JP2008261951A - 可変形状鏡 - Google Patents

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Abstract

【課題】実装後の歪をさらに抑制することができる構造を有する可変形状鏡を提供すること。
【解決手段】ミラー基板101のザグリ部の中心に対して点対称となるようにミラー基板側接合パッド108を配置するとともに、配線基板102の中心に対して点対称となるように配線基板側接合パッド109を配置する。そして、ミラー基板側接合パッド108と配線基板側接合パッド109との間をAuバンプ110による点接触接合により行う。
【選択図】図2

Description

本発明は、曲率を連続的に変化させることが可能な可変形状鏡に関する。
曲率を連続的に可変せしめる可変形状鏡の実装構造に関する提案として、例えば、特許文献1では、スピンコートにより形成した厚膜フォトレジストを接着機能付きスペーサとして用いることにより、均一な厚みのスペーサを得るようにしている。そして、この均一な厚みのスペーサにより、可撓性薄膜を有する基板と、この可撓性薄膜を駆動するための電極を有する基板との、接合時の荷重を小さくできるため、接合時における可撓性薄膜を有する側の基板における歪を抑制することができる。
特開2002−156514号公報
ここで、特許文献1では、可撓性薄膜を保持している保持部材とフォトレジストからなるスペーサとが面接触しているため、接触面内での実装時の荷重及び実装後の固定力のバラツキが保持部材を歪ませる要因となりえる。また、実装前の保持部材が単体で歪を持っている場合、面接触の実装構造では、スペーサの一部のみが保持部材と接触し、実装時に保持部材に偏荷重が発生する可能性がある。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、実装後の歪をさらに抑制することができる構造を有する可変形状鏡を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明の第1の態様の可変形状鏡は、可撓性薄膜と、前記可撓性薄膜が撓むことができるよう、前記可撓性薄膜を保持している保持部材と、前記可撓性薄膜に取り付けられ、前記可撓性薄膜の撓みに応じて作用される作用部材と、前記可撓性薄膜に設けられ、前記可撓性薄膜に沿って広がっている膜側対向電極と、前記保持部材上の、前記可撓性薄膜の中心点に対して点対称な位置又は前記中心点を通る直線に対して線対称な位置に設けられた複数の保持部材側接合パッドと、前記保持部材に対向するように設けられた基板と、前記膜側対向電極と対向するように前記基板に設けられ、前記膜側対向電極との間に静電力を発生させ、該静電力によって前記可撓性薄膜を撓ませるための基板側対向電極と、前記保持部材側接合パッドと対向するように前記基板に設けられた複数の基板側接合パッドと、前記保持部材側接合パッドと前記基板側接合パッドとに挟まれるように設けられ、前記保持部材と前記基板とを所定の間隔を保って固定し、且つ前記保持部材側接合パッドと基板側接合パッドとを電気的に接続する中間部材とを具備することを特徴とする。
本発明によれば、実装後の歪をさらに抑制することができる構造を有する可変形状鏡を提供することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
<第1の実施の形態>
まず、本発明の第1の実施形態について説明する。図1は、本発明の第1の実施形態に係る可変形状鏡の構成を示す断面図である。また、図2は図1に示す可変形状鏡の斜視図である。
図1に示す可変形状鏡において、保持部材の一例としての、例えばSiからなるミラー基板101と、基板の一例としての、例えばSiOからなる配線基板102とが互いに対向するように配置されている。
そして、図2に示すようにミラー基板101の最大面積面(図2では表面又は裏面)は正方形状となっており、この正方形状の中心付近に円形のザグリ部が形成されている。ここで、このザグリ部の中心Oは、ミラー基板101を構成する正方形状の重心と一致している。また、ザグリ部には、1μm程度のSi膜が可撓性薄膜103として残されており、この可撓性薄膜103は周囲のミラー基板101部によって撓むことができるように保持される。さらに、図1に示すように可撓性薄膜103の配線基板102と対向する面側には可撓性薄膜103を所望の形状に変形させるための膜側対向電極104が設けられている。さらに可撓性薄膜103の配線基板102と対向する面と反対側の面側には、作用部材の一例として、光学的な入力を反射するための反射膜105が取り付けられている。
