JP2008255086A - 光学活性エポキシ化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】光学活性エポキシ化合物の工業的に有用な製造方法の提供。
【解決手段】光学活性チタンサレン錯体触媒及び光学活性チタンサラン触媒の存在下で、不飽和化合物を酸化剤（特に過酸化水素）によりエポキシ化するに当り、反応系中に緩衝剤又は緩衝液を添加する。これにより従来技術よりも、触媒の分解が抑制できること、触媒使用量が軽減できること、および副生成物を抑制できること等の利点がもたらされ、高い化学収率、光学純度で品質の良い光学活性エポキシ化合物を製造することができる。不飽和化合物としては、例えばインデン、２，２−ジメチルベンゾピラン、スチレン等が挙げられる。
【選択図】なし

Description

本発明は、光学活性エポキシ化合物の製造方法に関する。

光学活性チタン錯体において、２００５年に、ジ−μ−オキソチタンサラレン錯体を用いると、過酸化水素水を酸化剤として、種々のオレフィン類の不斉エポキシ化反応において、高いエナンチオ選択性で反応が進行することが報告された。しかしながら、この技術に用いる光学活性チタン錯体の分子量は、２０００近くの巨大な分子量となり、該チタンサラレン錯体の合成にコストと時間がかかっていた。また、該チタンサラレン錯体を合成するのに分子内Ｍｅｅｒｗｅｉｎ−Ｐｏｎｎｄｏｒｆ−Ｖｅｒｌｅｙ還元反応を経由するため、応用性の面においても不十分である問題があった（例えば、非特許文献１参照）。

次いで２００６年には、ジ−μ−オキソチタンサラン錯体を用いると、過酸化水素水を酸化剤として、種々のオレフィン類の不斉エポキシ化反応において、高いエナンチオ選択性で反応が進行することが報告された。この技術に用いる光学活性チタン錯体の分子量は、１０００程度まで簡略化され、該チタンサラレン錯体と比較して合成にかかっていたコストと時間とを軽減できた。しかしながら、該チタンサラン錯体を用いると光学活性エポキシ化合物のエナンチオ選択性と化学収率が低下することと、使用する触媒量が５ｍｏｌ％必要となり軽減できない問題があった（例えば、特許文献２及び非特許文献３参照）。

さらに、２００６年には、チタンサラン錯体を触媒として用いる不斉エポキシ化反応について、サラン配位子の置換基を検討し、触媒の性能の向上に成功した例が報告された（例えば、非特許文献４参照）。しかしながら、基質によって生成したエポキシ化合物の一部が、反応条件下で副生成物となり、化学収率が低下する問題があり、副生成物の精製に時間とコストがかかる点で、十分満足し得る方法が望まれていた。さらに、触媒量についても、４ｍｏｌ％から６ｍｏｌ％が必要となり、反応後の触媒及び触媒の分解物を精製する点から、さらなる触媒量の軽減も望まれていた。

Ｋ．Ｍａｔｓｕｍｏｔｏ， Ｙ．Ｓａｗａｄａ， Ｂ．Ｓａｉｔｏ， Ｋ．Ｓａｋａｉ， Ｔ．Ｋａｔｓｕｋｉ， Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．（２００５年），４４，４９３５−４９３９． 国際公開第０６／０８７８７４号パンフレット Ｙ．Ｓａｗａｄａ， Ｋ．Ｍａｔｓｕｍｏｔｏ， Ｓ．Ｋｏｎｄｏ， Ｈ．Ｗａｔａｎａｂｅ， Ｔ．Ｏｚａｗａ， Ｋ．Ｓｕｚｕｋｉ， Ｂ．Ｓａｉｔｏ， Ｋ．Ｓａｋａｉ，Ｔ．Ｋａｔｓｕｋｉ， Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．（２００６年），４５，３４７８−３４８０． Ｋ．Ｍａｔｓｕｍｏｔｏ， Ｙ．Ｓａｗａｄａ， Ｔ．Ｋａｔｓｕｋｉ， ＳＹＮＬＥＴＴ（２００６年），２０，３５４５−３５４７．

発明が解決しようとする課題は、前記従来技術の問題を解決するため、触媒の分解を抑制するか若しくは使用する触媒の効率を向上させて触媒使用量を軽減し、又は副反応を抑制しながらも遜色なく反応を進行させる、光学活性エポキシ化合物の工業的に有用な製造方法を提供することにある。
なお、エポキシ化合物が酸に不安定な場合に、副生成物の生成を防ぐため、炭酸水素ナトリウムやリン酸二水素ナトリウムを添加することが、（非特許文献）日本化学会編：第４版；実験化学講座２３；有機合成Ｖ；酸化反応（１９９１年）、２４５−２４６ページに記載されている。この場合、酸成分により、生成したエポキシ化合物が、開環してしまうことを、炭酸水素ナトリウムやリン酸二水素ナトリウムを添加により、抑止していることが、分かっている。しかしながら、本発明の基質に対して、アルカリ成分、緩衝剤又は緩衝剤の添加が分解抑制作用を示すかについては充分に知られていない。またアルカリ成分、緩衝剤又は緩衝液の存在下、本発明で用いた光学活性チタン錯体が触媒として、安定に存在し、また不斉エポキシ化反応に寄与しうるか否かについても何らの知見はない。

発明者らは、光学活性エポキシ化合物の工業的に有用な製造方法について鋭意研究した結果、光学活性チタンサレン錯体又は光学活性チタンサラン錯体の存在下、分子中にプロキラルな炭素−炭素二重結合を有する不飽和化合物を、酸化剤を用いて不斉エポキシ化する反応において、反応系中に緩衝剤や緩衝液を加えることにより、触媒の分解を抑制できること、反応での触媒使用量が軽減できること、副生成物が抑制できることを見出し、高い化学収率、光学収率で、高品質の光学活性エポキシ化合物を製造できる実用的かつ工業的に有用な製造方法を完成した。
すなわち本発明は、

（１）
式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）

（式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^１は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１２アリールオキシ基又はＣ_６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はＣ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ベンジルオキシ基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で任意に置換されており、光学活性又は光学不活性である。）であり、Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基であり、Ｒ^３は、Ｃ_６−１８アリール基又は、２つのＲ^３が一緒になって環を形成する場合は、Ｃ_３−５の二価の基であり、Ｒ^４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表される光学活性配位子（式（１）、式（１’）、式（３）及び式（３’）は、サレン配位子であり、式（２）、式（２’）、式（４）及び式（４’）は、サラン配位子である。）とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタンサレン錯体又は光学活性チタンサラン触媒、及び緩衝剤又は緩衝液の存在下で、下記式（５）、式（６）、式（７）、式（８）、式（９）及び式（１０）

（式（５）及び式（６）中のＲ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基（該アミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_１−４アルコキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、Ｃ_１−４アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_７−１１アリールカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルバモイル基、Ｃ_１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ_６−１０アリールスルフィニル基、Ｃ_１−４アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１０アリールスルホニル基、スルファモイル基、モノアルキルアミノスルホニル基、又はＣ_２−８ジアルキルアミノスルホニル基であり、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ^９は、水素原子、Ｃ_１−４アルキル基、又はＣ_１−４アルコキシ基であり、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ^１０は、水素原子、Ｃ_１−２２アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で置換されている。）であり、式（６）中のＲ^１１は、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、式（７）及び式（８）中のＲ^１０は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−２２アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で置換されている。）である。式（６）中のＲ^１１は、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）である。ただし、式（５）、式（６）、式（８）及び式（９）中のＲ^９とＲ^１０とが、互いに結合して下記式（１０）、式（１１）、式（１２）及び式（１３）

（式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ_１−６アルキル基である。）の何れかで表される二価の基を形成してもよい。式（９）及び式（１０）中の環部分構造Ａはベンゼン環と縮合する５、６又は７員環（該５、６又は７員環は何れも、無置換であるか、又はｈ個のＲ^１３（Ｒ^１３はハロゲン原子、水酸基、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルアミノ基、若しくはＣ_１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はアルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基若しくはアルコキシカルボニル基は、ハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルアミノ基、若しくはＣ_１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基及びアルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、カルバモイル基、スルホ基、スルホアミノ基、スルファモイル基、スルホニル基、アミノ基、カルボキシル基、Ｃ_１−６アルキルアミノ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基、Ｃ_６−１４アリールスルホンアミド基、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１４アリールスルホニル基、又はＣ_６−１４アリールカルボニル基（該アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルキルアミノカルボニル基、ジアルキルアミノカルボニル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びアリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、ｈは１〜６の整数を意味し、ｈが２〜６の場合、Ｒ^１３は同じでも異なっていてもよい。）で置換されており、環の構成原子として酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができ、環内の不飽和結合の数は、縮合するベンゼン環の不飽和結合を含め、１、２又は３であり、環を構成する炭素原子は、カルボニル又はチオカルボニルであってもよい。）である。）で表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）

（式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）中のＲ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１は、前記と同じであり、＊で示された炭素原子の絶対配置は（Ｒ）又は（Ｓ）を意味する。）の何れかで表される光学活性エポキシ化合物の製造方法。

（２）
前記の光学活性配位子が、式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）（式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^１は、フェニル基（該フェニル基は、２−Ｃ_１−３アルキル基（該２−Ｃ_１−３アルキル基は、少なくとも１つ以上のハロゲン原子で置換されている。）、ベンジルオキシ基、又は２−Ｃ_１−４アルコキシ基で置換されている。）、２−フェニル−１−ナフチル基又は２−メトキシ−１−ナフチル基であり、Ｒ^２は、水素原子であり、Ｒ^３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ^４は、水素原子である。）である上記（１）に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。

（３）
前記式（８）又は式（９）中のＡの環部分構造が、式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）、式（ａｇ）及び式（ａｈ）の何れかで表される

（前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ^１４及びＲ^１５はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニルオキシ基及びアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基（該シクロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基及びアルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ_２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１４アリールスルホニル基、Ｃ_２−９ヘテロアリールスルホニル基（該アリールスルホニル基及びヘテロアリールスルホニル基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基又はＣ_２−９ヘテロアリールカルボニル基（該アリールカルボニル基及びヘテロアリールカルボニル基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）であり、
前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ^１６，Ｒ^１７，Ｒ^１８及びＲ^１９はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６カルボニルオキシ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニルオキシ基及びアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基（該シクロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基及びアルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ_２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ_３−８シクロアルキル基（該シクロアルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基若しくはＣ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は、何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ_１−６チオアルコキシ基（該チオアルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、若しくはＣ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、スルホ基、Ｃ_１−６アルキルアミノ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、Ｃ_６−１４アリールアミノ基、Ｃ_２−９ヘテロアリールアミノ基（該アリールアミノ基及びヘテロアリールアミノ基は、何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基、Ｃ_２−９ヘテロアリールカルボニル基（該アリールカルボニル基及びヘテロアリールカルボニル基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１４アリールスルホニル基、Ｃ_２−９ヘテロアリールスルホニル基（該アリールスルホニル基及びヘテロアリールスルホニル基は、何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、カルボキシル基、若しくはＣ_２−９ヘテロシクリル基（該ヘテロシクリル基は、、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、カルボキシル基、若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、水酸基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、Ｃ_１−６アルキルアミノ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、カルボキシル基、若しくはＣ_６−１４アリールカルボニル基で置換されている。）であり、
前記式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）及び式（ａｄ）中のＱは、Ｏ（酸素原子）、Ｓ（硫黄原子）、ＳＯ（スルフィニル基）又はＳＯ₂（スルホニル基）を意味する。
式（９）及び式（１０）中のＲ^９とＲ^１０とは、互いに結合して下記式（１１）

（式（１１）中のＲ^１２は、メチル基であり、Ｒ^９側に酸素原子、Ｒ^１０側に炭素原子が結合する。）で表される二価の基である。）で表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１９）及び式（２０）

（式（１９）及び式（２０）中の環部分構造Ａ、Ｒ^９及びＲ^１０は、前記と同じであり、＊で示された炭素原子の絶対配置は（Ｒ）又は（Ｓ）を意味する。）の何れかで表される上記（１）に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。

（４）
前記の酸化剤が過酸化水素であることを特徴とする上記（１）から（３）の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。

（５）
緩衝剤又は緩衝液の添加により、反応液のｐＨが５ないし１２であることを特徴とする上記（１）から（４）の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法を提供するものである。

本発明によれば、分子中にプロキラルな炭素−炭素二重結合を有する不飽和化合物を高いエナンチオ選択性でエポキシ化し、光学活性エポキシ化合物を従来技術よりも、高品質かつ高収率で経済的に製造することができる。更に、本発明の製造方法で得られる光学活性エポキシ化合物は、高血圧症、喘息症等の治療に有効な化合物の光学活性医薬中間体として有用である。

本明細書中「ｎ」はノルマルを、「ｉ」はイソを、「ｓ」はセカンダリーを、「ｔ」はターシャリーを、「ｃ」はシクロを、「ｏ」はオルトを、「ｍ」はメタを、「ｐ」はパラを、「Ｍｅ」はメチル基を意味する。

以下に、本発明を詳細に説明する。本発明の光学活性エポキシ化合物の製造方法は、式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）

（式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^１は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１２アリールオキシ基又はＣ_６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はＣ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ベンジルオキシ基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で任意に置換されており、光学活性又は光学不活性である。）であり、Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基であり、Ｒ^３は、Ｃ_６−１８アリール基又は、２つのＲ^３が一緒になって環を形成する場合は、Ｃ_３−５の二価の基であり、Ｒ^４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表される光学活性配位子（式（１）、式（１’）、式（３）及び式（３’）は、サレン配位子であり、式（２）、式（２’）、式（４）及び式（４’）は、サラン配位子である。）とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタンサレン錯体又は光学活性チタンサラン触媒、及び緩衝剤又は緩衝液の存在下で、下記式（５）、式（６）、式（７）、式（８）、式（９）及び式（１０）

（式（５）及び式（６）中のＲ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基（該アミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_１−４アルコキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、Ｃ_１−４アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_７−１１アリールカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルバモイル基、Ｃ_１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ_６−１０アリールスルフィニル基、Ｃ_１−４アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１０アリールスルホニル基、スルファモイル基、モノアルキルアミノスルホニル基、又はＣ_２−８ジアルキルアミノスルホニル基であり、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ^９は、水素原子、Ｃ_１−４アルキル基、又はＣ_１−４アルコキシ基であり、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ^１０は、水素原子、Ｃ_１−２２アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で置換されている。）であり、式（６）中のＲ^１１は、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、式（７）及び式（８）中のＲ^１０は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−２２アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で置換されている。）である。式（６）中のＲ^１１は、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）である。ただし、式（５）、式（６）、式（８）及び式（９）中のＲ^９とＲ^１０とが、互いに結合して下記式（１０）、式（１１）、式（１２）及び式（１３）

