JP2008243860A - プローブの針先位置の検出方法、アライメント方法、針先位置検出装置及びプローブ装置 - Google Patents

プローブの針先位置の検出方法、アライメント方法、針先位置検出装置及びプローブ装置 Download PDF

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Abstract

【課題】複数のプローブ12Aの高さを高精度に検出することができ、検査の信頼性を格段に高めることができるプローブ12Aの針先位置の検出方法を提供する。
【解決手段】本発明のプローブ12Aの先端位置の検出方法は、センサ部162と接触体162Bとを備えてウエハチャック11に設けられた針先位置検出装置16を用いて複数のプローブ12Aの針先位置を検出する際に、ウエハチャック11を介して針先位置検出装置16が上昇して接触体162C上の軟質部材162Dを複数のプローブ12Aの針先と接触させる工程と、ウエハチャック11の更なる上昇により複数のプローブ12Aを弾性変形させることなく接触体162Bをセンサ部162側へ下降させる工程と、接触体162Bが下降し始める位置を複数のプローブ12Aの針先高さとして判断する工程と、を備えている。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体ウエハ等の被検査体の電気的特性検査を行う際に使用するプローブの針先位置の検出方法、アライメント方法、針先位置検出装置及びプローブ装置に関し、更に詳しくは、複数のプローブの針先位置を高精度に検出することができ、延いては検査の信頼性を高めることができるプローブの針先位置の検出方法、アライメント方法、針先位置検出装置及びプローブ装置に関するものである。
複数のプローブを用いて半導体ウエハ等の被検査体の電気的特性検査を行う場合には、例えばカメラを介してプローブカードに設けられた複数のプローブの針先を撮像し、プローブの針先位置を検出し、被検査体の電極パッドとプローブとを接触させて検査を行う。カメラを用いたプローブの針先位置の検出には、プローブの針先にカメラの焦点を合わせるのに時間が掛かり、その結果被検査体とプローブカードのアライメントに多くに時間を割かざるを得ないため、通常、全てのプローブについて行わず、例えば代表的な数本のプローブを選択してアライメントが行われている。
しかし、電極パッドが微細化した場合、全プローブがそれぞれの電極パッドにうまく当たらない可能性が出てくるため、可能な限り全てのプローブの針先の位置を検出できる方が望ましい。況して、プローブカードには製造上のバラツキがあり、同一仕様のプローブカードであっても製造上のバラツキは避けがたく、より高精度の針先検出が求められる。
また、複数のプローブカードメーカーから様々な種類のプローブカードが開発されるため、その都度、複数のプローブを三次元で画像認識するための専用のアルゴリズムを開発する必要がある。これに対応するには莫大な費用がかかるため、二次元のフィルム上に複数のプローブを転写することができれば、アルゴリズムの開発を容易に行うことができる。
例えば特許文献1にはプローブとウエハとのアライメントを行うプロービング方法について記載されている。この方法ではテーブル上のアライメントされたウエハまたはテーブルに付設されたシートにプローブの針跡を転写し、ウエハの向きと複数のプローブの向きとを比較し、テーブルの向きを修正した後、ウエハの基準チップのXY座標と複数のプローブのXY座標を一致させるようにしている。
また、特許文献2には転写シートを用いてプローブの針先の状態を検出する方法について記載されている。この方法では、載置台横の支持台に配された転写シートに熱膨張したプローブを圧接して転写シートに針跡を付け、転写シートの針跡を検出した後、熱膨張後のプローブとウエハとを位置合わせするようにしている。
また、特許文献3には位置合わせ方法について記載されている。この方法では探針の針跡をダミーウエハ上に付けてカメラで検出することにより探針の方向と設定位置を認識している。
特公平05−067059 特開2005−079253 特開平02−224260
しかしながら、引用文献1にはアライメントの重要なファクタであるプローブの針先を検出する点について記載されていない。また、特許文献2の技術の場合には転写シートに形成される複数のプローブの針跡に基づいて複数のプローブのXY座標データを得ているが、針先の高さけを検出する場合には針跡の深さを検出しなければならず、針先高さを高精度に求めることが難しい。また、特許文献3の技術の場合にはダミーウエハの針跡に基づいて複数のプローブの針先位置を求めるため、特許文献2の技術と同様に針先のXY座標データを得ることができるが、針先のZ座標データはカメラに頼らざるを得ない。
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、複数のプローブの高さを高精度に検出することができ、検査の信頼性を高めることができるプローブの針先位置の検出方法、アライメント方法、針先位置検出装置及びプローブ装置を提供することを目的としている。