また、図1に示すように、配線基板102のミラー基板101と対向する面側には、可撓性薄膜103を所望の形状に変形させるための配線基板側対向電極106が、膜側対向電極104に対応する形状で形成されている。さらに、配線基板102上の一部には配線基板側対向電極106に駆動信号の入力を行うための外部接続用パッド107が配置されている。
さらに、図1に示すように、ミラー基板101及び配線基板102には、ミラー基板側接合パッド108及び配線基板側接合パッド109がそれぞれ配置されている。そして、ミラー基板側接合パッド108は、膜側対向電極104に対して配線されている。また、配線基板側接合パッド109は、配線基板側対向電極106と外部接続用パッド107とに対して配線がなされている。
また、ミラー基板101に配置されたミラー基板側接合パッド108と配線基板102側に配置された配線基板側接合パッド109との間は中間部材(導電性突起)の一例であるAuバンプ110により機械的且つ電気的に接合されている。ここで、Auバンプ110は、ミラー基板101の面積に対する接合面積比率が0.1%以下程度(1接合部)の局所的な接触となるような径を有するAuバンプの単体又はその複合体から構成されている。
ここで、本実施形態においては、ミラー基板側接合パッド108を、可撓性薄膜103の近傍に、ミラー基板101の外形の中心でありザグリ部の中心点でもある、点Oを対称中心とした点対称配置になるように配置するとともに、それぞれのミラー基板側接合パッド108に対向するように配線基板側接合パッド109を配置する。具体的には、図2に示すように、点Oから等距離に且つ十の字に4つのミラー基板側接合パッド108及び配線基板側接合パッド109を配置し、それぞれ4つのミラー基板側接合パッド108及び配線基板側接合パッド109により仕切られる4つの領域(象限)のそれぞれに少なくとも1つのミラー基板側接合パッド108及び配線基板側接合パッド109を等距離に配置する。ここで、後者のミラー基板側接合パッド108及び配線基板側接合パッド109は、前者(4つ)のミラー基板側接合パッド108及び配線基板側接合パッド109を含めて等角度をもって配置するのが好ましい。中でも、図2に示すように8つのミラー基板側接合パッド108及び8つの配線基板側接合パッド109をそれぞれ45°の角度をもって離間させながら配置するとよい。また、このように点対称にミラー基板側接合パッド108を配置する際の点Oからの距離について、可撓性薄膜103の近傍と前述した。この近傍について、可撓性薄膜103の歪を低減する観点から、点Oとミラー基板側接合パッド108との距離を、ミラー基板101の製作上及びAuバンプ110の製作上可能な限り小さくすることが望ましい。このミラー基板側接合パッド108と点Oとの距離を小さくすることで、点対称に配置したミラー基板側接合パッド108及びAuバンプ110同士の距離が小さくなる。つまり、ミラー基板101をAuバンプ110にて固定する点の間隔を短くできるため、このミラー基板側接合パッド108及びAuバンプ110に囲まれた可撓性薄膜103をより歪ませずにミラー基板101を固定することができる。
このようにして、ミラー基板101と配線基板102との接合部がミラー基板101の外形の中心点Oを対称中心とする点対称に配置されるように、ミラー基板側接合パッド108及び配線基板側接合パッド109を配置することにより、実装時の荷重及び実装後の固定力により発生する応力が、図3の参照符号111に示すようにして互いに打ち消しあうように制御することができる。したがって、ミラー基板101の歪を最小限に抑えてミラー基板101と配線基板102とを固定することができる。
また、ミラー基板101と配線基板102との接合にAuバンプ110を用いることにより、ミラー基板101を点接触で固定することができる。