（式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ_１−６アルキル基である。）の何れかで表される二価の基を形成してもよく、式（９）及び式（１０）中の環部分構造Ａはベンゼン環と縮合する５、６又は７員環（該５、６又は７員環は何れも、無置換であるか、又はｈ個のＲ^１３（Ｒ^１３はハロゲン原子、水酸基、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルアミノ基、若しくはＣ_１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はアルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基若しくはアルコキシカルボニル基は、ハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルアミノ基、若しくはＣ_１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基及びアルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、カルバモイル基、スルホ基、スルホアミノ基、スルファモイル基、スルホニル基、アミノ基、カルボキシル基、Ｃ_１−６アルキルアミノ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基、Ｃ_６−１４アリールスルホンアミド基、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１４アリールスルホニル基、又はＣ_６−１４アリールカルボニル基（該アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルキルアミノカルボニル基、ジアルキルアミノカルボニル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びアリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、ｈは１〜６の整数を意味し、ｈが２〜６の場合、Ｒ^１３は同じでも異なっていてもよい。）で置換されており、環の構成原子として酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができ、環内の不飽和結合の数は、縮合するベンゼン環の不飽和結合を含め、１、２又は３であり、環を構成する炭素原子は、カルボニル又はチオカルボニルであってもよい。）である。）で表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）

（式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）中のＲ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１は、前記と同じであり、＊で示された炭素原子の絶対配置は（Ｒ）又は（Ｓ）を意味する。）の何れかで表される光学活性エポキシ化合物を製造できることを特徴とする。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中の各置換基について説明する。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^１は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１２アリールオキシ基又はＣ_６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はＣ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ベンジルオキシ基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で任意に置換されており、光学活性又は光学不活性である。）である。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^１を具体的に説明する。該ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、該Ｃ_１−４アルキル基は、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられ、該Ｃ_１−４アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ等が挙げられ、該Ｃ_６−１２アリールオキシ基としては、フェニルオキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、２−ビフェニリルオキシ基、３−ビフェニリルオキシ基、４−ビフェニリルオキシ基等が挙げられ、該Ｃ_６−２２アリール基としては、フェニル基、２−メチルフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−ペンタフルオロエチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、２−ｉ−プロポキシフェニル基、２−ベンジルオキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ビフェニリル基、３−ビフェニリル基、４−ビフェニリル基、２−メチル−１−ナフチル基、２−フェニル−１−ナフチル基、２−メトキシ−１−ナフチル基、２−［３，５−ジメチルフェニル］−１−ナフチル基、２−［４−メチルフェニル］−１−ナフチル基、２−［ｐ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）フェニル］−１−ナフチル基、２−（ｏ−ビフェニリル）−１−ナフチル基、２−（ｍ−ビフェニリル）−１−ナフチル基、２−（ｐ−ビフェニリル）−１−ナフチル基等が挙げられる。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中の好ましいＲ^１は、フェニル基（該フェニル基は、２−Ｃ_１−３アルキル基（該２−Ｃ_１−３アルキル基は、少なくとも１つ以上のハロゲン原子で置換されている。）、ベンジルオキシ基、又は２−Ｃ_１−４アルコキシ基で置換されている。）２−フェニル−１−ナフチル基、２−メトキシ−１−ナフチル基である。該フェニル基としては、２−トリフルオロメチルフェニル基、２−ペンタフルオロエチルフェニル基、２−ベンジルオキシフェニル基、２−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、２−ｉ−プロポキシフェニル基、２−ｎ−ブトキシフェニル基等が挙げられる。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^１は、２−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、２−ｉ−プロポキシフェニル基、２−ベンジルオキシフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、２−フェニル−１−ナフチル基、２−メトキシ−１−ナフチル基が好ましく、２−メトキシフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、２−フェニル−１−ナフチル基、２−メトキシ−１−ナフチル基がより好ましい。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^２は、水素原子、ハロゲン原子又はＣ_１−４アルキル基である。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^２を具体的に説明する。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、該Ｃ_１−４アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられる。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基が好ましく、これらの中でもＲ^２は、水素原子がより好ましい。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^３は、Ｃ_６−１８アリール基又は、２つのＲ^３が一緒になって環を形成する場合は、Ｃ_３−５の二価の基である。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^３を具体的に説明する。該Ｃ_６−１８アリール基としては、フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、４−メチルフェニル基が挙げられ、２つのＲ^３が一緒になって環を形成する場合は、Ｃ_３−５の二価の基であり、トリメチレン基、テトラメチレン基等が挙げられる。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^３はフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２つのＲ^３が結合したテトラメチレン基が好ましく、２つのＲ^３が互いに結合したテトラメチレン基がより好ましい。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^４を具体的に説明する。該ハロゲン基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、該Ｃ_１−４アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられ、該Ｃ_１−４アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等が挙げられる。

前記式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^４は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基が好ましく、これらの中でも、Ｒ^４としては、水素原子がより好ましい。

光学活性チタンサラレン錯体の製造法については、特許文献ＷＯ２００６／０８７８７Ａ１及び非特許文献Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．（２００５年），４４，４９３５−４９３９．記載の方法に従って製造できる。

光学活性チタンサラン錯体の製造法については、特許文献ＷＯ２００６／０８７８７Ａ１及び非特許文献Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．（２００６年），４５，３４７８−３４８０．記載の方法に従って製造できる。

使用するチタン化合物については、四塩化チタン、四臭化チタン、チタンアルコキシドが挙げられる。さらに、チタンアルコキシドとしては、チタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトラｎ−プロポキシド、チタンテトラｉ−プロポキシド、チタンテトラｎ−ブトキシド、チタンテトラｔ−ブトキシド等が挙げられる。チタン化合物の中でも、チタンテトラｎ−プロポキシド、チタンテトラｉ−プロポキシド、チタンテトラｎ−ブトキシド、チタンテトラｔ−ブトキシドが好ましく、チタンテトライソプロポキシド［Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）_４］がより好ましい。なお、チタン化合物の使用量は、サレン配位子及びサラン配位子１当量に対し０．６〜１０当量の範囲が好ましく、０．８〜１．２当量の範囲がより好ましい。

光学活性チタンサレン錯体および光学活性チタンサラン錯体の製造については、一旦オキソチタン錯体として単離する方法と、反応系中にて、調製して取り出さず使用する方法（ｉｎ ｓｉｔｕ方法）の両方で、光学活性エポキシ化合物を製造できる。また、オキソチタン錯体を生成する際に行う水の添加については、反応で用いる酸化剤である過酸化水素水中の水にて、実施することも可能である。

使用する緩衝剤又は緩衝液を反応系へ添加する際は、そのまま反応溶液に添加する方法、使用する酸化剤、例えば３０％過酸化水素水等に溶かしてから添加する方法があり、使用する基質や反応条件により、適宜選択できる。

該緩衝剤に用いる成分としては、ホウ酸、リン酸、クエン酸、アルカリリン酸、アルカリリン酸水素、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二カリウム、ピロリン酸二水素二ナトリウム、二リン酸四ナトリウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素アンモニウム、硝酸アンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素アンモニウム、ニトリロトリ酢酸（ＮＴＡ）とそのアルカリ塩、エチレンジニトリロ酢酸（ＥＤＴＡ）又はそのアルカリ塩、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸（ＴＴＨＡ）、（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ酢酸三ナトリウム、エチレングリコール-ビス（β−アミノエチルエーテル）−Ｎ，Ｎ−四酢酸（ＥＧＴＡ）、３−アザ−３−（カルボキシメチル）−ペンタメチレンジニトリロ四酢酸（ＤＴＰＡ）、1,2-シクロヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ’−四酢酸、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（Ｔｒｉｓ）等が挙げられ、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（Ｔｒｉｓ）が、好ましい。

緩衝液は、（非特許文献）：Ｄ．Ｄ．Ｐｅｒｒｉｎ．；Ｂ．Ｄｅｍｐｓｅｙ．「Ｂｕｆｆｅｒｓ ｆｏｒ ｐＨ ａｎｄ Ｍｅｔａｌ Ｉｏｎ Ｃｏｎｔｒｏｌ」Ｅｄ．ｂｙ ＣＨＡＰＭＡＮ ＡＮＤ ＨＡＬＬ，Ｌｏｎｄｏｎ，（１９７４年）又は、（非特許文献）日本化学会編：改訂３版；化学便覧；基礎編ＩＩ（１９８４年）、３５４−３５７ページ記載の方法で、調製できる。該緩衝液としては、クエン酸／ＮａＯＨ緩衝液、クエン酸／クエン酸ナトリウム緩衝液、リン酸緩衝液、ＫＨ_２ＰＯ_４／ＮａＯＨ緩衝液、Ｔｒｉｓ／ＨＣｌ緩衝液、ホウ酸／ＮａＯＨ緩衝液、ホウ酸Ｎａ／ＨＣｌ緩衝液等が挙げられ、クエン酸／ＮａＯＨ緩衝液、クエン酸／クエン酸ナトリウム緩衝液、ホウ酸／ＮａＯＨ緩衝液、リン酸緩衝液、ＫＨ_２ＰＯ_４／ＮａＯＨ緩衝液が、好ましい。

前記のとおり、エポキシ化合物が酸に不安定な場合に、副生成物の生成を防ぐため、炭酸水素ナトリウムやリン酸二水素ナトリウムを添加することが、（非特許文献）日本化学会編：第４版；実験化学講座２３；有機合成Ｖ；酸化反応（１９９１年）、２４５−２４６ページに記載されいる。この場合、酸成分により、生成したエポキシ化合物が、開環してしまうことを、炭酸水素ナトリウムやリン酸二水素ナトリウムを添加により、抑止していることが、分かっている。

一方、本明細書にて報告している緩衝剤又は緩衝液とチタン触媒（該チタン触媒は、チタンサレン錯体及びチタンサラン錯体を意味する。）との関わりについてや、緩衝剤又は緩衝液が触媒与える作用については、分かっていない。そこで、チタン触媒を反応条件下にさらし、撹拌して１５分後にチオ硫酸ナトリウム水溶液を添加して、過酸化水素を還元し、触媒の残存量を内部標準定量法にて比較する実験を行った。結果として、添加剤を入れた系の方が、添加剤を入れない系よりも、触媒の残存量が多いことが分かった（参考実験Ａ）。

以上の検討より、光学活性チタンサレン錯体又は光学活性チタンサラン錯体の存在下で、分子中にプロキラルな炭素−炭素二重結合を有する不飽和化合物と酸化剤との反応において、反応系中に添加剤を加えることにより、従来技術よりも、触媒使用量を軽減し副生成物を抑制しながら高い化学収率、高い光学収率で、品質の良い光学活性エポキシ化合物を製造できることを見い出した。

使用する添加剤の量は、基質の不飽和化合物に対して、０．００１〜２００モル％が挙げられ、０．０１〜１００モル％の範囲が好ましく、０．３５〜４０モル％の範囲がより好ましい。

本発明の方法で用いる酸化剤としては、過酸化水素水及び尿素−過酸化水素付加物（ＵＨＰ）が好ましく、過酸化水素水がより好ましい。ここで、過酸化水素水の濃度は、特に制限されないが、安全性、工業的観点及び入手容易性の点からは、市販の約３０〜６０％濃度のものを用いることが好ましい。また、用いる過酸化水素水を希釈し使用したり、過酸化水素水をエポキシ化反応溶液に少量ずつ滴下したりしてもよく、この場合、触媒の使用量を低減することができる。なお、酸化剤の使用量は、基質の不飽和化合物に対して、１〜１０当量の範囲が好ましく、１〜１．５当量の範囲がより好ましい。

触媒の使用量は、基質の不飽和化合物に対し０．００１〜１００モル％の範囲が好ましく、０．０１〜１０モル％の範囲がより好ましい。

本発明の光学活性エポキシ化合物製造方法は、一般に有機溶媒中で行う。該有機溶媒としては、非プロトン性の有機溶媒が好ましく、具体的には、ジクロロメタン（ＣＨ_２Ｃｌ_２）、１，２−ジクロロエタン（ＣＨ_２ＣｌＣＨ_２Ｃｌ）、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン等の芳香族炭化水素、酢酸エチル等のエステル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテルが挙げられる。また、過酸化水素水を酸化剤として使用する場合は、反応溶液は、有機相と水相の二相系となっても良い。

本発明の光学活性エポキシ化合物製造方法の反応温度は、特に限定されるものではないが、０℃〜用いる溶媒の還流温度で実施することが好ましく、２５℃から４０℃で実施することが、より好ましい。反応温度が高過ぎても低過ぎても、生成物の鏡像体過剰率が低下してしまう。また、反応時間は特に限定されず、前記反応温度に合わせて適宜選択される。

本発明の製造方法では、鏡像異性体の一方のみを高い選択率で製造することができる。また、本発明の製造方法では、式（１）の錯体と式（１’）の錯体との使い分けによって、光学活性エポキシ化合物の両鏡像異性体を選択的に製造することができる。

前記式（５）、式（６）、式（７）、式（８）、式（９）、式（１０）、式（１１）、式（１２）、式（１３）、式（１４）、式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）中の各置換基について説明する。

Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基（該アミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_１−４アルコキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、Ｃ_１−４アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_７−１１アリールカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルバモイル基、Ｃ_１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ_６−１０アリールスルフィニル基、Ｃ_１−４アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１０アリールスルホニル基、スルファモイル基、モノアルキルアミノスルホニル基、又はＣ_２−８ジアルキルアミノスルホニル基である。

Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８を具体的に説明する。該アミノ基としては、アミノ基、トシルアミノ基、ベンジルアミノ基、Ｃ_２−７アシルアミノ基、Ｃ_２−５アルコキシカルボニルアミノ基等が挙げられ、該アシルアミノ基としては、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等が挙げられ、該アルコキシカルボニルアミノ基としては、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｉ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｓ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、該Ｃ_１−４アルキル基としては、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基が挙げられ、該Ｃ_１−４アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基が挙げら、該Ｃ_２−５アルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、モノクロロメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ペンタフルオロエチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基等が挙げられ、該Ｃ_７−１３アリールカルボニル基としては、フェニルカルボニル基、ｏ−トルオイル基、ｍ−トルオイル基、ｐ−トルオイル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基等が挙げられ、該Ｃ_１−４アルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｎ−プロピルスルフィニル基、ｉ−プロピルスルフィニル基、ｎ−ブチルスルフィニル基、ｉ−ブチルスルフィニル基、ｓ−ブチルスルフィニル基、ｔ−ブチルスルフィニル基等が挙げられ、該Ｃ_６−７アリールスルフィニル基としては、ベンゼンスルフィニル基、ｏ−トルエンスルフィニル基、ｍ−トルエンスルフィニル基、ｐ−トルエンスルフィニル基等が挙げられ、該Ｃ_１−４アルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基等が挙げられ、該Ｃ_１−３モノアルキルアミノスルホニル基としては、メチルアミノスルホニル基、エチルアミノスルホニル基、ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ｉ−プロピルアミノスルホニル基等が挙げられ、該Ｃ_２−６ジアルキルアミノスルホニル基としては、ジメチルアミノスルホニル基、ジエチルアミノスルホニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノスルホニル基等が挙げられる。

Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、アミノ基、トシルアミノ基、ベンジルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、メチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、モノクロロメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ペンタフルオロエチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ｏ−トルオイル基、ｍ−トルオイル基、ｐ−トルオイル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｎ−プロピルスルフィニル基、ｉ−プロピルスルフィニル基、ｎ−ブチルスルフィニル基、ｉ−ブチルスルフィニル基、ｓ−ブチルスルフィニル基、ｔ−ブチルスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基、ｏ−トルエンスルフィニル基、ｍ−トルエンスルフィニル基、ｐ−トルエンスルフィニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、エチルアミノスルホニル基、ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ｉ−プロピルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ジエチルアミノスルホニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノスルホニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノスルホニル基が、好ましい。

Ｒ^９は、水素原子、Ｃ_１−４アルキル基、又はＣ_１−４アルコキシ基である。

Ｒ^９を具体的に説明する。該Ｃ_１−４アルキル基としては、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基が挙げられ、該Ｃ_１−４アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基が挙げられる。

Ｒ^９は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基が、好ましい。

式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ^１０は、水素原子、Ｃ_１−２２アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で置換されている。）であり、式（６）中のＲ^１１は、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、式（７）及び式（８）中のＲ^１０は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−２２アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で置換されている。）である。式（６）中のＲ^１１は、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）である。ただし、式（５）、式（６）、式（８）及び式（９）中のＲ^９とＲ^１０とが、互いに結合して前記式（１０）、式（１１）、式（１２）及び式（１３）（式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ_１−６アルキル基である。）の何れかで表される二価の基を形成してもよい。

Ｒ^１０を具体的に説明する。該Ｃ_１−２２アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、イコシル基、ドコシル基等が挙げられ、該Ｃ_１−４アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等が挙げられ、該Ｃ_６−１０アリール基は、フェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、ｍ−ブロモフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−エチルフェニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基、ｏ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｍ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブチル）フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｍ−トキシフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基等が挙げられる。

Ｒ^１０は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、イコシル基、ドコシル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、フェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｏ−クロロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、ｍ−ブロモフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−エチルフェニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｐ−エチルフェニル基、ｏ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｍ−（ｔ−ブチル）フェニル基、ｐ−（ｔ−ブチル）フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、ｏ−メトキシフェニル基、ｍ−トキシフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基が好ましい。

Ｒ^１１は、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）である。

Ｒ^１１を具体的に説明する。該Ｃ_１−２２アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられる。

Ｒ^１１は、メチル基が好ましい。

Ｒ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ_１−６アルキル基である。

Ｒ^１２を具体的に説明する。該アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられる。

Ｒ^１２は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基が好ましい。

前記式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ^９とＲ^１０とは、互いに結合して二価の基を形成してもよく、Ｒ^９とＲ^１０とが互いに結合して前記式（１１）で表される基を形成した場合、６員環が形成されるため、該化合物としては、ベンゾピラン及びその誘導体等が挙げられる。また、Ｒ^８とＲ^９とが互いに結合して前記式（１２）で表される基を形成した場合、５員環が形成されるため、該化合物としては、インデン及びその誘導体等が挙げられる。さらに、Ｒ^８とＲ^９とが互いに結合して前記式（１３）で表される基を形成した場合、６員環が形成されるため、該化合物としては、１，２−ジヒドロナフタレン及びその誘導体等が挙げられる。またさらに、Ｒ^８とＲ^９とが互いに結合して前記式（１４）で表される基を形成した場合、７員環が形成されるため、該化合物としては、１，２−ベンゾ−１，３−シクロへプタジエン及びその誘導体等が挙げられる。

式（９）及び式（１０）中の環部分構造Ａについて説明する。環部分構造Ａはベンゼン環と縮合する５、６又は７員環（該５、６又は７員環は何れも、無置換であるか、又はｈ個のＲ^１３（Ｒ^１３はハロゲン原子、水酸基、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルアミノ基、若しくはＣ_１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はアルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基若しくはアルコキシカルボニル基は、ハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルアミノ基、若しくはＣ_１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基及びアルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、カルバモイル基、スルホ基、スルホアミノ基、スルファモイル基、スルホニル基、アミノ基、カルボキシル基、Ｃ_１−６アルキルアミノ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基、Ｃ_６−１４アリールスルホンアミド基、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１４アリールスルホニル基、又はＣ_６−１４アリールカルボニル基（該アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルキルアミノカルボニル基、ジアルキルアミノカルボニル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びアリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、ｈは１〜６の整数を意味し、ｈが２〜６の場合、Ｒ^１３は同じでも異なっていてもよい。）で置換されており、環の構成原子として酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができ、環内の不飽和結合の数は、縮合するベンゼン環の不飽和結合を含め、１、２又は３であり、環を構成する炭素原子は、カルボニル又はチオカルボニルであってもよい。）である。）で表される部分構造を意味する。

前記のＲ^１３について具体的に説明する。
該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、
該Ｃ_１−６アルキル基としては、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ネオペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、１−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、トリフルオロメチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、トリフルオロメトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基及びエトキシカルボニルエチル基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルコキシ基としては、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、１−ペンチルオキシ基、２−ペンチルオキシ基、３−ペンチルオキシ基、ｉ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ、２，２−ジメチルプロポキシ基、１−ヘキシルオキシ基、２−ヘキシルオキシ基、３−ヘキシルオキシ基、１−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、３，３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、メチルカルボニルオキシメトキシ基、エチルカルボニルオキシメトキシ基、メチルカルボニルオキシエトキシ基、エチルカルボニルオキシエトキシ基、メチルカルボニルアミノメトキシ基、トリフルオロメチルカルボニルアミノメトキシ基、エチルカルボニルアミノメトキシ基、メチルカルボニルアミノエトキシ基、エチルカルボニルアミノエトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、トリフルオロメトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、メトキシカルボニルエトキシ基及びエトキシカルボニルエトキシ基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、トリフルオロメチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチルアミノ基、ｓ−ブチルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基、ｃ−ブチルアミノ基、１−ペンチルアミノ基、２−ペンチルアミノ基、３−ペンチルアミノ基、ｉ−ペンチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、ｔ−ペンチルアミノ基、ｃ−ペンチルアミノ基、１−ヘキシルアミノ基、２−ヘキシルアミノ基、３−ヘキシルアミノ基、ｃ−ヘキシルアミノ基、１−メチル−ｎ−ペンチルアミノ基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピルアミノ基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピルアミノ基及び３，３−ジメチル−ｎ−ブチルアミノ基等が挙げられ、該ジＣ_１−６アルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジ−（トリフルオロメチル）アミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｉ−プロピルアミノ基、ジ−ｃ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｉ−ブチルアミノ基、ジ−ｓ−ブチルアミノ基、ジ−ｔ−ブチルアミノ基、ジ−ｃ−ブチルアミノ基、ジ−１−ペンチルアミノ基、ジ−２−ペンチルアミノ基、ジ−３−ペンチルアミノ基、ジ−ｉ−ペンチルアミノ基、ジ−ネオペンチルアミノ基、ジ−ｔ−ペンチルアミノ基、ジ−ｃ−ペンチルアミノ基、ジ−１−ヘキシルアミノ基、ジ−２−ヘキシルアミノ基、ジ−３−ヘキシルアミノ基、ジ−ｃ−ヘキシルアミノ基、ジ−（1−メチル−ｎ−ペンチル）アミノ基、ジ−（１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノ基、ジ−（１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノ基、ジ−（３，３−ジメチル−ｎ−ブチル）アミノ基、メチル（エチル）アミノ基、メチル（ｎ−プロピル）アミノ基、メチル（ｉ−プロピル）アミノ基、メチル（ｃ−プロピル）アミノ基、メチル（ｎ−ブチル）アミノ基、メチル（ｉ−ブチル）アミノ基、メチル（ｓ−ブチル）アミノ基、メチル（ｔ−ブチル）アミノ基、メチル（ｃ−ブチル）アミノ基、エチル（ｎ−プロピル）アミノ基、エチル（ｉ−プロピル）アミノ基、エチル（ｃ−プロピル）アミノ基、エチル（ｎ−ブチル）アミノ基、エチル（ｉ−ブチル）アミノ基、エチル（ｓ−ブチル）アミノ基、エチル（ｔ−ブチル）アミノ基、エチル（ｃ−ブチル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｉ−プロピル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｃ−プロピル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノ基、ｎ−プロピル（t−ブチル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノ基、ｉ−プロピル（ｃ−プロピル）アミノ基、ｉ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノ基、ｉ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノ基、ｉ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノ基、ｉ−プロピル（t−ブチル）アミノ基、ｉ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノ基、ｃ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノ基、ｃ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノ基、ｃ−プロピル（s−ブチル）アミノ基、c−プロピル（t−ブチル）アミノ基、ｃ−プロピる（ｃ−ブチル）アミノ基、ｎ−ブチル（ｉ−ブチル）アミノ基、ｎ−ブチル（ｓ−ブチル）アミノ基、ｎ−ブチル（t−ブチル）アミノ基、ｎ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノ基、ｉ−ブチル（ｓ−ブチル）アミノ基、ｉ−ブチル（t−ブチル）アミノ基、ｉ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノ基、ｓ−ブチル（t−ブチル）アミノ基、ｓ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノ基及びｔ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノ基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基としては、メチルカルボニルアミノ基、トリフルオロメチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボニルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ｎ−ブチルカルボニルアミノ基、ｉ−ブチルカルボニルアミノ基、ｓ−ブチルカルボニルアミノ基、ｔ−ブチルカルボニルアミノ基、１−ペンチルカルボニルアミノ基、２−ペンチルカルボニルアミノ基、３−ペンチルカルボニルアミノ基、ｉ−ペンチルカルボニルアミノ基、ネオペンチルカルボニルアミノ、ｔ−ペンチルカルボニルアミノ基、１−ヘキシルカルボニルアミノ基、２−ヘキシルカルボニルアミノ基及び３−ヘキシルカルボニルアミノ基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基としては、メタンスルホンアミド基、トリフルオロメタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ｎ−プロパンスルホンアミド基、ｉ−プロパンスルホンアミド基、ｎ−ブタンスルホンアミド基、ｉ−ブタンスルホンアミド基、ｓ−ブタンスルホンアミド基、ｔ−ブタンスルホンアミド基、１−ペンタンスルンアミド基、２−ペンタンスルホンアミド基、３−ペンタンスルホンアミド基、ｉ−ペンタンスルホンアミド基、ネオペンタンスルホンアミド基、ｔ−ペンタンスルホンアミド基、１−ヘキサンスルホンアミド基、２−ヘキサンスルホンアミド基及び３−ヘキサンスルホンアミド基等が挙げられ、該Ｃ_６−１４アリールスルホンアミド基としては、ベンゼンスルホンアミド基、ｐ−トルエンスルホンアミド基、ｏ−ビフェニルスルホンアミド基、ｍ−ビフェニルスルホンアミド基、ｐ−ビフェニルスルホンアミド基、１−ナフタレンスルホンアミド基、２−ナフタレンスルホンアミド基、１−アントラセンスルホンアミド基、２−アントラセンスルホンアミド基、９−アントラセンスルホンアミド基、１−フェナントレンスルホンアミド基、２−フェナントレンスルホンアミド基、３−フェナントレンスルホンアミド基、４−フェナントレンスルホンアミド基及び９−フェナントレンスルホンアミド基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基としては、メチルアミノカルボニル基、トリフルオロメチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルアミノカルボニル基、１−ペンチルアミノカルボニル基、２−ペンチルアミノカルボニル基、３−ペンチルアミノカルボニル基、ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ネオペンチルアミノカルボニル、ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、１−ヘキシルアミノカルボニル基、２−ヘキシルアミノカルボニル基及び３−ヘキシルアミノカルボニル基等が挙げられ、該ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基としては、ジメチルアミノカルボニル基、ジ（トリフルオロメチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−１−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−２−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−３−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ネオペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−１−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−２−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−３−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−（１−メチル−ｎ−ペンチル）アミノカルボニル基、ジ−（１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ジ−（１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ジ−（３，３−ジメチル−ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（エチル）アミノカルボニル基、トリフルオロメチル（エチル）アミノカルボニル基、メチル（ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、メチル（ｉ−プロピル）アミノカルボニル基、メチル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、メチル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、エチル（ｉ−プロピル）アミノカルボニル基、エチル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、エチル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｉ−プロピル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ
−ブチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−ブチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｓ−ブチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｓ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基及びｔ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、１−ペンチルカルボニル基、２−ペンチルカルボニル基、３−ペンチルカルボニル基、ｉ−ペンチルカルボニル基、ネオペンチルカルボニル基、ｔ−ペンチルカルボニル基、１−ヘキシルカルボニル基、２−ヘキシルカルボニル基及び３−ヘキシルカルボニル基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、i−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、１−ペンチルオキシカルボニル基、２−ペンチルオキシカルボニル基、３−ペンチルオキシカルボニル基、ｉ−ペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔ−ペンチルオキシカルボニル基、１−ヘキシルオキシカルボニル基、２−ヘキシルオキシカルボニル基及び３−ヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルスルホニル基としては、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｎ−プロパンスルホニル基及びｎ−ブタンスルホニル基等が挙げられ、該Ｃ_６−１４アリールスルホニル基としては、ベンゼンスルホニル基、ｐ−フルオロベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、１−アントラセンスルホニル基、２−アントラセンスルホニル基、９−アントラセンスルホニル基、１−フェナントレンスルホニル基、２−フェナントレンスルホニル基、３−フェナントレンスルホニル基、４−フェナントレンスルホニル基及び９−フェナントレンスルホニル基等が挙げられ、該Ｃ_６−１４アリールカルボニル基としては、フェニルカルボニル基、ｐ−フルオロフェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、１−アントリルカルボニル基、２−アントリルカルボニル基、９−アントリルカルボニル基、１−フェナントリルカルボニル基、２−フェナントリルカルボニル基、３−フェナントリルカルボニル基、４−フェナントリルカルボニル基及び９−フェナントリルカルボニル基等が挙げられる。

前記のＲ^１３について、好ましい原子及び置換基を具体的に説明する。Ｒ^１３は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、トリフルオロメチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、トリフルオロメトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、３，３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基、メチルカルボニルオキシメトキシ基、エチルカルボニルオキシメトキシ基、メチルカルボニルオキシエトキシ基、エチルカルボニルオキシエトキシ基、メチルカルボニルアミノメトキシ基、トリフルオロメチルカルボニルアミノメトキシ基、エチルカルボニルアミノメトキシ基、メチルカルボニルアミノエトキシ基、エチルカルボニルアミノエトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、トリフルオロメトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、メトキシカルボニルエトキシ基、エトキシカルボニルエトキシ基、メチルアミノ基、トリフルオロメチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジ−（トリフルオロメチル）アミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｉ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、メチルカルボニルアミノ基、トリフルオロメチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボニルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ｎ−ブチルカルボニルアミノ基、メタンスルホンアミド基、トリフルオロメタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ｎ−プロパンスルホンアミド基、ｉ−プロパンスルホンアミド基、ｎ−ブタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、ｐ−トルエンスルホンアミド基、メチルアミノカルボニル基、トリフルオロメチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジ（トリフルオロメチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、メチル（エチル）アミノカルボニル基、トリフルオロメチル（エチル）アミノカルボニル基、メチルカルボニル基、トリフルオロメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、メトキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、フェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、水酸基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、カルバモイル基、スルホアミノ基、スルファモイル基、アミノ基、カルボキシル基が好ましい。

前記式（９）及び式（１０）中のＡの環部分構造が、下記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）、式（ａｇ）及び式（ａｈ）の何れかで表される場合における、

前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）、式（ａｇ）及び式（ａｈ）中のＲ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９を説明する。

