNORゲートセルとして機能させることが可能となる。また図示しないがNORゲート出力端子Oに図7で示したインバータセルを追加することによりORゲートセルとして機能させることが可能となる。
このように、上述した各例(図6乃至図11)に示したさまざまな機能をなすフィラーリペアセを組み合せることにより、所望の多種多様な論理修正が可能となる。またさらには上述したバッファセルを追加することにより任意に駆動能力を選択することができる。
本例では、スタンダードセル11のレイアウト幅寸法、及び、高さ寸法は、所定の基本の幅寸法、及び、幅寸法の整数倍であり、基板10上に設けられたスタンダードセル配置領域12にはめ込むように配置される。また、フィラーリペアセル61の幅寸法及び高さも前記基本高さ寸法及び基本幅の整数倍としている。
そして、図13に示すように、フィラーリペアセル61をスタンダードセル配置領域12のうちの空いている領域に配置しておく。この例では、基板10には、12個のスタンダードセル11が配置され、その間を埋めるように多数のフィラーリペアセル61が配置される。
このように、本例によれば、スタンダードセルが配置されない領域にフィラーセルを多数配置するようにしたので、レイアウト完了後においても多く回路修正に対応する論理修正や信号のタイミング調整を行なうことができる。
なお、このフィラーリペアセル61Aは、前記インバータセルの他、必要な他の機能例えば、バッファセル、スイッチセルなど他の機能を備えたセルに変更することができる。
本例では、基板10において、リペアセル配置領域120を、図14に示すように、フィラーセルを水平方向の電源配線Vh及びGND配線Ghと、垂直方向の電源配線Vv及びGND配線Gvとが交差する領域に配置している。電源配線及びGND回路の近傍にフィラーセルを多数配置することができるので、フィラーセルへの電力供給及びGND接続の自由度が高く、フィラーセル修正の自由度を高いものとすることができる。
なお、前記リペアセル配置領域120は、スタンダードセルの電源線接続を考慮し、最下層のメタル配線層よりも少なくとも2層以上上層のメタル配線層で配線しておくことが望ましい。
第2の実施形態に係る半導体集積回路では、スタンダードセルが配置されていないスタンダードセル配置領域12の空き領域に、配線層のみの修正によりディレイセルやバッファセルへ変更可能なフィラーセル(以下、タイミングフィラーセル)をあらかじめ配置しておくことによりタイミング修正を行なう。
次に、タイミングフィラーセルのレイアウト構成及び配線変更方法について説明する。
まず、半導体集積回路に配置されるタイミングフィラーセル33の基本的なレイアウト構成について説明する。
本例に係るタイミングフィラーセル33は、公知であるPMOSトランジスタ(図中M1)とNMOSトランジスタ(図中M2)とを備えている。PMOSトランジスタM1とNMOSトランジスタM2のゲート電極22(例えばポリシリコンで形成される)は、それぞれ個別に接続できるように、Pchゲート端子23A/23Bと、Nchゲート端子24A/24Bとして分離されている。
Pchゲート端子23A及び23Bは、同一ゲート端子に対して23A及び23Bのメタル配線層との接続個所を2箇所設けている。Nchゲート端子24A及び24Bについても、前記Pchゲート端子と同様に接続個所を設けている。また前述のゲート端子は図中斜線の第1のメタル配線層(最下層のメタル配線層)とコンタクト29を設けている。
基板10はp型基板としているため、PMOSトランジスタM1はN−Well25及びP拡散26により形成され、Pchドレイン端子27とPchソース端子28は図中斜線の第1のメタル配線層(最下層のメタル配線層)とコンタクト29で接続されている。
電源配線Vh及びGND配線Ghは、図3に示した電源配線Vh、GND配線Ghと同様のものである。図15(B)に示しているPMOSトランジスタM1及びNMOSトランジスタM2の基板電位(図中点線)は、一般に電源配線Vh、GND配線Ghの下にそれぞれN拡散、P拡散を形成し、前記コンタクトにより接続されているため、図15(A)では図示していない。またスタンダードセル11の基板電位についても上述のように電源配線Vh、GND配線Ghの下に形成されている。
基板10にタイミングフィラーセル33を図16の配線で配置した場合、PMOSゲート端子23A/23B、NMOSゲート端子24A/24Bが未接続(フローティング)の状態になっている。このため、実動作に不具合を生じさせる可能性がある。そこでPchドレイン端子27とNchゲート端子24Aを電源配線Vhに接続し、Nchソース端子32とPchゲート端子23AをGND配線Ghに接続する。これにより、PMOSトランジスタM1及びNMOSトランジスタM2はそれぞれゲート容量とした電源間デカップリングコンデンサとして機能させることが可能となる。また、Pchゲート端子23Bはゲート電極22を介して23Aと、Nchゲート端子24Bはゲート電極22を介して23Aと接続されているため、それぞれの端子はフローティングにはならない。
また、このセルの状態をタイミングフィラーセルと称し、後述するタイミングフィラーセルの配置例では、このタイミングフィラーセルを配置することとする。
本例では、隣接した2つのタイミングフィラーセルでバッファセルを構成する。タイミングフィラーセル33において、第1のPchゲート端子23A−1と第1のNchゲート端子24A−1を互いに接続して入力端子Iとし、第2のPchドレイン端子27B−2と第2のNchドレイン端子31B−2を接続して出力端子Oとする。