例えば、図4に示すように接合部材として接着剤113を用いて面接触による固定を行った場合では、接着剤113では硬化率のバラツキや接着面積のバラツキが大きくなるため、接着面内で実装時の荷重112及び実装後の固定力をミラー基板101との接着面内で均一に保つことは困難である。したがって、実装後にミラー基板101に歪が生じてしまう可能性が高い。また、その他の樹脂や金属の接合部材での面接触固定でも、ミラー基板との接合面にボイドが発生し、接触面内で実装時の荷重及び実装後の固定力をミラー基板101との接触面内で均一に保つことは困難である。
これに対し、Auバンプ110による点接触固定では、接合部の位置をバンプの作製精度で精度良く配置することができる。加えて、Auバンプ110の高さを高精度に制御できるため、図5に示すように実装時に全ての接合部で均一な実装時荷重112をかけることができ、これによって実装後の固定力もミラー基板101との接触面内で均一に保つことができる。
以上説明したように、第1の実施形態では、ミラー基板101と配線基板102との接合部を点対称配置とし、且つ接合部における接合を点接触による接合とすることにより、ミラー基板101を歪ませずに接合することができ、ミラー基板101に形成される可撓性薄膜103の実装後の歪をも低減することができる。また、接合部を可撓性薄膜103の近傍に配置するようにすることで、実装時の応力ばらつきをより均一化させて実装後の歪の低減効果を高めることが可能である。
ここで、第1の実施形態においては、接合部の配置を点対称配置としているが、対称関係にある接合部の応力が相殺されるのであれば、必ずしも接合部の配置を点対称とする必要はない。例えば、接合部を、中心点Oを通る直線に対して線対称に配置する構成や、中心Oを中心とする同心円に内接する正多角形(図2の正八角形以外でも良い)の頂点位置に配置する構成等が考えられる。図6(a)は3つの接合部を中心点Oを中心として互いに120°ずつ離間させて配置した例(即ち、正三角形の頂点位置に配置した例)であり、図6(b)は5つの接合部を中心点Oを中心として互いに72°ずつ離間させて配置した例(即ち、正五角形の頂点位置に配置した例)である。この他、4つの接合部を90°ずつ離間させた配置、12個の接合部を30°ずつ離間させた配置等も考えられる。これらのような配置でも上述した第1の実施形態の効果が得られる。
次に、図1及び図2に示した可変形状鏡の製作方法について説明する。
ミラー基板101及び配線基板102の製作については、半導体製造技術を適用した、いわゆるMEMS(Micro Electro-MechanicalSystem)技術を適用することによって、高精度の製作が期待できる。ここでは、ミラー基板101及び配線基板102の製作については説明を省略し、ミラー基板101と配線基板102との実装方法について詳しく説明する。
まずは配線基板102上に配置された配線基板側接合パッド109上にAuバンプ110を製作する。配線基板側接合パッド109の位置精度は通常のフォトリソグラフィ工程にて製作するため±1μm、Auバンプ110の位置精度は±5μm程度となる。ここで、Auバンプ110は1つの接合部に対して1つのバンプで構成しても、複数のバンプの集合体で構成しても構わない。Auバンプ110を配線基板102上に製作した後、配線基板102とミラー基板101とを、図示しない実装機の上下ステージにそれぞれ真空吸着により固定する。そして、ステージにそれぞれ固定した配線基板102とミラー基板101とのアライメントをカメラにより行った後、ミラー基板101と配線基板102上に製作したAuバンプ110とを接触させる。その後、加圧・加熱を行うことにより、ミラー基板側接合パッド108とAuバンプ110との間の固層拡散接合を行う。この際に加える荷重は、ミラー基板101と配線基板102との間隔が所望の値になるように設定する。また、接合前のAuバンプ110製作済みの配線基板102とミラー基板101において、少なくとも片方の基板にプラズマクリーニングを行った上で実装してもよい。実装する面をプラズマクリーニングすることで、所望の接合強度を得るための荷重を小さくすることができる。これにより、実装後の歪をさらに抑制することができる。また、カメラでのアライメントを行ってから基板の実装を行うことにより、実装でのXY精度は±5μm程度となる。このような工程により実装することにより、設計上の接合部位置からのずれは最大でも11μm程度となる。したがって、接合部の位置ずれが接合部配置の対称性を崩し、歪抑制効果に影響を与えることはないと考えられる。
<第2の実施形態>