前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ^１４及びＲ^１５について説明する。式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ^１４及びＲ^１５はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニルオキシ基及びアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基（該シクロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基及びアルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ_２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１４アリールスルホニル基、Ｃ_２−９ヘテロアリールスルホニル基（該アリールスルホニル基及びヘテロアリールスルホニル基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基又はＣ_２−９ヘテロアリールカルボニル基（該アリールカルボニル基及びヘテロアリールカルボニル基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）である。

前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ^１４及びＲ^１５の各置換基を具体的に説明する。
該Ｃ_１−６アルキル基としては、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ネオペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、トリフルオロメチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基及びエトキシカルボニルエチル基等が挙げられ、
該Ｃ_６−１４アリール基としては、フェニル基、ｏ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、ｐ−ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基及び９−フェナントリル基等が挙げられる。
該Ｃ_２−９ヘテロアリール基としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ_２−６単環式複素環基及び構成原子数が８〜１０までのＣ_５−９縮合二環式複素環基が含まれる。該５〜７員環までのＣ_２−６単環式複素環基としては、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フリル基、３−フリル基、２−ピラニル基、３−ピラニル基、４−ピラニル基、１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イソオキサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピラジニル基、２−ピリミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、３−ピリダジニル基、４−ピリダジニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリル基、２−１，３，４−チアジアゾリル基、３−１，２，４−オキサジアゾリル基、５−１，２，４−オキサジアゾリル基、３−１，２，４−チアジアゾリル基、５−１，２，４−チアジアゾリル基、３−１，２，５−オキサジアゾリル基及び３−１，２，５−チアジアゾリル基等が挙げられ、
構成原子数が８〜１０までの該Ｃ_５−９縮合二環式複素環基としては、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、２−ベンゾチエニル基、３−ベンゾチエニル基、４−ベンゾチエニル基、５−ベンゾチエニル基、６−ベンゾチエニル基、７−ベンゾチエニル基、１−イソベンゾチエニル基、４−イソベンゾチエニル基、５−イソベンゾチエニル基、２−クロメニル基、３−クロメニル基、４−クロメニル基、５−クロメニル基、６−クロメニル基、７−クロメニル基、８−クロメニル基、１−インドリジニル基、２−インドリジニル基、３−インドリジニル基、５−インドリジニル基、６−インドリジニル基、７−インドリジニル基、８−インドリジニル基、１−イソインドリル基、２−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−インダゾリル基、２−インダゾリル基、３−インダゾリル基、４−インダゾリル基、５−インダゾリル基、６−インダゾリル基、７−インダゾリル基、１−プリニル基、２−プリニル基、３−プリニル基、６−プリニル基、７−プリニル基、８−プリニル基、２−キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、１−フタラジニル基、５−フタラジニル基、６−フタラジニル基、１−２，７−ナフチリジニル基、３−２，７−ナフチリジニル基、４−２，７−ナフチリジニル基、１−２，６−ナフチリジニル基、３−２，６−ナフチリジニル基、４−２，６−ナフチリジニル基、２−１，８−ナフチリジニル基、３−１，８−ナフチリジニル基、４−１，８−ナフチリジニル基、２−１，７−ナフチリジニル基、３−１，７−ナフチリジニル基、４−１，７−ナフチリジニル基、５−１，７−ナフチリジニル基、６−１，７−ナフチリジニル基、８−１，７−ナフチリジニル基、２−１，６−ナフチリジニル基、３−１，６−ナフチリジニル基、４−１，６−ナフチリジニル基、５−１，６−ナフチリジニル基、７−１，６−ナフチリジニル基、８−１，６−ナフチリジニル基、２−１，５−ナフチリジニル基、３−１，５−ナフチリジニル基、４−１，５−ナフチリジニル基、６−１，５−ナフチリジニル基、７−１，５−ナフチリジニル基、８−１，５−ナフチリジニル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、２−キナゾリニル基、４−キナゾリニル基、５−キナゾリニル基、６−キナゾリニル基、７−キナゾリニル基、８−キナゾリニル基、３−シンノリニル基、４−シンノリニル基、５−シンノリニル基、６−シンノリニル基、７−シンノリニル基、８−シンノリニル基、２−プテリジニル基、４−プテリジニル基、６−プテリジニル基及び７−プテリジニル基等が挙げられる。該Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基としては、
メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルアミノカルボニル基、１−ペンチルアミノカルボニル基、２−ペンチルアミノカルボニル基、３−ペンチルアミノカルボニル基、ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ネオペンチルアミノカルボニル、ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、１−ヘキシルアミノカルボニル基、２−ヘキシルアミノカルボニル基及び３−ヘキシルアミノカルボニル基等が挙げられ、該ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基としては、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−１−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−２−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−３−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ネオペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−１−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−２−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−３−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−（１−メチル−ｎ−ペンチル）アミノカルボニル基、ジ−（１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ジ−（１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ジ−（３，３−ジメチル−ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（エチル）アミノカルボニル基、メチル（ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、メチル（ｉ−プロピル）アミノカルボニル基、メチル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、メチル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、エチル（ｉ−プロピル）アミノカルボニル基、エチル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、エチル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｉ−プロピル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−ブチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−ブチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｓ−ブチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｓ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基及びｔ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、１−ペンチルカルボニル基、２−ペンチルカルボニル基、３−ペンチルカルボニル基、ｉ−ペンチルカルボニル基、ネオペンチルカルボニル基、ｔ−ペンチルカルボニル基、１−ヘキシルカルボニル基、２−ヘキシルカルボニル基及び３−ヘキシルカルボニル基が挙げられ、該Ｃ_３−８シクロアルキルカルボニル基としては、ｃ−プロピルカルボニル基、ｃ−ブチルカルボニル基、１−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基、ｃ−ペンチルカルボニル基、１−メチル−ｃ−ブチルカルボニル基、２−メチル−ｃ−ブチルカルボニル基、３−メチル−ｃ−ブチルカルボニル基、１，２−ジメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２，３−ジメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、１−エチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−エチル−ｃ−プロピルカルボニル基、ｃ−ヘキシルカルボニル基、ｃ−ヘプチルカルボニル基、ｃ−オクチルカルボニル基、１−メチル−ｃ−ヘキシルカルボニル基、２−メチル−ｃ−ヘキシルカルボニル基、３−メチル−ｃ−ヘキシルカルボニル基、１，２−ジメチル−ｃ−ヘキシルカルボニル基、２，３−ジメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、１−エチル−ｃ−プロピルカルボニル基、１−メチル−ｃ−ペンチルカルボニル基、２−メチル−ｃ−ペンチルカルボニル基、３−メチル−ｃ−ペンチルカルボニル基、１−エチル−ｃ−ブチルカルボニル基、２−エチル−ｃ−ブチルカルボニル基、３−エチル−ｃ−ブチルカルボニル基、１，２−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、１，３−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、２，２−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、２，３−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、２，４−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、３，３−ジメチル−ｃ−ブチルカルボニル基、１−ｎ−プロピル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−ｎ−プロピル−ｃ−プロピルカルボニル基、１−ｉ−プロピル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−ｉ−プロピル−ｃ−プロピルカルボニル基、１，２，２−トリメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、１，２，３−トリメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２，２，３−トリメチル−ｃ−プロピルカルボニル基、１−エチル−２−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−エチル−１−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基、２−エチル−２−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基及び２−エチル−３−メチル−ｃ−プロピルカルボニル基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、１−ペンチルオキシカルボニル基、２−ペンチルオキシカルボニル基、３−ペンチルオキシカルボニル基、ｉ−ペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔ−ペンチルオキシカルボニル基、１−ヘキシルオキシカルボニル基、２−ヘキシルオキシカルボニル基及び３−ヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルスルホニル基としては、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基及びエタンスルホニル基が挙げられ、該Ｃ_６−１４アリールスルホニル基としては、ベンゼンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、１−アントラセンスルホニル基、２−アントラセンスルホニル基、９−アントラセンスルホニル基、１−フェナントレンスルホニル基、２−フェナントレンスルホニル基、３−フェナントレンスルホニル基、４−フェナントレンスルホニル基及び９−フェナントレンスルホニル基等が挙げられる。
該Ｃ_２−９ヘテロアリールスルホニル基としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ_２−６単環式複素環スルホニル基及び構成原子数が８〜１０までのＣ_５−９縮合二環式複素環スルホニル基が含まれる。該５〜７員環までのＣ_２−６単環式複素環スルホニル基としては、２−チエニルスルホニル基、３−チエニルスルホニル基、２−フリルスルホニル基、３−フリルスルホニル基、２−ピラニルスルホニル基、３−ピラニルスルホニル基、４−ピラニルスルホニル基、１−ピロリルスルホニル基、２−ピロリルスルホニル基、３−ピロリルスルホニル基、１−イミダゾリルスルホニル基、２−イミダゾリルスルホニル基、４−イミダゾリルスルホニル基、１−ピラゾリルスルホニル基、３−ピラゾリルスルホニル基、４−ピラゾリルスルホニル基、２−チアゾリルスルホニル基、４−チアゾリルスルホニル基、５−チアゾリルスルホニル基、３−イソチアゾリルスルホニル基、４−イソチアゾリルスルホニル基、５−イソチアゾリルスルホニル基、２−オキサゾリルスルホニル基、４−オキサゾリルスルホニル基、５−オキサゾリルスルホニル基、３−イソオキサゾリルスルホニル基、４−イソオキサゾリルスルホニル基、５−イソオキサゾリルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基、３−ピリジルスルホニル基、４−ピリジルスルホニル基、２−ピラジニルスルホニル基、２−ピリミジニルスルホニル基、４−ピリミジニルスルホニル基、５−ピリミジニルスルホニル基、３−ピリダジニルスルホニル基、４−ピリダジニルスルホニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリルスルホニル基、２−１，３，４−チアジアゾリルスルホニル基、３−１，２，４−オキサジアゾリルスルホニル基、５−１，２，４−オキサジアゾリルスルホニル基、３−１，２，４−チアジアゾリルスルホニル基、５−１，２，４−チアジアゾリルスルホニル基、３−１，２，５−オキサジアゾリルスルホニル基及び３−１，２，５−チアジアゾリルスルホニル基等が挙げられる。
構成原子数が８〜１０までの該Ｃ_５−９縮合二環式複素環スルホニル基としては、２−ベンゾフラニルスルホニル基、３−ベンゾフラニルスルホニル基、４−ベンゾフラニルスルホニル基、５−ベンゾフラニルスルホニル基、６−ベンゾフラニルスルホニル基、７−ベンゾフラニルスルホニル基、１−イソベンゾフラニルスルホニル基、４−イソベンゾフラニルスルホニル基、５−イソベンゾフラニルスルホニル基、２−ベンゾチエニルスルホニル基、３−ベンゾチエニルスルホニル基、４−ベンゾチエニルスルホニル基、５−ベンゾチエニルスルホニル基、６−ベンゾチエニルスルホニル基、７−ベンゾチエニルスルホニル基、１−イソベンゾチエニルスルホニル基、４−イソベンゾチエニルスルホニル基、５−イソベンゾチエニルスルホニル基、２−クロメニルスルホニル基、３−クロメニルスルホニル基、４−クロメニルスルホニル基、５−クロメニルスルホニル基、６−クロメニルスルホニル基、７−クロメニルスルホニル基、８−クロメニルスルホニル基、１−インドリジニルスルホニル基、２−インドリジニルスルホニル基、３−インドリジニルスルホニル基、５−インドリジニルスルホニル基、６−インドリジニルスルホニル基、７−インドリジニルスルホニル基、８−インドリジニルスルホニル基、１−イソインドリルスルホニル基、２−イソインドリルスルホニル基、４−イソインドリルスルホニル基、５−イソインドリルスルホニル基、１−インドリルスルホニル基、２−インドリルスルホニル基、３−インドリルスルホニル基、４−インドリルスルホニル基、５−インドリルスルホニル基、６−インドリルスルホニル基、７−インドリルスルホニル基、１−インダゾリルスルホニル基、２−インダゾリルスルホニル基、３−インダゾリルスルホニル基、４−インダゾリルスルホニル基、５−インダゾリルスルホニル基、６−インダゾリルスルホニル基、７−インダゾリルスルホニル基、１−プリニルスルホニル基、２−プリニルスルホニル基、３−プリニルスルホニル基、６−プリニルスルホニル基、７−プリニルスルホニル基、８−プリニルスルホニル基、２−キノリルスルホニル基、３−キノリルスルホニル基、４−キノリルスルホニル基、５−キノリルスルホニル基、６−キノリルスルホニル基、７−キノリルスルホニル基、８−キノリルスルホニル基、１−イソキノリルスルホニル基、３−イソキノリルスルホニル基、４−イソキノリルスルホニル基、５−イソキノリルスルホニル基、６−イソキノリルスルホニル基、７−イソキノリルスルホニル基、８−イソキノリルスルホニル基、１−フタラジニルスルホニル基、５−フタラジニルスルホニル基、６−フタラジニルスルホニル基、１−２、７−ナフチリジニルスルホニル基、３−２，７−ナフチリジニルスルホニル基、４−２，７−ナフチリジニルスルホニル基、１−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、３−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、４−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、５−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、６−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、５−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、７−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、６−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、７−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、２−キノキサリニルスルホニル基、５−キノキサリニルスルホニル基、６−キノキサリニルスルホニル基、２−キナゾリニルスルホニル基、４−キナゾリニルスルホニル基、５−キナゾリニルスルホニル基、６−キナゾリニルスルホニル基、７−キナゾリニルスルホニル基、８−キナゾリニルスルホニル基、３−シンノリニルスルホニル基、４−シンノリニルスルホニル基、５−シンノリニルスルホニル基、６−シンノリニルスルホニル基、７−シンノリニルスルホニル基、８−シンノリニルスルホニル基、２−プテリジニルスルホニル基、４−プテリジニルスルホニル基、６−プテリジニルスルホニル基及び７−プテリジニルスルホニル基等が挙げられる。該Ｃ_６−１４アリールカルボニル基としては、フェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、１−アントリルカルボニル基、２−アントリルカルボニル基、９−アントリルカルボニル基、１−フェナントリルカルボニル基、２−フェナントリルカルボニル基、３−フェナントリルカルボニル基、４−フェナントリルカルボニル基及び９−フェナントリルカルボニル基等が挙げられる。
該Ｃ_２−９ヘテロアリールカルボニル基としては、
酸素原子、窒素原子、硫黄原子が１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ_２−６単環式複素環カルボニル基及び構成原子数が８〜１０までのＣ_５−９縮合二環式複素環カルボニル基が含まれる。該５〜７員環までのＣ_２−６単環式複素環カルボニル基としては、２−チエニルカルボニル基、３−チエニルカルボニル基、２−フリルカルボニル基、３−フリルカルボニル基、２−ピラニルカルボニル基、３−ピラニルカルボニル基、４−ピラニルカルボニル基、１−ピロリルカルボニル基、２−ピロリルカルボニル基、３−ピロリルカルボニル基、１−イミダゾリルカルボニル基、２−イミダゾリルカルボニル基、４−イミダゾリルカルボニル基、１−ピラゾリルカルボニル基、３−ピラゾリルカルボニル基、４−ピラゾリルカルボニル基、２−チアゾリルカルボニル基、４−チアゾリルカルボニル基、５−チアゾリルカルボニル基、３−イソチアゾリルカルボニル基、４−イソチアゾリルカルボニル基、５−イソチアゾリルカルボニル基、２−オキサゾリルカルボニル基、４−オキサゾリルカルボニル基、５−オキサゾリルカルボニル基、３−イソオキサゾリルカルボニル基、４−イソオキサゾリルカルボニル基、５−イソオキサゾリルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、３−ピリジルカルボニル基、４−ピリジルカルボニル基、２−ピラジニルカルボニル基、２−ピリミジニルカルボニル基、４−ピリミジニルカルボニル基、５−ピリミジニルカルボニル基、３−ピリダジニルカルボニル基、４−ピリダジニルカルボニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリルカルボニル基、２−１，３，４−チアジアゾリルカルボニル基、３−１，２，４−オキサジアゾリルカルボニル基、５−１，２，４−オキサジアゾリルカルボニル基、３−１，２，４−チアジアゾリルカルボニル基、５−１，２，４−チアジアゾリルカルボニル基、３−１，２，５−オキサジアゾリルカルボニル基及び３−１，２，５−チアジアゾリルカルボニル基等が挙げられる。
構成原子数が８〜１０までの該Ｃ_５−９縮合二環式複素環カルボニル基としては、
２−ベンゾフラニルカルボニル基、３−ベンゾフラニルカルボニル基、４−ベンゾフラニルカルボニル基、５−ベンゾフラニルカルボニル基、６−ベンゾフラニルカルボニル基、７−ベンゾフラニルカルボニル基、１−イソベンゾフラニルカルボニル基、４−イソベンゾフラニルカルボニル基、５−イソベンゾフラニルカルボニル基、２−ベンゾチエニルカルボニル基、３−ベンゾチエニルカルボニル基、４−ベンゾチエニルカルボニル基、５−ベンゾチエニルカルボニル基、６−ベンゾチエニルカルボニル基、７−ベンゾチエニルカルボニル基、１−イソベンゾチエニルカルボニル基、４−イソベンゾチエニルカルボニル基、５−イソベンゾチエニルカルボニル基、２−クロメニルカルボニル基、３−クロメニルカルボニル基、４−クロメニルカルボニル基、５−クロメニルカルボニル基、６−クロメニルカルボニル基、７−クロメニルカルボニル基、８−クロメニルカルボニル基、１−インドリジニルカルボニル基、２−インドリジニルカルボニル基、３−インドリジニルカルボニル基、５−インドリジニルカルボニル基、６−インドリジニルカルボニル基、７−インドリジニルカルボニル基、８−インドリジニルカルボニル基、１−イソインドリルカルボニル基、２−イソインドリルカルボニル基、４−イソインドリルカルボニル基、５−イソインドリルカルボニル基、１−インドリルカルボニル基、２−インドリルカルボニル基、３−インドリルカルボニル基、４−インドリルカルボニル基、５−インドリルカルボニル基、６−インドリルカルボニル基、７−インドリルカルボニル基、１−インダゾリルカルボニル基、２−インダゾリルカルボニル基、３−インダゾリルカルボニル基、４−インダゾリルカルボニル基、５−インダゾリルカルボニル基、６−インダゾリルカルボニル基、７−インダゾリルカルボニル基、１−プリニルカルボニル基、２−プリニルカルボニル基、３−プリニルカルボニル基、６−プリニルカルボニル基、７−プリニルカルボニル基、８−プリニルカルボニル基、２−キノリルカルボニル基、３−キノリルカルボニル基、４−キノリルカルボニル基、５−キノリルカルボニル基、６−キノリルカルボニル基、７−キノリルカルボニル基、８−キノリルカルボニル基、１−イソキノリルカルボニル基、３−イソキノリルカルボニル基、４−イソキノリルカルボニル基、５−イソキノリルカルボニル基、６−イソキノリルカルボニル基、７−イソキノリルカルボニル基、８−イソキノリルカルボニル基、１−フタラジニルカルボニル基、５−フタラジニルカルボニル基、６−フタラジニルカルボニル基、１−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、３−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、４−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、１−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、３−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、４−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、５−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、６−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、５−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、７−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、６−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、７−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、２−キノキサリニルカルボニル基、５−キノキサリニルカルボニル基、６−キノキサリニルカルボニル基、２−キナゾリニルカルボニル基、４−キナゾリニルカルボニル基、５−キナゾリニルカルボニル基、６−キナゾリニルカルボニル基、７−キナゾリニルカルボニル基、８−キナゾリニルカルボニル基、３−シンノリニルカルボニル基、４−シンノリニルカルボニル基、５−シンノリニルカルボニル基、６−シンノリニルカルボニル基、７−シンノリニルカルボニル基、８−シンノリニルカルボニル基、２−プテリジニルカルボニル基、４−プテリジニルカルボニル基、６−プテリジニルカルボニル基及び７−プテリジニルカルボニル基等が挙げられる。