本発明の請求項1に記載のプローブの針先位置の検出方法は、移動可能な載置台上の被検査体と複数のプローブを電気的に接触させて上記被検査体の電気的特性検査を行うに当たり、上記複数のプローブの針先を検出するセンサ部と、このセンサ部に属する移動可能な接触体とを備えた針先位置検出装置を用いて上記複数のプローブの針先位置を検出する方法であって、上記載置台を介して上記針先位置検出装置が移動して上記接触体を上記複数のプローブの針先と接触させる第1の工程と、上記載置台の更なる移動により上記複数のプローブを弾性変形させることなく上記接触体を上記センサ部側へ移動させる第2の工程と、上記接触体が移動し始める位置を上記複数のプローブの針先位置として判断する第3の工程と、を備えたことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項2に記載のプローブの針先位置の検出方法は、請求項1に記載の発明において、上記接触体は、軟質部材を介して上記複数のプローブと接触することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項3に記載のプローブの針先位置の検出方法は、請求項2に記載の発明において、上記第2の工程では、上記複数のプローブは、上記軟質部材を傷つけないことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項4に記載のプローブの針先位置の検出方法は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の発明において、上記第2の工程では、上記接触体の現在位置を変位センサによって検出することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項5に記載のプローブの針先位置の検出方法は、請求項4に記載の発明において、上記第3の工程では、上記変位センサの検出結果に基づいて上記複数のプローブの針先位置を判断することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項6に記載のアライメント方法は、発明において、移動可能な載置台上の被検査体と複数のプローブを電気的に接触させて上記被検査体の電気的特性検査を行うに当たり、上記被検査体を撮像する撮像手段と上記複数のプローブの針先を検出する針先位置検出装置を用いて上記被検査体と上記複数のプローブとをアライメントする方法であって、上記針先位置検出装置を用いて上記複数のプローブの針先位置を検出する工程と、上記針先位置検出装置に装着された軟質部材と上記複数のプローブを接触させて上記気軟質部材に上記複数のプローブの針跡を転写する工程と、上記撮像手段を用いて上記軟質部材に形成された上記複数のプローブの針跡位置を検出する工程と、上記撮像手段を用いて上記複数のプローブに対応する上記被検査体の接触位置を検出する工程と、を備えたことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項7に記載のアライメント方法は、請求項6に記載の発明において、上記針先位置検出装置は、上記載置台に設けられ、且つ、上記複数のプローブの針先を検出するセンサ部と、このセンサ部に属する移動可能な接触体とを備えており、上記針先位置検出装置を用いて上記複数のプローブの針先位置を検出する工程は、上記載置台を介して上記針先位置検出装置が移動して上記接触体を上記複数のプローブの針先と接触させる第1の工程と、上記載置台の更なる移動により上記複数のプローブを弾性変形させることなく上記接触体を上記センサ部側へ移動させる第2の工程と、上記接触体が移動し始める位置を上記複数のプローブの針先位置として判断する第3の工程と、を備えたことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項8に記載のアライメント方法は、請求項7に記載の発明において、上記第2の工程では、上記複数のプローブは、上記軟質部材を傷つけないことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項9に記載のアライメント方法は、請求項7または請求項8に記載の発明において、上記第2の工程では、上記接触体の現在位置を変位センサによって検出することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項10に記載のアライメント方法は、請求項9に記載の発明において、上記第3の工程では、上記変位センサの検出結果に基づいて上記複数のプローブの針先位置を判断することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項11に記載の針先位置検出装置は、被検査体と複数のプローブを電気的に接触させて上記被検査体の電気的特性検査を行うに当たり、上記複数のプローブの針先の位置を検出するために用いられる針先位置検出装置であって、上記針先位置検出装置は、上記複数のプローブの針先を検出するセンサ部を備え、且つ、上記センサ部は、センサ部本体と、上記センサ部本体に上記複数のプローブと接触するように移動可能に設けられた接触体と、上記接触体に第1の圧力を付与し、上記接触体を上記センサ部本体から所定距離だけ離間させる圧力付与手段と、を有し、上記接触体は、上記複数のプローブとの接触による上記センサ部本体側への移動により上記複数のプローブの針先位置を検出することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項12に記載の針先位置検出装置は、請求項11に記載の発明において、上記センサ部は、上記接触体の現在位置を検出する変位センサを有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項13に記載の針先位置検出装置は、請求項11または請求項12に記載の発明において、上記接触体が上記第1の圧力より大きな第2の圧力が付与されている時には、上記接触体は、上記複数のプローブと接触しても移動しないことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項14に記載の針先位置検出装置は、請求項11〜請求項13のいずれか1項に記載の発明において、上記接触体は、着脱自在な軟質部材を有し、上記軟質部材を介して上記複数のプローブと接触することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項15に記載の針先位置検出装置は、請求項14に記載の発明において、上記軟質部材は、上記接触体が第1の圧力で上記複数のプローブと接触して上記接触体が移動する時にも傷つかない材料によって形成されていることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項16に記載の針先位置検出装置は、請求項14または請求項15に記載の発明において、上記軟質部材は、上記接触体が第2の圧力で上記複数のプローブと接触することにより上記複数のプローブの針跡が転写されることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項17に記載のプローブ装置は、被検査体を載置する移動可能な載置台と、この載置台の上方に配置された複数のプローブと、これらのプローブの針先の位置を検出するように上記載置台に設けられた針先位置検出装置と、を備えたプローブ装置であって、上記針先位置検出装置は、上記複数のプローブの針先を検出するセンサ部を備え、且つ、上記センサ部は、センサ部本体と、上記センサ部本体に上記複数のプローブと接触するように移動可能に設けられた接触体と、上記接触体に第1の圧力を付与し、上記接触体を上記センサ部本体から所定距離だけ離間させる圧力付与手段と、を有し、上記接触体は、上記複数のプローブとの接触による上記センサ部本体側への移動により上記複数のプローブの針先位置を検出することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項18に記載のプローブ装置は、請求項17に記載の発明において、上記センサ部は、上記接触体の現在位置を検出する変位センサを有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項19に記載のプローブ装置は、請求項17または請求項18に記載の発明において、上記接触体が上記第1の圧力より大きな第2の圧力が付与されている時には、上記接触体は、上記複数のプローブと接触しても移動しないことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項20に記載のプローブ装置は、請求項17〜請求項19のいずれか1項に記載の発明において、上記接触体は、着脱自在な軟質部材を有し、上記軟質部材を介して上記複数のプローブと接触することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項21に記載のプローブ装置は、請求項20に記載の発明において、上記軟質部材は、上記接触体が第1の圧力で上記複数のプローブと接触して上記接触体が移動する時にも傷つかない材料によって形成されていることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項22に記載のプローブ装置は、請求項20または請求項21に記載の発明において、上記軟質部材は、上記接触体が第2の圧力で上記複数のプローブと接触することにより上記複数のプローブの針跡が転写されることを特徴とするものである。
本発明によれば、複数のプローブの高さを高精度に検出することができ、検査の信頼性を高めることができるプローブの針先位置の検出方法、アライメント方法、針先位置検出装置及びプローブ装置を提供することができる。
以下、図1〜図6に示す実施形態に基づいて本発明を説明する。尚、各図中、図1は本発明のプローブ装置の一実施形態を示す構成図、図2は図1のプローブ装置に用いられた針先位置検出装置を示す側面図、図3の(a)〜(d)はそれぞれ本発明のプローブの針先位置の検出方法の一実施形態を工程順に示す工程説明図、図4の(a)〜(d)はそれぞれ本発明のアライメント方法の一実施形態を工程順に示す工程説明図、図5の(a)、(b)はそれぞれ図4の(b)、(c)に示す工程を取り出して示す図で、図4の(b)に示す針跡を形成する工程を示す断面図、(b)は図4の(c)に示す針跡のXY座標を検出する工程を示す断面図、図6は図4の(a)〜(d)に示すアライメント工程の最後の工程を示す工程説明図である。