また、PMOSトランジスタM1及びM3、NMOSトランジスタM2及びM4のトランジスタサイズ(ゲート長及びゲート幅)を、スタンダードセル11にあるバッファセルのうち上述したようなBUFx1と同様にすることにより、レイアウト後に信号線のタイミング調整を修正することが可能となる。また、タイミングフィラーセルを複数段接続することにより、BUFx1、BUFx1.5、BUFx2・・・とバッファセルの駆動能力を増やすことでタイミング調整をより細かく設定可能である。
一般に、抵抗及び容量によって遅延時間を計算する方法として、Elmore遅延モデルがある。図18に示す抵抗R及び容量Cでの入力INから出力OUTまでの遅延時間Delayは下式のように表せる。
Delay=R1*C1+R2*(C1+C2)+・・・+Rn*(C1+C2+・・・+Cn)
一般にゲート電極22に使用されるポリシリコンのシート抵抗値は数Ω〜数百Ωでメタル配線のシート抵抗値(一般に数十〜数百ミリΩ程度)に比べ大きい。
そこで本例では、タイミングフィラーセル33のPchゲート端子23Bを入力端子I、Pchゲート端子23Aを出力端子Oとし、Pchソース端子28とPchドレイン端子27を電源配線Vhに接続する。このレイアウトにより、M1のゲート電極22を抵抗として、M1のゲート電極及びゲート酸化膜(図示しない)と基板10との結合容量を容量として利用することにより、図19(B)の回路図となり、図18のモデルを利用することにより、ディレイセルとして機能させることが可能である。
本例では、M2はディレイセルとして使用せず、Nchゲート端子24Aを電源配線Vhに、Nchソース端子32及びNchドレイン端子31はGND配線Ghに接続することでフィラーセルとしての機能を残している。ちなみに、ディレイセルとして使用するトランジスタをNchトランジスタM2として、PchトランジスタM1をフィラーセルとしてもよい。
さらに図21に示すように、第1のタイミングフィラーセル33AのNchゲート端子24B−2と第2のタイミングフィラーセル33B−2のNchゲート端子24Bを接続し、第1のタイミングフィラーセル33AのPchゲート端子23Bを入力端子I、第2のタイミングフィラーセル33BのPchゲート端子23Bを出力端子Oとしてもよい。すなわち、必要に応じて複数のタイミングフィラーセルを使用し、メタル配線層のみを修正することで、タイミング調整を変更することが可能である。また入力端子Iから出力端子Oの間のPchトランジスタ及びNchトランジスタの順序は任意に変更可能である。
本例ではタイミングフィラーセル33のPchソース端子28を入力端子I、Pchドレイン端子27とNchゲート端子24Aを接続し、出力端子Oとする。また、Nchソース端子32とNchドレイン端子31及びPchゲート端子23AをGND配線Ghに接続する。このレイアウトにより、M1のドレインソース間抵抗を抵抗として、M2のゲート電極及びゲート酸化膜(図示しない)と基板10との結合容量を容量として利用することで、図22(B)のようにディレイセルとして機能させることが可能である。また、図22ではPchのドレインソース間抵抗を利用しているが、NchトランジスタM2のドレインソース間抵抗を利用し、PchトランジスタM1を容量として使用しても良い。
トランジスタのドレインソース間抵抗はゲート端子の入力電圧により変化する。すなわち、図1の半導体集積回路の内部に配置される機能ブロックにVcontに入力される電圧を任意に設定できる電圧設定手段を設けることにより、必要に応じてディレイセルのタイミング調整量を設定することが可能である。
またさらには前記電圧設定手段の代わりに、オンオフ設定手段を設け、Vcont端子に任意の入力電圧ではなく、電源電位もしくはGND電位を入力、すなわち、’1’’0’の論理を入力することにより、図23のPchトランジスタはスイッチとして動作する。その場合ディレイセルは任意にオン/オフすることも可能である。
このように、上述した各例(図15乃至図24)に示したさまざまな機能をなすタイミングフィラーセル33を組み合せることにより、所望の多種多様なタイミング遅延値への修正が可能となる、バッファセルやディレイセルにレイアウト変更ができる。またさらには上述したタイミング調整手段やタイミングオンオフ手段を半導体集積回路内部に追加することにより任意にタイミングのオンオフ及びタイミング調整量を選択することができる。
図25に示すように、タイミングフィラーセル33は、スタンダードセル配置領域12にスタンダードセルを配置した後に挿入される。ここで、スタンダードセルは、基板10のスタンダードセル配置領域12に配置される。このとき、信号のタイミングや論理、配線の混雑度等の制約条件により、スタンダードセルはその配置される場所が決定されており、前記スタンダードセル配置領域12には空き領域が生じる。タイミングフィラーセル33は図3のフィラーセル15の代わりとして、この空き領域に配置される。
本例では、スタンダードセルのレイアウト幅寸法、及び、高さ寸法は、所定の基本の幅寸法、及び、幅寸法の整数倍であり、基板10上に設けられたスタンダードセル配置領域12にはめ込むように配置される。また、タイミングフィラーセル33の幅寸法及び高さも前記基本高さ寸法及び基本幅の整数倍としている。