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。図7は、本発明の第2の実施形態に係る可変形状鏡の構成を示す断面図である。また、図8は可変形状鏡の斜視図である。
図7に示す可変形状鏡において、例えばSiからなるミラー基板201と、例えばSiOからなる配線基板202とが互いに対向するように配置されている。
そして、図8に示すようにミラー基板201の最大面積面は円形となっており、その中心付近に円形のザグリ部が配置されている。このザグリ部の中心は、ミラー基板201の外形中心と一致している。
さらに、第1の実施形態と同様に、ミラー基板201には、図7に示すようにして可撓性薄膜203、膜側対向電極204、反射膜205、ミラー基板側接合パッド208が製作されている。また、配線基板202には、配線基板側対向電極206、配線基板側接合パッド209、外部接続用パッド207が製作されている。また、ミラー基板201及び配線基板202にはそれぞれ、可撓性薄膜203を駆動するのに必要な配線がなされている。
そして、図7に示すように、ミラー基板201と配線基板202との間には、中間部材(導電性突起)の一例であるAuバンプ210が配置され、その周囲がハンダ211により接合されている。詳しい実装の手順は後述するが、Auバンプ210はミラー基板201と配線基板202との間隔を保つためのスペーサとしての機能を担い、接合には関与していない。電気的且つ機械的なミラー基板201と配線基板202との接合は、Auバンプ210の周囲のハンダ211により行っている。なお、ミラー基板201と配線基板202との接合部の配置は、第1の実施形態と同様に点対称である。ここで、第2の実施形態においてはスペーサとしてAuバンプを用いているが、これに限られるものではない。例えば図9のようにハンダ211により表面が被覆されたCuボール212を用いて実装することもできる。
ここで、第2の実施形態が第1の実施形態と異なる点として、(1)ミラー基板201の外形の形状、(2)接合部の構造が上げられる。まず(1)について、第2の実施形態では、ミラー基板201の外形形状を円形にすることにより、実装時の荷重及び実装後の固定力が、点対称に配置した接合部よりかかり、ミラー基板201内で可撓性薄膜203の中心から同心円上の点で同等の応力が発生するため、第1の実施形態より、さらに応力を均一化することができる。これにより、さらに実装後の歪をさらに抑制する効果を得ることができる。次に(2)について、第1の実施の形態では、Auバンプ110の固層拡散接合により接合を行っているが、第2の実施形態ではAuバンプ210をスペーサとして使用し、接合はハンダ211により行っている。第2の実施形態のように、ハンダ211にて接合を行うことにより、ミラー基板201と配線基板202との実装時にかける荷重を小さくすることができ、さらに実装後の歪を抑制する効果を得ることができる。
次に、第2の実施形態についての可変形状鏡の製作方法について説明する。ここで、ミラー基板201及び配線基板202の製作については、第1の実施形態と同様に説明を省略する。ここでは、ミラー基板201と配線基板202との実装方法について詳しく説明する。
まず、配線基板202上の配線基板側接合パッド209上にAuバンプ210を製作する。ここで、Auバンプ210は1箇所の接合部に対して、1つのバンプで製作しても、複数のバンプの集合体として製作しても構わない。このAuバンプ210上にハンダボールを供給する。このAuバンプ210を製作済みの配線基板202とミラー基板201とを図示しない実装機に固定した後、ミラー基板201と配線基板202をアライメントし、その後に加熱・加圧することにより、Auバンプ210上に配置したハンダボールを溶融させ、ミラー基板201と配線基板202とを実装する。
以上実施形態に基づいて本発明を説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形や応用が可能なことは勿論である。例えば、上述した実施形態においては、可撓性薄膜の形状は円形の形状を例にして説明を行っているが、この形状に限るものではない。例えば、正多角形や楕円形状であっても良い。また、各基板の材質に関してもSi、SiOに限るものではない。加えて、接合に用いる部材も、Auバンプやハンダのみに限られるものではない。