まず、本実施形態のプローブ装置について例えば図1を参照しながら説明する。本実施形態のプローブ装置10は、図1に示すように、被検査体である半導体ウエハWを載置する移動可能なウエハチャック11と、このウエハチャック11の上方に配置されたプローブカード12と、このプローブカード12の複数のプローブ12Aとウエハチャック11上の半導体ウエハWとのアライメントを行うアライメント機構13と、ウエハチャック11及びアライメント機構13等を制御する制御装置14と、を備え、制御装置14の制御下でアライメント機構13が駆動して、ウエハチャック11上の半導体ウエハWとプローブカード12の複数のプローブ12Aとのアライメントを行った後、複数のプローブ12Aとこれらに対応する半導体ウエハWの電極パッドとを電気的に接触させて半導体ウエハWの電気的特性検査を行うように構成されている。
ウエハチャック11は、制御装置14の制御下で駆動する駆動機構15を介してX、Y、Z及びθ方向に移動するように構成されている。ウエハチャック11の側方には本実施形態の針先位置検出装置16が配置されている。この針先検出装置16は、複数のプローブ12Aの針先位置を検出するもので、後述するように本発明の針先位置の検出方法及びアライメント方法に用いられる。
プローブカード12は、カードホルダ17を介してプローバ室のヘッドプレート18に取り付けられ、複数のプローブ12Aとこれらに対応する半導体ウエハWの電極パッドと電気的に接触した状態で、テスタ(図示せず)側からの信号に基づいて半導体ウエハWの電気的特性検査を行う。
また、アライメント機構13は、図1に示すように、撮像手段(CCDカメラ)13Aと、CCDカメラ13Aを支持する一方向で移動可能なアライメントブリッジ13Bと、を備え、制御装置14の制御下でCCDカメラ13Aがアライメントブリッジ13Bを介して待機位置からプローブカード12の中心の真下(以下、「プローブセンタ」と称す。)まで移動し、その位置で停止するようにしてある。プローブセンタにあるCCDカメラ13Aは、アライメント時にウエハチャック11がX、Y方向へ移動する間にウエハチャック11上の半導体ウエハWの電極パッドを上方から撮像し、その画像処理部13Cで画像処理し、表示画面(図示せず)に撮像画像を表示する。また、このCCDカメラ13Aは、後述するようにウエハチャック11に付設された針先位置検出装置16を撮像し、画像処理して表示画面に表示するようにしてある。
また、制御装置14は、図1に示すように、演算処理部14A、記憶部14B及び上述の画像処理部13Cを備えている。記憶部14Bに格納された種々のプログラムによってプローブ装置10を制御する。従って、本発明のプローブの針先位置の検出方法及びアライメント方法を実行するプログラムが記憶部14Bに格納されている。これらの方法は、記憶部14Bから読み出したプログラムに従って実行され、その結果得られる種々のデータが記憶部14Bにおいて記憶される。
而して、本実施形態の針先位置検出装置16は、図1、図2に示すように、エアシリンダ等の昇降駆動機構161と、昇降駆動機構161を介して昇降するセンサ機構162とを備えている。そして、複数のプローブ12Aの針先位置を検出する時には、昇降駆動機構161がセンサ機構162を待機位置からウエハチャック11上の半導体ウエハWの上面と略同一高さまで上昇させる。
センサ機構162は、例えば図2に示すように、シリンダ機構が内蔵され且つ変位センサとして機能するセンサ部162Aと、センサ部162Aのシリンダ機構を構成するピストンロッド162Bの上端に取り付けられ且つセンサ部162Aから浮上した位置で保持される接触体162Cと、接触体162Cの上面に着脱自在に装着されたシート状の軟質部材162Dと、センサ部162Aを構成するシリンダ内に圧縮空気を供給し、シリンダ内のピストン(図示せず)を介して接触体162Cに所定の圧力を付与する圧縮空気供給源等の圧力付与手段(図示せず)と、を有している。
また、図2に示すように接触体162Cには例えばヒータ162Eが内蔵されている。このヒータ162Eは、軟質部材162Dを加熱して軟質部材162Dを軟化させ、後述のように軟質部材162Dに転写された複数のプローブ12Aの針跡を消失させる。これにより軟質部材162Dを繰り返し使用することができる。
また、ピストンロッド162Bの下端には係止板(図示せず)が取り付けられ、接触体162Cが係止板を介して常にセンサ部162Aから所定距離だけ離間して浮上した位置でセンサ部162Aにおいて弾力的に保持されている。接触体162Cとセンサ部162Aとの間に形成された隙間は接触体162Cの昇降範囲になる。この隙間の距離はセンサ部162Aによって検出され、このセンサ部162Aによって接触体162Cの位置を常に監視している。
圧力付与手段は、所定の圧力として第1の圧力と第2の圧力に切り換えられるようになっている。第1の圧力は、複数のプローブ12Aの針先位置を検出する時に設定される圧力で、第2の圧力より低圧に設定される。第2の圧力は、アライメント時に複数のプローブ12Aを軟質部材162Dの上面に針跡を転写する時に設定される圧力である。
センサ部162Aには所定の圧力を一定に保持する定圧バルブ等の圧力調整手段(図示せず)が設けられており、この圧力調整手段によって接触体162Cがセンサ部162Aに向けて下降する時に圧縮空気を徐々に排気して第1の圧力を一定に保持するようにしてある。
接触体162Cが第1の圧力で保持されている状態では、ウエハチャック11を介して針先検出装置16が上昇することによりその接触体163Cが軟質部材162Dを介して複数のプローブ12Aと接触しても複数のプローブ12Aが弾性変形することなく、初期の針先位置を保持したまま接触体162Cがセンサ部162A側へ下降する。接触体162Cが第1の圧力で保持された状態では、例えばプローブ12A一本当たり0.5gfの力が複数プローブ12Aから軟質部材162Dに作用する。軟質部材162Dは、第1の圧力で接触した時に複数のプローブ12Aから針圧が作用しても複数のプローブ12Aが突き刺さるなどして傷つけられることがない硬さを有する材料によって形成されている。このような軟質材料162Dの材料としては、例えばPO、PVC等の樹脂が好ましい。