そして、図26に示すように、タイミングフィラーセル33をスタンダードセル配置領域12のうちの空いている領域に配置しておく。この例では、基板10には、13個のスタンダードセル(FF16や論理セル15、バッファセル14)が配置され、その間を埋めるように多数のタイミングフィラーセル33が配置される。
また、クロックツリーだけでなく、信号線111のようなFF16から論理セル15へのタイミング調整を行ないたい場合にも、信号線111の下に配置されているタイミングフィラーセル33を配線変更すればよいし、また、信号線112Aのようにタイミングフィラーセルが配置されていない場合でも、フィラーセルの代わりにタイミングフィラーセルが配置されているため、信号線112Bのように迂回する配線変更で容易にタイミング調整は可能である。
このように、本例によれば、スタンダードセルが配置されない領域にタイミングフィラーセルを多数配置するようにしたので、レイアウト完了後においても信号のタイミング調整を行なうことができる。
なお、前記タイミングフィラーセルに用いる配線層は、最下層のメタル配線層及びトランジスタを形成するポリシリコン層で形成されているため、タイミングフィラーセルを配置する前のスタンダードセル配置工程の際に、電源配線や信号線の配線層をほとんど考慮せずに配線することが可能である。
Claims (15)
- 多層メタル配線層と、スタンダードセルと、PMOSトランジスタ及びNMOSトランジスタを含み、前記PMOSトランジスタのゲート端子と前記NMOSトランジスタのドレイン端子及びソース端子の少なくとも一方の端子をGND電位に接続し、前記PMOSトランジスタのドレイン端子及びソース端子の少なくとも一方の端子と前記NMOSトランジスタのゲート端子とを電源電位に接続したフィラーセルと、を備える半導体集積回路において、
前記フィラーセルは、PMOSトランジスタとNMOSトランジスタのレイアウト形状をそのままにして、前記PMOSトランジスタのゲート端子とドレイン端子とソース端子、及び、NMOSトランジスタのゲート端子とドレイン端子とソース端子の接続状態を、前記多層メタル配線層の配線の修正で変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする半導体集積回路。 - 前記フィラーセルは、前記多層メタル配線層の配線の修正によってバッファセルに変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルは、前記多層メタル配線層の配線の修正によりインバータセルに変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルは、前記多層メタル配線層の配線の修正によりインバータセルの駆動能力を変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルは、前記多層メタル配線層の配線の修正によりスイッチセルに変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルは、前記多層メタル配線層の配線の修正によりNANDセルに変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルは、前記多層メタル配線層の配線の修正によりNORセルに変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする前記請求項1に記載の半導体集積回路。
- 複数のフィラーセルを備え、前記多層メタル配線層の配線の修正によりEXNORセルに変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする請求項3乃至請求項7のいずれか一項に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルの幅及び高さは、前記スタンダードセルの基本高さ及び基本幅内に配置可能なものとしたことを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルは、水平方向の電源配線及びGND配線と、垂直方向の電源配線及びGND配線とが交差する領域に配置することを特徴とする請求項9に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルは、前記多層メタル配線層の配線の修正によりディレイセルに変更可能なレイアウトパターンを備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルは、前記PMOSトランジスタまたはNMOSトランジスタの、ゲート端子の配線抵抗と、ゲート端子及びゲート酸化膜と基板との結合容量を用いることを特徴とする請求項11に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルは、前記PMOSトランジスタまたはNMOSトランジスタの、ソース端子とドレイン端子間抵抗と、ゲート端子及びゲート酸化膜と基板との結合容量を用いることを特徴とする請求項11に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルのゲート端子入力電圧を設定できる電圧設定手段を備えることを特徴とする請求項13に記載の半導体集積回路。
- 前記フィラーセルのゲート端子のオンオフを設定できるオンオフ設定手段を備えることを特徴とする請求項13に記載の半導体集積回路。
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