式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ^１４及びＲ^１５は、
それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、フェニル基、ｏ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、ｐ−ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｃ−ペンチルカルボニル基、ｃ−ヘキシルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基、３−ピリジルスルホニル基、４−ピリジルスルホニル基、フェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、３−ピリジルカルボニル基、４−ピリジルカルボニル基が好ましい。

前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ^１４，Ｒ^１５，Ｒ^１６及びＲ^１７について説明する。式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ^１６，Ｒ^１７，Ｒ^１８及びＲ^１９はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６カルボニルオキシ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニルオキシ基及びアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基（該シクロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基及びアルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ_２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ_３−８シクロアルキル基（該シクロアルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基若しくはＣ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は、何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ_１−６チオアルコキシ基（該チオアルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、若しくはＣ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、スルホ基、Ｃ_１−６アルキルアミノ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、Ｃ_６−１４アリールアミノ基、Ｃ_２−９ヘテロアリールアミノ基（該アリールアミノ基及びヘテロアリールアミノ基は、何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基、Ｃ_２−９ヘテロアリールカルボニル基（該アリールカルボニル基及びヘテロアリールカルボニル基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１４アリールスルホニル基、Ｃ_２−９ヘテロアリールスルホニル基（該アリールスルホニル基及びヘテロアリールスルホニル基は、何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、カルボキシル基、若しくはＣ_２−９ヘテロシクリル基（該ヘテロシクリル基は、、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、カルボキシル基、若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、水酸基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、Ｃ_１−６アルキルアミノ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、カルボキシル基、若しくはＣ_６−１４アリールカルボニル基で置換されている。）である。