接触体162Cが第2の圧力で保持された状態では、軟質材料162Dが複数のプローブ12Aから針圧が受けても接触体162Cはセンサ部162A側へ下降することなく初期の位置を保持し、複数のプローブ12Aによって軟質部材162Dの上面に針跡が転写される。
次に、本発明のプローブの針先位置の検出方法及びアライメント方法の一実施形態について図3〜図6をも参照しながら説明する。
本実施形態のプローブの針先位置の検出方法及びアライメント方法は、半導体ウエハWの電気的特性検査に先立って実施される。プローブの針先位置の検出方法は、針先位置検出装置16を用いてアライメント方法の一部の工程として行われる。針先位置検出装置16を用いてプローブ12Aの針先位置を検出する場合にはセンサ機構162が第1の圧力に設定されている。
まず、ウエハチャック11上で半導体ウエハWを受け取った後、アライメント機構13及び針先検出装置16を用いてプローブカード12の複数のプローブ12Aの針先位置を検出する。それには、アライメント機構13のCCDカメラ13Aがアライメントブリッジ13Bを介してプローブセンタ、即ちプローブカード12の中心の真下へ移動する。次いで、ウエハチャック11がアライメントブリッジ13Bの下方で移動する間に、針先検出装置16は昇降駆動機構161を介してセンサ機構162を図3の(a)に示す待機状態から同図の(b)に矢印で示すように上昇させ、接触体162C上の軟質部材162Dの上面がウエハチャック11上の半導体ウエハWの上面と略同一レベルになるように設定する。
然る後、ウエハチャック11がX、Y方向へ移動して図3の(c)に示すように接触体162CがCCDカメラ13Aに真下に達すると、CCDカメラ13Aが軟質部材162Dの上面の高さを検出する。軟質部材162Dの上面の高さを検出した後、センサ機構162の動作、即ち針先位置の検出に必要な接触体162Cの下降、軟質部材162Dの硬さ等を確認する。センサ機構162が正常に動作することを確認した後、複数のプローブ12Aの針先位置の検出を行う。
複数のプローブ12Aの針先位置を検出するには、アライメントブリッジ13Bが一旦待機位置に退避した後、ウエハチャック11が図4の(a)に示すようZ方向の基準位置から上昇すると、針先位置検出装置16の軟質部材162Dが複数のプローブ12Aに接近して軟質部材162Dが複数のプローブ12Aと接触する。
ウエハチャック11が更に上昇すると、接触体162Cが軟質部材162Dを介して複数のプローブ12Aによって押圧されてセンサ本体162A側へ下降する。この時、接触体162が第1の圧力で弾力的に保持されているため、複数のプローブ12Aと軟質部材162Dの間に針圧が作用しても、複数のプローブ12Aは弾性変形することなく、また複数のプローブ12Aが軟質部材162Dを傷つけることなく(複数のプローブ12Aの針先が軟質部材162Dに転写されることなく)ウエハチャック11の上昇に連れて、その上昇分だけ接触体162Cが第1の圧力で保持されたままセンサ部162A側へ下降し、両者162A、162C間の距離を詰めて隙間を狭くする。
この際、センサ部162Aが接触体162Cとの距離を監視しており、接触体162Cの下降により隙間が変化すると、センサ部162Aが隙間の距離を検出し、その検出信号を制御装置14へ送信する。これにより、制御装置14は、演算処理部14Aにおいて予め設定されている隙間の初期値とセンサ部162Aによる検出値とを比較し、検出値が初期値以下になった瞬間までのウエハチャック11の基準位置からの上昇距離に基づいて軟質部材162Dの上面の高さ、換言すれば複数のプローブ12Aの針先位置の高さを算出する。このように複数のプローブ12Aが弾性変形することなく、また軟質部材162Dを傷つけることもなく、接触体162Cが下降し始めるため、下降し始める位置を複数のプローブ12Aの針先高さとして高精度に検出することができる。このようにして検出された複数のプローブ12Aの針先高さは、Z座標データとして制御装置14の記憶部14Bに格納される。
その後、ウエハチャック11は一旦Z方向の基準位置に戻った後、接触体162Cに付与する圧力を第1の圧力から第2の圧力に切り換え、再度、ウエハチャック11が図4の(b)に矢印で示すように上昇して軟質部材162Dが複数のプローブ12Aと接触し、オーバードライブする。ウエハチャック11がオーバードライブしても接触体162Cは第2の圧力で保持されていてセンサ部162A側に下降することなく初期位置を保持するため、図5の(a)に示すように複数のプローブ12Aが軟質部材162Dに食い込み、同図に(b)に示すように軟質部材162Dの上面に針跡162Fが転写される。
尚、軟質部材162Dの上面に針跡162Fを形成する方法としては、上述の方法以外に複数のプローブ12Aの針先高さを検出したままの状態で、第1の圧力から第2の圧力に切り換えることによって接触体162Cを初期位置に戻すことによって軟質部材162Dに針跡162Fを形成することもできる。