さらに、上記した実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件の適当な組合せにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、上述したような課題を解決でき、上述したような効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成も発明として抽出され得る。
本発明の第1の実施形態に係る可変形状鏡の構成を示す断面図である。 本発明の第1の実施形態に係る可変形状鏡の斜視図である。 本発明の第1の実施形態に係る可変形状鏡の実装時の荷重及び実装後の固定力により発生する応力を示した図である。 面接触による固定を行った場合の実装時の荷重及び実装後の固定力を示した図である。 点接触による固定を行った場合の実装時の荷重及び実装後の固定力を示した図である。 接合部の配置の変形例について示した図である。 本発明の第2の実施形態に係る可変形状鏡の構成を示す断面図である。 本発明の第2の実施形態に係る可変形状鏡の斜視図である。 接合部の構造の変形例について示した図である。
符号の説明
101,201…ミラー基板、102,202…配線基板、103,203…可撓性薄膜、104,204…膜側対向電極、105,205…反射膜、106,206…配線基板側対向電極、107,207…外部接続用パッド、108,208…ミラー基板側接合パッド、109,209…配線基板側接合パッド、110,210…Auバンプ、211…ハンダ、212…Cuボール

Claims (10)

  1. 可撓性薄膜と、
    前記可撓性薄膜が撓むことができるよう、前記可撓性薄膜を保持している保持部材と、
    前記可撓性薄膜に取り付けられ、前記可撓性薄膜の撓みに応じて作用される作用部材と、
    前記可撓性薄膜に設けられ、前記可撓性薄膜に沿って広がっている膜側対向電極と、
    前記保持部材上の、前記可撓性薄膜の中心点に対して点対称な位置又は前記中心点を通る直線に対して線対称な位置に設けられた複数の保持部材側接合パッドと、
    前記保持部材に対向するように設けられた基板と、
    前記膜側対向電極と対向するように前記基板に設けられ、前記膜側対向電極との間に静電力を発生させ、該静電力によって前記可撓性薄膜を撓ませるための基板側対向電極と、
    前記保持部材側接合パッドと対向するように前記基板に設けられた複数の基板側接合パッドと、
    前記保持部材側接合パッドと前記基板側接合パッドとに挟まれるように設けられ、前記保持部材と前記基板とを所定の間隔を保って固定し、且つ前記保持部材側接合パッドと基板側接合パッドとを電気的に接続する中間部材と、
    を具備することを特徴とする可変形状鏡。
  2. 前記点対称な位置は、前記可撓性薄膜の中心点を中心とした同心円上の位置であることを特徴とする請求項1に記載の可変形状鏡。
  3. 前記同心円上の位置は、前記可撓性薄膜の中心点を中心とした同心円上で、且つそれぞれの保持部側接続パッドの間隔が等間隔となる位置であることを特徴とする請求項2に記載の可変形状鏡。
  4. 前記中間部材は、導電性の突起から構成されることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の可変形状鏡。
  5. 前記中間部材は、スペーサとハンダとから構成されることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の可変形状鏡。
  6. 前記スペーサは、導電性の突起であることを特徴とする請求項5に記載の可変形状鏡。
  7. 前記スペーサは、金属製ボールであることを特徴とする請求項5に記載の可変形状鏡。
  8. 前記複数の保持部材側接合パッドはそれぞれ前記可撓性薄膜の近傍に配置されることを特徴とする請求項1に記載の可変形状鏡。
  9. 前記保持部材が、前記可撓性薄膜の中心点に対して点対称又は前記中心点を通る直線に対して線対称な形状をしていることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の可変形状鏡。
  10. 前記点対称な形状とは、前記保持部材の外形が前記可撓性薄膜の中心点を中心とする同心円の形状であることを特徴とする請求項9に記載の可変形状鏡。
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