式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ^１６，Ｒ^１７，Ｒ^１８及びＲ^１９の各原子及び各置換基を具体的に説明する。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ネオペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル基及び３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基及びエトキシカルボニルエチル基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、１−ペンチルオキシ基、２−ペンチルオキシ基、３−ペンチルオキシ、ｉ−ペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、２，２−ジメチルプロポキシ、１−ヘキシルオキシ、２−ヘキシルオキシ基、３−ヘキシルオキシ基、１−メチル−ｎ−ペンチルオキシ基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロポキシ基及び３，３−ジメチル−ｎ−ブトキシ基等が挙げられ、該Ｃ_６−１４アリール基として、フェニル基、ｏ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、ｐ−ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基及び９−フェナントリル基等が挙げられる。
該Ｃ_２−９ヘテロアリール基としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ_２−６単環式複素環基及び構成原子数が８〜１０までのＣ_５−９縮合二環式複素環基が含まれる。
該５〜７員環までのＣ_２−６単環式複素環基としては、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フリル基、３−フリル基、２−ピラニル基、３−ピラニル基、４−ピラニル基、１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イソオキサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピラジニル基、２−ピリミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、３−ピリダジニル基、４−ピリダジニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリル基、２−１，３，４−チアジアゾリル基、３−１，２，４−オキサジアゾリル基、５−１，２，４−オキサジアゾリル基、３−１，２，４−チアジアゾリル基、５−１，２，４−チアジアゾリル基、３−１，２，５−オキサジアゾリル基及び３−１，２，５−チアジアゾリル基等が挙げられる。
構成原子数が８〜１０までの該Ｃ_５−９縮合二環式複素環基としては、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、２−ベンゾチエニル基、３−ベンゾチエニル基、４−ベンゾチエニル基、５−ベンゾチエニル基、６−ベンゾチエニル基、７−ベンゾチエニル基、１−イソベンゾチエニル基、４−イソベンゾチエニル基、５−イソベンゾチエニル基、２−クロメニル基、３−クロメニル基、４−クロメニル基、５−クロメニル基、６−クロメニル基、７−クロメニル基、８−クロメニル基、１−インドリジニル基、２−インドリジニル基、３−インドリジニル基、５−インドリジニル基、６−インドリジニル基、７−インドリジニル基、８−インドリジニル基、１−イソインドリル基、２−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−インダゾリル基、２−インダゾリル基、３−インダゾリル基、４−インダゾリル基、５−インダゾリル基、６−インダゾリル基、７−インダゾリル基、１−プリニル基、２−プリニル基、３−プリニル基、６−プリニル基、７−プリニル基、８−プリニル基、２−キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、１−フタラジニル基、５−フタラジニル基、６−フタラジニル基、１−２，７−ナフチリジニル基、３−２，７−ナフチリジニル基、４−２，７−ナフチリジニル基、１−２，６−ナフチリジニル基、３−２，６−ナフチリジニル基、４−２，６−ナフチリジニル基、２−１，８−ナフチリジニル基、３−１，８−ナフチリジニル基、４−１，８−ナフチリジニル基、２−１，７−ナフチリジニル基、３−１，７−ナフチリジニル基、４−１，７−ナフチリジニル基、５−１，７−ナフチリジニル基、６−１，７−ナフチリジニル基、８−１，７−ナフチリジニル基、２−１，６−ナフチリジニル基、３−１，６−ナフチリジニル基、４−１，６−ナフチリジニル基、５−１，６−ナフチリジニル基、７−１，６−ナフチリジニル基、８−１，６−ナフチリジニル基、２−１，５−ナフチリジニル基、３−１，５−ナフチリジニル基、４−１，５−ナフチリジニル基、６−１，５−ナフチリジニル基、７−１，５−ナフチリジニル基、８−１，５−ナフチリジニル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、２−キナゾリニル基、４−キナゾリニル基、５−キナゾリニル基、６−キナゾリニル基、７−キナゾリニル基、８−キナゾリニル基、３−シンノリニル基、４−シンノリニル基、５−シンノリニル基、６−シンノリニル基、７−シンノリニル基、８−シンノリニル基、２−プテリジニル基、４−プテリジニル基、６−プテリジニル基及び７−プテリジニル基等が挙げられる。
該Ｃ_１−６アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｉ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｉ−ブチルカルボニルオキシ基、ｓ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基、１−ペンチルカルボニルオキシ基、２−ペンチルカルボニルオキシ基、３−ペンチルカルボニルオキシ基、ｉ−ペンチルカルボニルオキシ基、ネオペンチルカルボニルオキシ基、ｔ−ペンチルカルボニルオキシ基、１−ヘキシルカルボニルオキシ基、２−ヘキシルカルボニルオキシ基、３−ヘキシルカルボニルオキシ基、１−メチル−ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピルカルボニルオキシ基及び３，３−ジメチル−ｎ−ブチルカルボニルオキシ基等が挙げられ、
該Ｃ_１−６アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｃ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチルアミノ基、ｓ−ブチルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基、ｃ−ブチルアミノ基、１−ペンチルアミノ基、２−ペンチルアミノ基、３−ペンチルアミノ基、ｉ−ペンチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、ｔ−ペンチルアミノ基、ｃ−ペンチルアミノ基、１−ヘキシルアミノ基、２−ヘキシルアミノ基、３−ヘキシルアミノ基、ｃ−ヘキシルアミノ基、１−メチル−ｎ−ペンチルアミノ基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピルアミノ基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピルアミノ基及び３，３−ジメチル−ｎ−ブチルアミノ基等が挙げられ、該ジＣ_１−６アルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｉ−プロピルアミノ基、ジ−ｃ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｉ−ブチルアミノ基、ジ−ｓ−ブチルアミノ基、ジ−ｔ−ブチルアミノ基、ジ−ｃ−ブチルアミノ基、ジ−１−ペンチルアミノ基、ジ−２−ペンチルアミノ基、ジ−３−ペンチルアミノ基、ジ−ｉ−ペンチルアミノ基、ジ−ネオペンチルアミノ基、ジ−ｔ−ペンチルアミノ基、ジ−ｃ−ペンチルアミノ基、ジ−１−ヘキシルアミノ基、ジ−２−ヘキシルアミノ基、ジ−３−ヘキシルアミノ基、ジ−ｃ−ヘキシルアミノ基、ジ−（１−メチル−ｎ−ペンチル）アミノ基、ジ−（１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノ基、ジ−（１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノ基、ジ−（３，３−ジメチル−ｎ−ブチル）アミノ基、メチル（エチル）アミノ基、メチル（ｎ−プロピル）アミノ基、メチル（ｉ−プロピル）アミノ基、メチル（ｃ−プロピル）アミノ基、メチル（ｎ−ブチル）アミノ基、メチル（ｉ−ブチル）アミノ基、メチル（ｓ−ブチル）アミノ基、メチル（t−ブチル）アミノ基、メチル（ｃ−ブチル）アミノ基、エチル（ｎ−プロピル）アミノ基、エチル（ｉ−プロピル）アミノ基、エチル（ｃ−プロピル）アミノ基、エチル（ｎ−ブチル）アミノ基、エチル（ｉ−ブチル）アミノ基、エチル（ｓ−ブチル）アミノ基、エチル（t−ブチル）アミノ基、エチル（ｃ−ブチル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｉ−プロピル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｃ−プロピル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノ基、ｎ−プロピル（t−ブチル）アミノ基、ｎ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノ基、ｉ−プロピル（ｃ−プロピル）アミノ基、ｉ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノ基、ｉ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノ基、ｉ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノ基、ｉ−プロピル（t−ブチル）アミノ基、ｉ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノ基、ｃ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノ基、ｃ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノ基、ｃ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノ基、ｃ−プロピル（t−ブチル）アミノ基、ｃ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノ基、ｎ−ブチル（ｉ−ブチル）アミノ基、ｎ−ブチル（ｓ−ブチル）アミノ基、ｎ−ブチル（t−ブチル）アミノ基、ｎ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノ基、ｉ−ブチル（ｓ−ブチル）アミノ基、ｉ−ブチル（t−ブチル）アミノ基、ｉ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノ基、ｓ−ブチル（t−ブチル）アミノ基、ｓ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノ基及びｔ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノ基等が挙げられ、該Ｃ_６−１４アリールアミノ基としては、フェニルアミノ基、ｏ−ビフェニリルアミノ基、ｍ−ビフェニリルアミノ基、ｐ−ビフェニリルアミノ基、１−ナフチルアミノ基、２−ナフチルアミノ基、１−アントリルアミノ基、２−アントリルアミノ基、９−アントリルアミノ基、１−フェナントリルアミノ基、２−フェナントリルアミノ基、３−フェナントリルアミノ基、４−フェナントリルアミノ基及び９−フェナントリルアミノ基が挙げられる。
該Ｃ_２−９ヘテロアリールアミノ基としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ_２−６単環式複素環アミノ基及び構成原子数が８〜１０までのＣ_５−９縮合二環式複素環アミノ基が含まれる。５〜７員環までの該Ｃ_２−６単環式複素環アミノ基としては、２−チエニルアミノ基、３−チエニルアミノ基、２−フリルアミノ基、３−フリルアミノ基、２−ピラニルアミノ基、３−ピラニルアミノ基、４−ピラニルアミノ基、１−ピロリルアミノ基、２−ピロリルアミノ基、３−ピロリルアミノ基、１−イミダゾリルアミノ基、２−イミダゾリルアミノ基、４−イミダゾリルアミノ基、１−ピラゾリルアミノ基、３−ピラゾリルアミノ基、４−ピラゾリルアミノ基、２−チアゾリルアミノ基、４−チアゾリルアミノ基、５−チアゾリルアミノ基、３−イソチアゾリルアミノ基、４−イソチアゾリルアミノ基、５−イソチアゾリルアミノ基、２−オキサゾリルアミノ基、４−オキサゾリルアミノ基、５−オキサゾリルアミノ基、３−イソオキサゾリルアミノ基、４−イソオキサゾリルアミノ基、５−イソオキサゾリルアミノ基、２−ピリジルアミノ基、３−ピリジルアミノ基、４−ピリジルアミノ基、２−ピラジニルアミノ基、２−ピリミジニルアミノ基、４−ピリミジニルアミノ基、５−ピリミジニルアミノ基、３−ピリダジニルアミノ基、４−ピリダジニルアミノ基、２−１，３，４−オキサジアゾリルアミノ基、２−１，３，４−チアジアゾリルアミノ基、３−１，２，４−オキサジアゾリルアミノ基、５−１，２，４−オキサジアゾリルアミノ基、３−１，２，４−チアジアゾリルアミノ基、５−１，２，４−チアジアゾリルアミノ基、３−１，２，５−オキサジアゾリルアミノ基及び３−１，２，５−チアジアゾリルアミノ基等が挙げられる。
構成原子数が８〜１０までの該Ｃ_５−９縮合二環式複素環アミノ基としては、
２−ベンゾフラニルアミノ基、３−ベンゾフラニルアミノ基、４−ベンゾフラニルアミノ基、５−ベンゾフラニルアミノ基、６−ベンゾフラニルアミノ基、７−ベンゾフラニルアミノ基、１−イソベンゾフラニルアミノ基、４−イソベンゾフラニルアミノ基、５−イソベンゾフラニルアミノ基、２−ベンゾチエニルアミノ基、３−ベンゾチエニルアミノ基、４−ベンゾチエニルアミノ基、５−ベンゾチエニルアミノ基、６−ベンゾチエニルアミノ基、７−ベンゾチエニルアミノ基、１−イソベンゾチエニルアミノ基、４−イソベンゾチエニルアミノ基、５−イソベンゾチエニルアミノ基、２−クロメニルアミノ基、３−クロメニルアミノ基、４−クロメニルアミノ基、５−クロメニルアミノ基、６−クロメニルアミノ基、７−クロメニルアミノ基、８−クロメニルアミノ基、１−インドリジニルアミノ基、２−インドリジニルアミノ基、３−インドリジニルアミノ基、５−インドリジニルアミノ基、６−インドリジニルアミノ基、７−インドリジニルアミノ基、８−インドリジニルアミノ基、１−イソインドリルアミノ基、２−イソインドリルアミノ基、４−イソインドリルアミノ基、５−イソインドリルアミノ基、１−インドリルアミノ基、２−インドリルアミノ基、３−インドリルアミノ基、４−インドリルアミノ基、５−インドリルアミノ基、６−インドリルアミノ基、７−インドリルアミノ基、１−インダゾリルアミノ基、２−インダゾリルアミノ基、３−インダゾリルアミノ基、４−インダゾリルアミノ基、５−インダゾリルアミノ基、６−インダゾリルアミノ基、７−インダゾリルアミノ基、１−プリニルアミノ基、２−プリニルアミノ基、３−プリニルアミノ基、６−プリニルアミノ基、７−プリニルアミノ基、８−プリニルアミノ基、２−キノリルアミノ基、３−キノリルアミノ基、４−キノリルアミノ基、５−キノリルアミノ基、６−キノリルアミノ基、７−キノリルアミノ基、８−キノリルアミノ基、１−イソキノリルアミノ基、３−イソキノリルアミノ基、４−イソキノリルアミノ基、５−イソキノリルアミノ基、６−イソキノリルアミノ基、７−イソキノリルアミノ基、８−イソキノリルアミノ基、１−フタラジニルアミノ基、５−フタラジニルアミノ基、６−フタラジニルアミノ基、１−２、７−ナフチリジニルアミノ基、３−２，７−ナフチリジニルアミノ基、４−２，７−ナフチリジニルアミノ基、１−２，６−ナフチリジニルアミノ基、３−２，６−ナフチリジニルアミノ基、４−２，６−ナフチリジニルアミノ基、２−１，８−ナフチリジニルアミノ基、３−１，８−ナフチリジニルアミノ基、４−１，８−ナフチリジニルアミノ基、２−１，７−ナフチリジニルアミノ基、３−１，７−ナフチリジニルアミノ基、４−１，７−ナフチリジニルアミノ基、５−１，７−ナフチリジニルアミノ基、６−１，７−ナフチリジニルアミノ基、８−１，７−ナフチリジニルアミノ基、２−１，６−ナフチリジニルアミノ基、３−１，６−ナフチリジニルアミノ基、４−１，６−ナフチリジニルアミノ基、５−１，６−ナフチリジニルアミノ基、７−１，６−ナフチリジニルアミノ基、８−１，６−ナフチリジニルアミノ基、２−１，５−ナフチリジニルアミノ基、３−１，５−ナフチリジニルアミノ基、４−１，５−ナフチリジニルアミノ基、６−１，５−ナフチリジニルアミノ基、７−１，５−ナフチリジニルアミノ基、８−１，５−ナフチリジニルアミノ基、２−キノキサリニルアミノ基、５−キノキサリニルアミノ基、６−キノキサリニルアミノ基、２−キナゾリニルアミノ基、４−キナゾリニルアミノ基、５−キナゾリニルアミノ基、６−キナゾリニルアミノ基、７−キナゾリニルアミノ基、８−キナゾリニルアミノ基、３−シンノリニルアミノ基、４−シンノリニルアミノ基、５−シンノリニルアミノ基、６−シンノリニルアミノ基、７−シンノリニルアミノ基、８−シンノリニルアミノ基、２−プテリジニルアミノ基、４−プテリジニルアミノ基、６−プテリジニルアミノ基及び７−プテリジニルアミノ基等が挙げられる。
該Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基としては、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボニルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ｎ−ブチルカルボニルアミノ基、ｉ−ブチルカルボニルアミノ基、ｓ−ブチルカルボニルアミノ基、ｔ−ブチルカルボニルアミノ基、１−ペンチルカルボニルアミノ基、２−ペンチルカルボニルアミノ基、３−ペンチルカルボニルアミノ基、ｉ−ペンチルカルボニルアミノ基、ネオペンチルカルボニルアミノ基、ｔ−ペンチルカルボニルアミノ基、１−ヘキシルカルボニルアミノ基、２−ヘキシルカルボニルアミノ基及び３−ヘキシルカルボニルアミノ基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基としては、メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ｎ−プロパンスルホンアミド基、ｉ−プロパンスルホンアミド基、ｎ−ブタンスルホンアミド基、ｉ−ブタンスルホンアミド基、ｓ−ブタンスルホンアミド基、ｔ−ブタンスルホンアミド基、１−ペンタンスルンアミド基、２−ペンタンスルホンアミド基、３−ペンタンスルホンアミド基、ｉ−ペンタンスルホンアミド基、ネオペンタンスルホンアミド基、ｔ−ペンタンスルホンアミド基、１−ヘキサンスルホンアミド基、２−ヘキサンスルホンアミド基及び３−ヘキサンスルホンアミド基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基としては、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ｔ−ブチルアミノカルボニル基、１−ペンチルアミノカルボニル基、２−ペンチルアミノカルボニル基、３−ペンチルアミノカルボニル基、ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ネオペンチルアミノカルボニル、ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、１−ヘキシルアミノカルボニル基、２−ヘキシルアミノカルボニル基及び３−ヘキシルアミノカルボニル基等が挙げられ、該ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基としては、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｓ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−１−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−２−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−３−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ネオペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｔ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−１−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−２−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−３−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−（１−メチル−ｎ−ペンチル）アミノカルボニル基、ジ−（１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ジ−（１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、ジ−（３，３−ジメチル−ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（エチル）アミノカルボニル基、メチル（ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、メチル（ｉ−プロピル）アミノカルボニル基、メチル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、メチル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、メチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｎ−プロピル）アミノカルボニル基、エチル（ｉ−プロピル）アミノカルボニル基、エチル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、エチル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、エチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｉ−プロピル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｃ−プロピル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｎ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｃ−プロピル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（ｉ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｎ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−ブチル（ｓ−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−ブチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｉ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基、ｓ−ブチル（t−ブチル）アミノカルボニル基、ｓ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基及びｔ−ブチル（ｃ−ブチル）アミノカルボニル基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、１−ペンチルカルボニル基、２−ペンチルカルボニル基、３−ペンチルカルボニル基、ｉ−ペンチルカルボニル基、ネオペンチルカルボニル基、ｔ−ペンチルカルボニル基、１−ヘキシルカルボニル基、２−ヘキシルカルボニル基及び３−ヘキシルカルボニル基等が挙げられ、該Ｃ_６−１４アリールカルボニル基としては、フェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、１−アントリルカルボニル基、２−アントリルカルボニル基、９−アントリルカルボニル基、１−フェナントリルカルボニル基、２−フェナントリルカルボニル基、３−フェナントリルカルボニル基、４−フェナントリルカルボニル基及び９−フェナントリルカルボニル基等が挙げられる。
該Ｃ_２−９ヘテロアリールカルボニル基としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ_２−６単環式複素環カルボニル基及び構成原子数が８〜１０までのＣ_５−９縮合二環式複素環カルボニル基が含まれる。５〜７員環までの該Ｃ_２−６単環式複素環カルボニル基としては、２−チエニルカルボニル基、３−チエニルカルボニル基、２−フリルカルボニル基、３−フリルカルボニル基、２−ピラニルカルボニル基、３−ピラニルカルボニル基、４−ピラニルカルボニル基、１−ピロリルカルボニル基、２−ピロリルカルボニル基、３−ピロリルカルボニル基、１−イミダゾリルカルボニル基、２−イミダゾリルカルボニル基、４−イミダゾリルカルボニル基、１−ピラゾリルカルボニル基、３−ピラゾリルカルボニル基、４−ピラゾリルカルボニル基、２−チアゾリルカルボニル基、４−チアゾリルカルボニル基、５−チアゾリルカルボニル基、３−イソチアゾリルカルボニル基、４−イソチアゾリルカルボニル基、５−イソチアゾリルカルボニル基、２−オキサゾリルカルボニル基、４−オキサゾリルカルボニル基、５−オキサゾリルカルボニル基、３−イソオキサゾリルカルボニル基、４−イソオキサゾリルカルボニル基、５−イソオキサゾリルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、３−ピリジルカルボニル基、４−ピリジルカルボニル基、２−ピラジニルカルボニル基、２−ピリミジニルカルボニル基、４−ピリミジニルカルボニル基、５−ピリミジニルカルボニル基、３−ピリダジニルカルボニル基、４−ピリダジニルカルボニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリルカルボニル基、２−１，３，４−チアジアゾリルカルボニル基、３−１，２，４−オキサジアゾリルカルボニル基、５−１，２，４−オキサジアゾリルカルボニル基、３−１，２，４−チアジアゾリルカルボニル基、５−１，２，４−チアジアゾリルカルボニル基、３−１，２，５−オキサジアゾリルカルボニル基及び３−１，２，５−チアジアゾリルカルボニル基等が挙げられる。
構成原子数が８〜１０までの該Ｃ_５−９縮合二環式複素環カルボニル基としては、
２−ベンゾフラニルカルボニル基、３−ベンゾフラニルカルボニル基、４−ベンゾフラニルカルボニル基、５−ベンゾフラニルカルボニル基、６−ベンゾフラニルカルボニル基、７−ベンゾフラニルカルボニル基、１−イソベンゾフラニルカルボニル基、４−イソベンゾフラニルカルボニル基、５−イソベンゾフラニルカルボニル基、２−ベンゾチエニルカルボニル基、３−ベンゾチエニルカルボニル基、４−ベンゾチエニルカルボニル基、５−ベンゾチエニルカルボニル基、６−ベンゾチエニルカルボニル基、７−ベンゾチエニルカルボニル基、１−イソベンゾチエニルカルボニル基、４−イソベンゾチエニルカルボニル基、５−イソベンゾチエニルカルボニル基、２−クロメニルカルボニル基、３−クロメニルカルボニル基、４−クロメニルカルボニル基、５−クロメニルカルボニル基、６−クロメニルカルボニル基、７−クロメニルカルボニル基、８−クロメニルカルボニル基、１−インドリジニルカルボニル基、２−インドリジニルカルボニル基、３−インドリジニルカルボニル基、５−インドリジニルカルボニル基、６−インドリジニルカルボニル基、７−インドリジニルカルボニル基、８−インドリジニルカルボニル基、１−イソインドリルカルボニル基、２−イソインドリルカルボニル基、４−イソインドリルカルボニル基、５−イソインドリルカルボニル基、１−インドリルカルボニル基、２−インドリルカルボニル基、３−インドリルカルボニル基、４−インドリルカルボニル基、５−インドリルカルボニル基、６−インドリルカルボニル基、７−インドリルカルボニル基、１−インダゾリルカルボニル基、２−インダゾリルカルボニル基、３−インダゾリルカルボニル基、４−インダゾリルカルボニル基、５−インダゾリルカルボニル基、６−インダゾリルカルボニル基、７−インダゾリルカルボニル基、１−プリニルカルボニル基、２−プリニルカルボニル基、３−プリニルカルボニル基、６−プリニルカルボニル基、７−プリニルカルボニル基、８−プリニルカルボニル基、２−キノリルカルボニル基、３−キノリルカルボニル基、４−キノリルカルボニル基、５−キノリルカルボニル基、６−キノリルカルボニル基、７−キノリルカルボニル基、８−キノリルカルボニル基、１−イソキノリルカルボニル基、３−イソキノリルカルボニル基、４−イソキノリルカルボニル基、５−イソキノリルカルボニル基、６−イソキノリルカルボニル基、７−イソキノリルカルボニル基、８−イソキノリルカルボニル基、１−フタラジニルカルボニル基、５−フタラジニルカルボニル基、６−フタラジニルカルボニル基、１−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、３−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、４−２，７−ナフチリジニルカルボニル基、１−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、３−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、４−２，６−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，８−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、５−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、６−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，７−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、５−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、７−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，６−ナフチリジニルカルボニル基、２−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、３−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、４−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、６−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、７−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、８−１，５−ナフチリジニルカルボニル基、２−キノキサリニルカルボニル基、５−キノキサリニルカルボニル基、６−キノキサリニルカルボニル基、２−キナゾリニルカルボニル基、４−キナゾリニルカルボニル基、５−キナゾリニルカルボニル基、６−キナゾリニルカルボニル基、７−キナゾリニルカルボニル基、８−キナゾリニルカルボニル基、３−シンノリニルカルボニル基、４−シンノリニルカルボニル基、５−シンノリニルカルボニル基、６−シンノリニルカルボニル基、７−シンノリニルカルボニル基、８−シンノリニルカルボニル基、２−プテリジニルカルボニル基、４−プテリジニルカルボニル基、６−プテリジニルカルボニル基及び７−プテリジニルカルボニル基等が挙げられる。該Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基としては、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、１−ペンチルオキシカルボニル基、２−ペンチルオキシカルボニル基、３−ペンチルオキシカルボニル基、ｉ−ペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔ−ペンチルオキシカルボニル基、１−ヘキシルオキシカルボニル基、２−ヘキシルオキシカルボニル基及び３−ヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられ、該Ｃ_１−６アルキルスルホニル基としては、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基及びエタンスルホニル基が挙げられる。該Ｃ_６−１４アリールスルホニル基としては、ベンゼンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、１−アントラセンスルホニル基、２−アントラセンスルホニル基、９−アントラセンスルホニル基、１−フェナントレンスルホニル基、２−フェナントレンスルホニル基、３−フェナントレンスルホニル基、４−フェナントレンスルホニル基及び９−フェナントレンスルホニル基等が挙げられる。
該Ｃ_２−９ヘテロアリールスルホニル基としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができる５〜７員環までのＣ_２−６単環式複素環スルホニル基及び構成原子数が８〜１０までのＣ_５−９縮合二環式複素環スルホニル基が含まれる。５〜７員環までの該Ｃ_２−６単環式複素環スルホニル基としては、２−チエニルスルホニル基、３−チエニルスルホニル基、２−フリルスルホニル基、３−フリルスルホニル基、２−ピラニルスルホニル基、３−ピラニルスルホニル基、４−ピラニルスルホニル基、１−ピロリルスルホニル基、２−ピロリルスルホニル基、３−ピロリルスルホニル基、１−イミダゾリルスルホニル基、２−イミダゾリルスルホニル基、４−イミダゾリルスルホニル基、１−ピラゾリルスルホニル基、３−ピラゾリルスルホニル基、４−ピラゾリルスルホニル基、２−チアゾリルスルホニル基、４−チアゾリルスルホニル基、５−チアゾリルスルホニル基、３−イソチアゾリルスルホニル基、４−イソチアゾリルスルホニル基、５−イソチアゾリルスルホニル基、２−オキサゾリルスルホニル基、４−オキサゾリルスルホニル基、５−オキサゾリルスルホニル基、３−イソオキサゾリルスルホニル基、４−イソオキサゾリルスルホニル基、５−イソオキサゾリルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基、３−ピリジルスルホニル基、４−ピリジルスルホニル基、２−ピラジニルスルホニル基、２−ピリミジニルスルホニル基、４−ピリミジニルスルホニル基、５−ピリミジニルスルホニル基、３−ピリダジニルスルホニル基、４−ピリダジニルスルホニル基、２−１，３，４−オキサジアゾリルスルホニル基、２−１，３，４−チアジアゾリルスルホニル基、３−１，２，４−オキサジアゾリルスルホニル基、５−１，２，４−オキサジアゾリルスルホニル基、３−１，２，４−チアジアゾリルスルホニル基、５−１，２，４−チアジアゾリルスルホニル基、３−１，２，５−オキサジアゾリルスルホニル基及び３−１，２，５−チアジアゾリルスルホニル基等が挙げられる。
構成原子数が８〜１０までの該Ｃ_５−９縮合二環式複素環スルホニル基としては、
２−ベンゾフラニルスルホニル基、３−ベンゾフラニルスルホニル基、４−ベンゾフラニルスルホニル基、５−ベンゾフラニルスルホニル基、６−ベンゾフラニルスルホニル基、７−ベンゾフラニルスルホニル基、１−イソベンゾフラニルスルホニル基、４−イソベンゾフラニルスルホニル基、５−イソベンゾフラニルスルホニル基、２−ベンゾチエニルスルホニル基、３−ベンゾチエニルスルホニル基、４−ベンゾチエニルスルホニル基、５−ベンゾチエニルスルホニル基、６−ベンゾチエニルスルホニル基、７−ベンゾチエニルスルホニル基、１−イソベンゾチエニルスルホニル基、４−イソベンゾチエニルスルホニル基、５−イソベンゾチエニルスルホニル基、２−クロメニルスルホニル基、３−クロメニルスルホニル基、４−クロメニルスルホニル基、５−クロメニルスルホニル基、６−クロメニルスルホニル基、７−クロメニルスルホニル基、８−クロメニルスルホニル基、１−インドリジニルスルホニル基、２−インドリジニルスルホニル基、３−インドリジニルスルホニル基、５−インドリジニルスルホニル基、６−インドリジニルスルホニル基、７−インドリジニルスルホニル基、８−インドリジニルスルホニル基、１−イソインドリルスルホニル基、２−イソインドリルスルホニル基、４−イソインドリルスルホニル基、５−イソインドリルスルホニル基、１−インドリルスルホニル基、２−インドリルスルホニル基、３−インドリルスルホニル基、４−インドリルスルホニル基、５−インドリルスルホニル基、６−インドリルスルホニル基、７−インドリルスルホニル基、１−インダゾリルスルホニル基、２−インダゾリルスルホニル基、３−インダゾリルスルホニル基、４−インダゾリルスルホニル基、５−インダゾリルスルホニル基、６−インダゾリルスルホニル基、７−インダゾリルスルホニル基、１−プリニルスルホニル基、２−プリニルスルホニル基、３−プリニルスルホニル基、６−プリニルスルホニル基、７−プリニルスルホニル基、８−プリニルスルホニル基、２−キノリルスルホニル基、３−キノリルスルホニル基、４−キノリルスルホニル基、５−キノリルスルホニル基、６−キノリルスルホニル基、７−キノリルスルホニル基、８−キノリルスルホニル基、１−イソキノリルスルホニル基、３−イソキノリルスルホニル基、４−イソキノリルスルホニル基、５−イソキノリルスルホニル基、６−イソキノリルスルホニル基、７−イソキノリルスルホニル基、８−イソキノリルスルホニル基、１−フタラジニルスルホニル基、５−フタラジニルスルホニル基、６−フタラジニルスルホニル基、１−２，７−ナフチリジニルスルホニル基、３−２，７−ナフチリジニルスルホニル基、４−２，７−ナフチリジニルスルホニル基、１−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、３−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、４−２，６−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，８−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、５−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、６−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，７−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、５−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、７−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，６−ナフチリジニルスルホニル基、２−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、３−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、４−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、６−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、７−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、８−１，５−ナフチリジニルスルホニル基、２−キノキサリニルスルホニル基、５−キノキサリニルスルホニル基、６−キノキサリニルスルホニル基、２−キナゾリニルスルホニル基、４−キナゾリニルスルホニル基、５−キナゾリニルスルホニル基、６−キナゾリニルスルホニル基、７−キナゾリニルスルホニル基、８−キナゾリニルスルホニル基、３−シンノリニルスルホニル基、４−シンノリニルスルホニル基、５−シンノリニルスルホニル基、６−シンノリニルスルホニル基、７−シンノリニルスルホニル基、８−シンノリニルスルホニル基、２−プテリジニルスルホニル基、４−プテリジニルスルホニル基、６−プテリジニルスルホニル基及び７−プテリジニルスルホニル基等が挙げられる。該Ｃ_２−９ヘテロシクリル基としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子の中から自由に選ばれる１つ以上の原子と２つ乃至９つの炭素原子からなる単環及び縮環二環性の複素環基が挙げられ、具体的には、