上述のようにして軟質部材162Dに針跡162Fを転写した後、ウエハチャック11が基準位置まで下降すると、CCDカメラ13Aがアライメントブリッジ13Bを介してプローブセンタへ進出した後、ウエハチャック11が基準位置から上昇し、図4の(c)及び図5の(b)に示すようにCCDカメラ13Aが軟質部材162Dの複数の針跡162Fをそれぞれ検出する。これにより複数のプローブ12Aの複数箇所または必要に応じて全てのXY位置を検出することができ、それぞれのXY座標データを記憶部14Bに格納する。これらの一連の操作によって複数のプローブ12Aの針先位置、即ち、XYZ座標データが得られて、半導体ウエハWと複数のプローブ12Aとのアライメントに供される。
アライメントを行う場合には、ウエハチャック11がX、Y方向へ移動し、CCDカメラ13Aが図4の(d)に示すように半導体ウエハWの複数箇所で複数のプローブ12Aに対応する電極パッドを検出し、各電極パッドのXY座標データを記憶部14Bに格納する。これら一連の操作によって、複数のプローブ12Aと半導体ウエハWの電極パッドのアライメントを終了する。アライメントが終了した後、ウエハチャック11は、検査開始位置へ移動し、その位置で上昇し、図6に示すように最初のチップの複数の電極パッドとこれらに対応する複数のプローブ12Aを接触させて、電気的特性検査を行う。以下、ウエハチャック11によって半導体ウエハWをインデックス送りして、半導体ウエハWの全てのチップについて電気的特性検査を行う。
以上説明したように本実施形態によれば、ウエハチャック11に付設された針先位置検出装置16を用いて複数のプローブ12Aの針先位置を検出する場合、針先位置検出装置16が、複数のプローブ12Aの針先を検出するセンサ機構162と、このセンサ機構162に属する昇降可能な接触体162Cと、を備えているため、ウエハチャック11を介して針先位置検出装置16がZ方向の基準位置から上昇して接触体162C上の軟質部材162Dが複数のプローブ12Aの針先と接触し、更にウエハチャック11が上昇することにより複数のプローブ12Aが弾性変形することなく接触体162Cがセンサ部162A側へ下降し、接触体162Cが下降し始める位置を複数のプローブ12Aの針先位置として判断するようにしたため、従来のようにカメラを用いるような不都合を生じることなく、複数のプローブ12Aの針先が初期の位置を保持した状態で針先高さを高精度に検出することができる。また、如何なる形態のプローブ12Aであっても確実に針先高さを確実に検出することができる。
また、本実施形態によれば、接触体162Cが軟質部材162Dを介して複数のプローブ12Aと接触し、その後接触体162Cがセンサ部162A側へ下降する時にも複数のプローブ12Aは軟質部材162Dを傷つけないため、針先高さの検出時に複数のプローブ12Aの針先高さが初期位置から変化することがなく、高精度に検出することができる。この際、接触体162Cの下降動作をセンサ部162Aによって検出するようにしているため、針先高さを更に高精度に検出することができる。
また、アライメント時には、接触体162Cの初期位置を針先検出時の圧力より高い圧力で保持するようにしたため、複数のプローブ12Aを軟質部材162Dに接触させることにより、軟質部材162Dの上面に全てのプローブ12A針跡162Fを確実に転写することができる。従って、複数のプローブ12Aの全ての針跡162Fを軟質部材162Dに転写することができるため、複数箇所または必要に応じて全てのプローブ12Aの針跡162Fに基づいてこれらのプローブ12AのXY座標データを得て、対応する電極パッドのXY座標データと正確にアライメントすることができ、もって複数箇所または必要に応じて全てのプローブ12Aとこれらに対応する電極パッドとを正確に接触させて信頼性の高い検査を行うことができる。また、アライメント時には複数のプローブ12Aの針先を軟質部材162Dに転写するため、従来のようカメラを用いる複雑なアルゴリズムを必要とせず、ソフトウエアの開発コストを低減することができる。更に、アライメントにプローブ検出用のCCDカメラを必要とせず、アライメント機構13の製造コストを低減することができる。
尚、本発明は上記各実施形態に何等制限されるものではなく、必要に応じて各構成要素を適宜変更することができる。例えば、上記実施形態では接触体の変位を検出するセンサ部としては、例えば容量センサやレーザ測長器等の測長器を用いることができる。
本発明は、半導体ウエハ等の被検査体の電気的特性検査を行うプローブ装置に好適に利用することができる。
本発明のプローブ装置の一実施形態を示す構成図である。 図1のプローブ装置に用いられた針先位置検出装置を示す側面図である。 (a)〜(d)はそれぞれ本発明のプローブの針先位置の検出方法の一実施形態を工程順に示す工程説明図である。 (a)〜(d)はそれぞれ本発明のアライメント方法の一実施形態を工程順に示す工程説明図である。 (a)、(b)はそれぞれ図4の(b)、(c)に示す工程を取り出して示す図で、図4の(b)に示す針跡を形成する工程を示す断面図、(b)は図4の(c)に示す針跡のXY座標を検出する工程を示す断面図である。 図4の(a)〜(d)に示すアライメント工程の最後の工程を示す工程説明図である。
符号の説明
10 プローブ装置
11 ウエハチャック
12 プローブカード
12A プローブ
13A CCDカメラ(撮像手段)
16 針先位置検出装置
162 センサ部
162A センサ部本体