等が挙げられる。（化２５）中のそれぞれの環構造中に記した−（結合を意味する）は化学構造上置換可能である任意の位置がとれることを示したものであり、置換部位を特定する意味でない。

式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ^１６，Ｒ^１７，Ｒ^１８及びＲ^１９はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、メチルカルボニルオキシメチル基、エチルカルボニルオキシメチル基、メチルカルボニルオキシエチル基、エチルカルボニルオキシエチル基、メチルカルボニルアミノメチル基、エチルカルボニルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノエチル基、エチルカルボニルアミノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル基、
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、フェニル基、ｏ−ビフェニリル基、ｍ−ビフェニリル基、ｐ−ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｉ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｉ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、フェニルアミノ基、ｏ−ビフェニリルアミノ基、ｍ−ビフェニリルアミノ基、ｐ−ビフェニリルアミノ基、１−ナフチルアミノ基、２−ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基、３−ピリジルアミノ基、４−ピリジルアミノ基、
メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ｎ−プロピルカルボニルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ｎ−ブチルカルボニルアミノ基、メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ｎ−プロパンスルホンアミド基、ｉ−プロパンスルホンアミド基、ｎ−ブタンスルホンアミド基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｉ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｃ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ｏ−ビフェニリルカルボニル基、ｍ−ビフェニリルカルボニル基、ｐ−ビフェニリルカルボニル基、１−ナフチルカルボニル基、２−ナフチルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、３−ピリジルカルボニル基、４−ピリジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｏ−ビフェニルスルホニル基、ｍ−ビフェニルスルホニル基、ｐ−ビフェニルスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基、３−ピリジルスルホニル基、４−ピリジルスルホニル基、

が好ましい。（化１４）中のそれぞれの環構造中に記した−（結合を意味する）は化学構造上置換可能である任意の位置がとれることを示したものであり、置換部位を特定する意味でない。

以下、実施例により更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（実施例１）
下記式（Ｉ）

（式（Ｉ）中のＳは、絶対配置の（Ｓ）を意味する。）で表される光学活性チタンサラン錯体（３．１ｍｇ，０．００２６ｍｍｏｌ，触媒量１ｍｏｌ％）（特許文献２：国際公開第０６／０８７８７４号パンフレットに記載の方法に従い合成した。）及びインデン（３０ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．２ｍＬ）に溶解させる。該反応溶液にｐＨ７に調製した５０ｍＭリン酸緩衝液（９０ｍｇ）を添加し、続いて３０％過酸化水素水（４４ｍｇ，０．３９ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で撹拌して反応させた。反応の転化率（％）、副生成物の相対面積百分率（％）及び光学純度（％ｅｅ）を、２時間と４時間とでそれぞれ、ＨＰＬＣ（分析条件：ダイセルキラルセルＯＪ，ヘキサン／イソプロパノール（８／２＝ｖ/ｖ），流速０．８ｍＬ／分、波長２１０ｎｍ，３５℃）にて、分析した。転化率は、インデンから（１Ｓ，２Ｒ）−インデンオキシドへの転化を、ＨＰＬＣ波長２１０ｎｍの感度比で換算し算出した。結果を下記の表１に示す。
表１（実施例１）

（比較例１）
実施例１と同じ実験操作で、リン酸緩衝液を添加しないで、反応を行った。反応の転化率（％）、副生成物の相対面積百分率（％）及び光学純度（％ｅｅ）を、２時間と４時間とでそれぞれ、ＨＰＬＣ（分析条件：ダイセルキラルセルＯＪ，ヘキサン／イソプロパノール（８／２＝ｖ/ｖ），流速０．８ｍＬ／分，波長２１０ｎｍ，３５℃）にて、分析した。結果を下記の表２に示す。
表２（比較例１）

光学純度９８％ｅｅであった。反応時間４時間後には副生成物が顕著に増加し、また観察事項として溶液中に、実施例１では観察されない沈殿物が観察された。

（実施例２：実施例２Ａ，実施例２Ｂ，実施例２Ｃ）
下記式（ＩＩ）

（式（ＩＩ）中のＳは、絶対配置の（Ｓ）を意味する。）で表される光学活性サラン配位子（９２．６ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ，触媒量１ｍｏｌ％）を溶かしたジクロロメタン溶液（１１．６ｍＬ）に、Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）_４（４８．９ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ，触媒量１ｍｏｌ％）を溶かしたジクロロメタン溶液を加え、２５℃で１時間撹拌した。その後、光学活性チタンサラン錯体を単離することなく連続して、該反応溶液にジクロロメタン（３７．７ｍＬ）、インデン（２．０ｇ，１７．２ｍｍｏｌ）及びリン酸緩衝液（インデンに対して３質量倍、濃度とｐＨについては、下記の表に記載する。）を添加した。続いて市販の３０％過酸化水素水（２．９ｇ，２５．８ｍｍｏｌ）を加えて、反応温度４０℃にて撹拌して反応を行った。反応液のサンプリングを行い転化率を確認した。反応終了時に、０℃にて過剰の過酸化水素水をチオ硫酸ナトリウム水溶液で処理した後、水洗浄と分液を行い、ジクロロメタン溶液より、（１Ｓ，２Ｒ）−インデンオキシドを得て、ＨＰＬＣ（分析条件：ダイセルキラルセルＯＪ，ヘキサン／イソプロパノール（８／２＝ｖ/ｖ），流速０．８ｍＬ／分，波長２１０ｎｍ，３５℃）にて、定量収率（％）を確認した。反応の転化率（％）、副生成物の相対面積百分率（％）及び光学純度（％ｅｅ）についても、ＨＰＬＣにて、分析した。ｐＨ８に調製したリン酸緩衝液の３つ濃度条件（１０ｍＭ（実施例２Ａ），２５ｍＭ（実施例２Ｂ）及び１００ｍＭ（実施例２Ｃ））での結果を下記の表３に示す。
表３（実施例２Ａ，２Ｂ，２Ｃ）

（比較例２）
実施例２と同じ実験操作で、リン酸緩衝液を添加しないで、反応を行った。反応の転化率（％）及び副生成物の相対面積百分率（％）を、１時間と３時間とでそれぞれ、ＨＰＬＣ（分析条件：ダイセルキラルセルＯＪ，ヘキサン／イソプロパノール（８／２＝ｖ/ｖ），流速０．８ｍＬ／分，波長２１０ｎｍ，３５℃）にて、分析した。結果を下記の表４に示す。
表４（比較例２）

反応時間３時間の観察事項として、副生成物が増加し、反応溶液に沈殿物が観察された。光学純度は、９８．３％ｅｅであった。

（実施例３）
実施例２と同じ実験操作で、ｐＨ１１に調製した２５ｍＭのリン酸緩衝液を添加して、反応を行った。反応の転化率（％）及び副生成物の相対面積百分率（％）を、１時間、３時間と４時間とでそれぞれ、ＨＰＬＣにて、分析した。定量収率及び光学純度の結果もあわせて下記の表５に示す。
表５（実施例３）

（実施例４：実施例４Ａ，実施例４Ｂ，実施例４Ｃ，実施例４Ｄ）
実施例２と同じ実験操作で、緩衝液の種類を変更し、反応を行った。反応時間４時間後の転化率（％）を、ＨＰＬＣにて、分析した。定量収率及び光学純度の結果もあわせて下記の表６に示す。
表６（実施例４：実施例４Ａ，実施例４Ｂ，実施例４Ｃ，実施例４Ｄ）

（実施例５）
（実施例５：実施例５Ａ〜Ｇ）
下記式（ＩＩＩ）

（式（ＩＩＩ）中のＲは、絶対配置の（Ｒ）を意味する。）で表されるサラン配位子を合成する。式（ＩＩＩ）で表されるサラン配位子（２．７ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）を溶かしたジクロロメタン溶液（０．８ｍＬ）に、Ｔｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）_４（１．１ｍｇ，０．００４ｍｍｏｌ）を溶かしたジクロロメタン溶液（０．２ｍＬ）を加え、２５℃で１時間撹拌した。その後、光学活性チタンサラン錯体を単離することなく連続して、炭素−炭素二重結合を有する不飽和化合物（０．４ｍｍｏｌ）、ｐＨ７．４に調製した６７ｍＭリン酸緩衝液（６８ｍｇ）、続いて市販の３０％過酸化水素水（０．６ｍｍｏｌ）を添加して、反応温度を４０℃で６時間、撹拌した。その反応混合物の溶媒を減圧留去し、シリカゲルクロマトグラフィーにて精製操作を行い、目的の光学活性エポキシ化合物を得た。また、得られた光学活性エポキシ化合物の光学純度は、ＨＰＬＣにより、分析した。

下記式（基質１）、（基質２）、（基質３）、（基質４）、（基質５）、（基質６）及び（基質７）

を炭素−炭素二重結合を有する不飽和化合物として、前記の実施例５に従って、不斉エポキシ化反応を行い、下記式（生成物１）、（生成物２）、（生成物３）、（生成物４）、（生成物５）、（生成物６）及び（生成物７）

を光学活性エポキシ化合物として、（基質１）からは（生成物１）を、（基質２）からは（生成物２）を、（基質３）からは（生成物３）を、（基質４）からは（生成物４）を、（基質５）からは（生成物５）を、（基質６）からは（生成物６）を、（基質７）からは（生成物７）を得た。生成物１の鏡像体過剰率は、ダイセルキラルセルＯＢ−Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（９９／１＝ｖ/ｖ）混合液を用いて、生成物２の鏡像体過剰率は、ダイセルキラルセルＯＢ−Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（９／１＝ｖ/ｖ）混合液用いて、生成物３の鏡像体過剰率は、ダイセルキラルセルＯＢ−Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（９９／１＝ｖ/ｖ）混合液を用いて、生成物４の鏡像体過剰率は、ダイセルキラルパックＡＳ−Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（９９９／１＝ｖ/ｖ）混合液を用いて、生成物５の鏡像体過剰率は、ダイセルキラルセルＯＤ−Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（９９９／１＝ｖ/ｖ）混合液を用いて、生成物６の鏡像体過剰率は、ダイセルキラルセルＯJ−Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（９９／１＝ｖ/ｖ）混合液を用いて、生成物７の鏡像体過剰率は、ダイセルキラルセルＯＤ−Ｈ及びヘキサン／イソプロパノール（９９／１＝ｖ/ｖ）混合液を用いて、それぞれ高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で分析した。

光学活性エポキシ化合物の製造した実施例５Ａ〜Ｇを下記の表７に示す。
表７（実施例５：実施例５Ａ〜Ｇ）

＊１ 基質に対するサラン配位子（ＩＩＩ）とＴｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）_４の使用量
＊２ 基質と生成物の構造は、前記に記載
＊３ 実施例５Ｄ及び実施例５Ｆは、反応時間を９時間にした。実施例５Ｅは、反応時間
を１８時間にした。

（比較例３：比較例３Ａ〜Ｇ）
式（ＩＩＩ）で表されるサラン配位子とＴｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）_４から、反応系中で触媒を調製し、ｐＨ７．４に調製した６７ｍＭリン酸緩衝液を添加せずに、光学活性エポキシ化合物の製造した比較例３を下記の表８に示す。緩衝液の添加以外の実験については、実施例５と同じ実験操作である。ただし、比較例３Ａ及び比較例３Ｂは、反応時間を６時間にした。比較例３Ｄ〜比較例３Ｇは、反応時間を９時間にした。
表８（比較例３：比較例３Ａ〜Ｇ）

＊１ 基質に対するサラン配位子（ＩＩＩ）とＴｉ（Ｏｉ−Ｐｒ）_４の使用量
＊２ 基質と生成物の構造は、前記に記載

（参考実験Ａ）
下記式（ＩＶ）

（式（ＩＶ）中のＳは、絶対配置の（Ｓ）を意味する。）で表される光学活性チタンサラン錯体（９３．１ｍｇ，０．０８６ｍｍｏｌ）及びインデン（１０００ｍｇ，８．６ｍｍｏｌ）とエチルベンゼン（８６６ｍｇ，内部標準として）をジクロロメタン（２４ｍｌ）に溶解させる。この反応溶液を３ｍｌずつに分割し取り出し、２つの反応容器に転送した。１つ目の反応溶液には、ｐＨ８に調製したリン酸緩衝液（６７ｍＭ，３７５ｍｇ）を添加し続いて、３０％過酸化水素水（１８３ｍｇ）を加え、４０℃で１５分撹拌して反応させた。２つ目の反応溶液には、蒸留水（３７５ｍｇ）を添加し続いて、３０％過酸化水素水（１８３ｍｇ）を加え、４０℃で１５分撹拌して反応した。その後、過剰の過酸化水素水をチオ硫酸ナトリウム水溶液で処理した後、水洗浄と分液を行い、各々のジクロロメタン溶液をＨＰＬＣ（分析条件：Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３，アセトニトリル／２０ｍＭ酢酸ナトリウム水溶液（９６／４＝ｖ/ｖ），流速１．０ｍｌ／分，２５４ｎｍ，４０℃）で分析した。緩衝液を入れた系：触媒の残量率７１％、緩衝液を入れない系：触媒の残量率５７％であった。

本発明の製造方法により、分子中に炭素−炭素二重結合を有するプロキラルな不飽和化合物を高いエナンチオ選択性でエポキシ化し、光学活性エポキシ化合物を製造することができる。更に、本発明の製造方法で得られる光学活性エポキシ化合物は、高血圧症、喘息症等の治療に有効な化合物の光学活性医薬中間体として有用である。

Claims (5)

1. 式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）
   

   

   
   （式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^１は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１２アリールオキシ基又はＣ_６−２２アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はＣ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、ベンジルオキシ基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で任意に置換されており、光学活性又は光学不活性である。）であり、Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基であり、Ｒ^３は、Ｃ_６−１８アリール基又は、２つのＲ^３が一緒になって環を形成する場合は、Ｃ_３−５の二価の基であり、Ｒ^４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基である。）の何れかで表される光学活性配位子（式（１）、式（１’）、式（３）及び式（３’）は、サレン配位子であり、式（２）、式（２’）、式（４）及び式（４’）は、サラン配位子である。）とチタン化合物とを反応させて得られる光学活性チタンサレン錯体又は光学活性チタンサラン触媒、及び緩衝剤又は緩衝液の存在下で、下記式（５）、式（６）、式（７）、式（８）、式（９）及び式（１０）
   

   

   
   （式（５）及び式（６）中のＲ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基（該アミノ基は、保護基で保護されていないか、又は保護されている。）、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_１−４アルコキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、Ｃ_１−４アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_７−１１アリールカルボニル基（該アルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルバモイル基、Ｃ_１−４アルキルスルフィニル基、Ｃ_６−１０アリールスルフィニル基、Ｃ_１−４アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１０アリールスルホニル基、スルファモイル基、モノアルキルアミノスルホニル基、又はＣ_２−８ジアルキルアミノスルホニル基であり、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ^９は、水素原子、Ｃ_１−４アルキル基、又はＣ_１−４アルコキシ基であり、式（５）、式（６）、式（９）及び式（１０）中のＲ^１０は、水素原子、Ｃ_１−２２アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で置換されている。）であり、式（６）中のＲ^１１は、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、式（７）及び式（８）中のＲ^１０は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−２２アルキル基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_６−１０アリール基（該アリール基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基、若しくはＣ_１−４アルコキシ基で置換されている。）である。式（６）中のＲ^１１は、Ｃ_１−４アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）である。ただし、式（５）、式（６）、式（８）及び式（９）中のＲ^９とＲ^１０とが、互いに結合して下記式（１０）、式（１１）、式（１２）及び式（１３）
   

   

   
   （式（１１）、式（１２）、式（１３）及び式（１４）中のＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ_１−６アルキル基である。）の何れかで表される二価の基を形成してもよく、式（９）及び式（１０）中の環部分構造Ａはベンゼン環と縮合する５、６又は７員環（該５、６又は７員環は何れも、無置換であるか、又はｈ個のＲ^１３（Ｒ^１３はハロゲン原子、水酸基、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルアミノ基、若しくはＣ_１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はアルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基若しくはアルコキシカルボニル基は、ハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、Ｃ_１−４アルコキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−４アルキルカルボニルアミノ基、若しくはＣ_１−４アルコキシカルボニル基（該アルコキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基及びアルコキシカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）で置換されている。）、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、カルバモイル基、スルホ基、スルホアミノ基、スルファモイル基、スルホニル基、アミノ基、カルボキシル基、Ｃ_１−６アルキルアミノ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基、Ｃ_６−１４アリールスルホンアミド基、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１４アリールスルホニル基、又はＣ_６−１４アリールカルボニル基（該アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルキルアミノカルボニル基、ジアルキルアミノカルボニル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及びアリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）であり、ｈは１〜６の整数を意味し、ｈが２〜６の場合、Ｒ^１３は同じでも異なっていてもよい。）で置換されており、環の構成原子として酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を１〜３原子単独もしくは組み合わせて含むことができ、環内の不飽和結合の数は、縮合するベンゼン環の不飽和結合を含め、１、２又は３であり、環を構成する炭素原子は、カルボニル又はチオカルボニルであってもよい。）である。）で表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）
   

   

   
   （式（１５）、式（１６）、式（１７）、式（１８）、式（１９）及び式（２０）中のＲ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１は、前記と同じであり、＊で示された炭素原子の絶対配置は（Ｒ）又は（Ｓ）を意味する。）の何れかで表される光学活性エポキシ化合物の製造方法。
2. 前記の光学活性配位子が、式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）（式（１）、式（１’）、式（２）、式（２’）、式（３）、式（３’）、式（４）及び式（４’）中のＲ^１は、フェニル基（該フェニル基は、２−Ｃ_１−３アルキル基（該２−Ｃ_１−３アルキル基は、少なくとも１つ以上のハロゲン原子で置換されている。）、ベンジルオキシ基、又は２−Ｃ_１−４アルコキシ基で置換されている。）、２−フェニル−１−ナフチル基又は２−メトキシ−１−ナフチル基であり、Ｒ^２は、水素原子であり、Ｒ^３は、二価の基であるテトラメチレン基であり、Ｒ^４は、水素原子である。）である請求項１に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
3. 前記式（９）又は式（１０）中のＡの環部分構造が、式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）、式（ａｇ）及び式（ａｈ）の何れかで表される
   

   

   
   （前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｅ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｉ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｌ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｘ）、式（ａｂ）、式（ａｅ）、式（ａｆ）及び式（ａｇ）中のＲ^１４及びＲ^１５はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニルオキシ基及びアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基（該シクロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基及びアルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ_２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１４アリールスルホニル基、Ｃ_２−９ヘテロアリールスルホニル基（該アリールスルホニル基及びヘテロアリールスルホニル基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基又はＣ_２−９ヘテロアリールカルボニル基（該アリールカルボニル基及びヘテロアリールカルボニル基は何れも、無置換であるか、又はｑ個のＲ^２０（Ｒ^２０はＲ^１３と同じ意味を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｑが２又は３の場合、Ｒ^２０は同じでも異なっていてもよい。）で置換されている。）であり、
   前記式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｆ）、式（ｇ）、式（ｈ）、式（ｊ）、式（ｋ）、式（ｍ）、式（ｎ）、式（ｏ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｒ）、式（ｓ）、式（ｔ）、式（ｕ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ｙ）、式（ｚ）、式（ａａ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）、式（ａｄ）、式（ａｅ）及び式（ａｆ）中のＲ^１６，Ｒ^１７，Ｒ^１８及びＲ^１９はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６カルボニルオキシ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基（該アルキルカルボニルオキシ基及びアルキルカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_３−８シクロアルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基（該シクロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基及びアルキルスルホニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基（該アリールカルボニル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）若しくはＣ_２−９ヘテロアリールカルボニル基で置換されている。）、Ｃ_３−８シクロアルキル基（該シクロアルキル基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基若しくはＣ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は、何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、Ｃ_１−６チオアルコキシ基（該チオアルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は、無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、カルボキシル基、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、若しくはＣ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）で置換されている。）、水酸基、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、スルホ基、Ｃ_１−６アルキルアミノ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、Ｃ_６−１４アリールアミノ基、Ｃ_２−９ヘテロアリールアミノ基（該アリールアミノ基及びヘテロアリールアミノ基は、何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_６−１４アリールカルボニル基、Ｃ_２−９ヘテロアリールカルボニル基（該アリールカルボニル基及びヘテロアリールカルボニル基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、Ｃ_６−１４アリールスルホニル基、Ｃ_２−９ヘテロアリールスルホニル基（該アリールスルホニル基及びヘテロアリールスルホニル基は、何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、カルボキシル基、若しくはＣ_２−９ヘテロシクリル基（該ヘテロシクリル基は、、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基（該アルキル基は、、無置換であるか、又はハロゲン原子、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、アミノ基、カルボキシル基、若しくは水酸基で置換されている。）、Ｃ_１−６アルコキシ基（該アルコキシ基は無置換であるか、又はハロゲン原子で置換されている。）、Ｃ_６−１４アリール基、Ｃ_２−９ヘテロアリール基（該アリール基及びヘテロアリール基は何れも、無置換であるか、又はｒ個のＲ^２１（Ｒ^２１はＲ^１３と同じ意味を表し、ｒはｑと同じ意味を表す。）で置換されている。）、水酸基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ホルムアミド基、アミノ基、Ｃ_１−６アルキルアミノ基、ジＣ_１−６アルキルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ_１−６アルキルスルホンアミド基、カルバモイル基、Ｃ_１−６アルキルアミノカルボニル基、ジＣ_１−６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ_１−６アルキルカルボニル基、Ｃ_１−６アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、Ｃ_１−６アルキルスルホニル基、カルボキシル基、若しくはＣ_６−１４アリールカルボニル基で置換されている。）であり、
   前記式（ｃ）、式（ｄ）、式（ｐ）、式（ｑ）、式（ｖ）、式（ｗ）、式（ａｂ）、式（ａｃ）及び式（ａｄ）中のＱは、Ｏ（酸素原子）、Ｓ（硫黄原子）、ＳＯ（スルフィニル基）又はＳＯ₂（スルホニル基）を意味する。
   式（９）及び式（１０）中のＲ^９とＲ^１０とは、互いに結合して下記式（１１）
   

   

   
   （式（１１）中のＲ^１２は、メチル基であり、Ｒ^９側に酸素原子、Ｒ^１０側に炭素原子が結合する。）で表される二価の基である。）で表される不飽和化合物を酸化剤で不斉エポキシ化することを特徴とする下記式（１９）及び式（２０）
   

   

   
   （式（１９）及び式（２０）中の環部分構造Ａ、Ｒ^９及びＲ^１０は、前記と同じであり、＊で示された炭素原子の絶対配置は（Ｒ）又は（Ｓ）を意味する。）の何れかで表される請求項１に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
4. 前記の酸化剤が過酸化水素であることを特徴とする請求項１から請求項３の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。
5. 緩衝剤又は緩衝液の添加により、反応液のｐＨが５ないし１２であることを特徴とする請求項１から請求項４の何れか１項に記載の光学活性エポキシ化合物の製造方法。