162C 接触体
162D 軟質部材
W 半導体ウエハ

Claims (22)

  1. 移動可能な載置台上の被検査体と複数のプローブを電気的に接触させて上記被検査体の電気的特性検査を行うに当たり、上記複数のプローブの針先を検出するセンサ部と、このセンサ部に属する移動可能な接触体とを備えた針先位置検出装置を用いて上記複数のプローブの針先位置を検出する方法であって、
    上記載置台を介して上記針先位置検出装置が移動して上記接触体を上記複数のプローブの針先と接触させる第1の工程と、
    上記載置台の更なる移動により上記複数のプローブを弾性変形させることなく上記接触体を上記センサ部側へ移動させる第2の工程と、
    上記接触体が移動し始める位置を上記複数のプローブの針先位置として判断する第3の工程と、を備えた
    ことを特徴とするプローブの針先位置の検出方法。
  2. 上記接触体は、軟質部材を介して上記複数のプローブと接触することを特徴とする請求項1に記載のプローブの針先位置の検出方法。
  3. 上記第2の工程では、上記複数のプローブは、上記軟質部材を傷つけないことを特徴とする請求項2に記載のプローブの針先位置の検出方法。
  4. 上記第2の工程では、上記接触体の現在位置を変位センサによって検出することを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のプローブの針先位置の検出方法。
  5. 上記第3の工程では、上記変位センサの検出結果に基づいて上記複数のプローブの針先位置を判断することを特徴とする請求項4に記載のプローブの針先位置の検出方法。
  6. 移動可能な載置台上の被検査体と複数のプローブを電気的に接触させて上記被検査体の電気的特性検査を行うに当たり、上記被検査体を撮像する撮像手段と上記複数のプローブの針先を検出する針先位置検出装置を用いて上記被検査体と上記複数のプローブとをアライメントする方法であって、
    上記針先位置検出装置を用いて上記複数のプローブの針先位置を検出する工程と、
    上記針先位置検出装置に装着された軟質部材と上記複数のプローブを接触させて上記気軟質部材に上記複数のプローブの針跡を転写する工程と、
    上記撮像手段を用いて上記軟質部材に形成された上記複数のプローブの針跡位置を検出する工程と、
    上記撮像手段を用いて上記複数のプローブに対応する上記被検査体の接触位置を検出する工程と、を備えた
    ことを特徴とするアライメント方法。
  7. 上記針先位置検出装置は、上記載置台に設けられ、且つ、上記複数のプローブの針先を検出するセンサ部と、このセンサ部に属する移動可能な接触体とを備えており、
    上記針先位置検出装置を用いて上記複数のプローブの針先位置を検出する工程は、
    上記載置台を介して上記針先位置検出装置が移動して上記接触体を上記複数のプローブの針先と接触させる第1の工程と、
    上記載置台の更なる移動により上記複数のプローブを弾性変形させることなく上記接触体を上記センサ部側へ移動させる第2の工程と、
    上記接触体が移動し始める位置を上記複数のプローブの針先位置として判断する第3の工程と、を備えた
    ことを特徴とする請求項6に記載のアライメント方法。
  8. 上記第2の工程では、上記複数のプローブは、上記軟質部材を傷つけないことを特徴とする請求項7に記載のアライメント方法。
  9. 上記第2の工程では、上記接触体の現在位置を変位センサによって検出することを特徴とする請求項7または請求項8に記載のアライメント方法。
  10. 上記第3の工程では、上記変位センサの検出結果に基づいて上記複数のプローブの針先位置を判断することを特徴とする請求項9に記載のアライメント方法。
  11. 被検査体と複数のプローブを電気的に接触させて上記被検査体の電気的特性検査を行うに当たり、上記複数のプローブの針先の位置を検出するために用いられる針先位置検出装置であって、
    上記針先位置検出装置は、上記複数のプローブの針先を検出するセンサ部を備え、且つ、
    上記センサ部は、センサ部本体と、上記センサ部本体に上記複数のプローブと接触するように移動可能に設けられた接触体と、上記接触体に第1の圧力を付与し、上記接触体を上記センサ部本体から所定距離だけ離間させる圧力付与手段と、を有し、
    上記接触体は、上記複数のプローブとの接触による上記センサ部本体側への移動により上記複数のプローブの針先位置を検出する
    ことを特徴とする針先位置検出装置。
  12. 上記センサ部は、上記接触体の現在位置を検出する変位センサを有することを特徴とする請求項11に記載の針先位置検出装置。
  13. 上記接触体が上記第1の圧力より大きな第2の圧力が付与されている時には、上記接触体は、上記複数のプローブと接触しても移動しないことを特徴とする請求項11または請求項12に記載の針先位置検出装置。
  14. 上記接触体は、着脱自在な軟質部材を有し、上記軟質部材を介して上記複数のプローブと接触することを特徴とする請求項11〜請求項13のいずれか1項に記載の針先位置検出装置。
  15. 上記軟質部材は、上記接触体が第1の圧力で上記複数のプローブと接触して上記接触体が移動する時にも傷つかない材料によって形成されていることを特徴とする請求項14に記載の針先位置検出装置。
  16. 上記軟質部材は、上記接触体が第2の圧力で上記複数のプローブと接触することにより上記複数のプローブの針跡が転写されることを特徴とする請求項14または請求項15に記載の針先位置検出装置。
  17. 被検査体を載置する移動可能な載置台と、この載置台の上方に配置された複数のプローブと、これらのプローブの針先の位置を検出するように上記載置台に設けられた針先位置検出装置と、を備えたプローブ装置であって、
    上記針先位置検出装置は、上記複数のプローブの針先を検出するセンサ部を備え、且つ、
    上記センサ部は、センサ部本体と、上記センサ部本体に上記複数のプローブと接触するように移動可能に設けられた接触体と、上記接触体に第1の圧力を付与し、上記接触体を上記センサ部本体から所定距離だけ離間させる圧力付与手段と、を有し、
    上記接触体は、上記複数のプローブとの接触による上記センサ部本体側への移動により上記複数のプローブの針先位置を検出する
    ことを特徴とするプローブ装置。
  18. 上記センサ部は、上記接触体の現在位置を検出する変位センサを有することを特徴とする請求項17に記載のプローブ装置。
  19. 上記接触体が上記第1の圧力より大きな第2の圧力が付与されている時には、上記接触体は、上記複数のプローブと接触しても移動しないことを特徴とする請求項17または請求項18に記載のプローブ装置。
  20. 上記接触体は、着脱自在な軟質部材を有し、上記軟質部材を介して上記複数のプローブと接触することを特徴とする請求項17〜請求項19のいずれか1項に記載のプローブ装置。
  21. 上記軟質部材は、上記接触体が第1の圧力で上記複数のプローブと接触して上記接触体が移動する時にも傷つかない材料によって形成されていることを特徴とする請求項20に記載のプローブ装置。
  22. 上記軟質部材は、上記接触体が第2の圧力で上記複数のプローブと接触することにより上記複数のプローブの針跡が転写されることを特徴とする請求項20または請求項21に記載のプローブ装置。
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CN2008100039701A CN101285865B (zh) 2007-03-23 2008-01-23 探针针尖位置检测方法及装置、对准方法以及探针装置
US12/046,879 US7839156B2 (en) 2007-03-23 2008-03-12 Method for detecting tip position of probe, alignment method, apparatus for detecting tip position of probe and probe apparatus
KR1020080022752A KR100945328B1 (ko) 2007-03-23 2008-03-12 프로브의 침끝위치의 검출 방법, 얼라이먼트 방법,침끝위치 검출 장치 및 프로브 장치
TW097110056A TWI431705B (zh) 2007-03-23 2008-03-21 Method for detecting the position of the needle end of the probe, the alignment method, the needle end position detecting device, and the probe device

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009252853A (ja) * 2008-04-02 2009-10-29 Tokyo Electron Ltd アライメント方法、針先位置検出装置及びプローブ装置
KR20200019188A (ko) * 2017-06-23 2020-02-21 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 프로브 장치 및 침적 전사 방법

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5295588B2 (ja) * 2008-02-28 2013-09-18 東京エレクトロン株式会社 プローブカードの傾き調整方法、プローブカードの傾き検出方法及びプローブカードの傾き検出方法を記録したプログラム記録媒体
DE202008013982U1 (de) * 2008-10-20 2009-01-08 Rosenberger Hochfrequenztechnik Gmbh & Co. Kg Messsystem zum Bestimmen von Streuparametern
KR101090333B1 (ko) * 2009-06-03 2011-12-07 주식회사 쎄믹스 척의 능동적 기울기 제어가 가능한 웨이퍼 프로브 스테이션 및 그 제어방법
ITVI20110343A1 (it) * 2011-12-30 2013-07-01 St Microelectronics Srl Sistema e adattatore per testare chips con circuiti integrati in un package
JP5993649B2 (ja) * 2012-07-31 2016-09-14 東京エレクトロン株式会社 プローブカードへの基板当接装置、基板当接装置を備えた基板検査装置、及びプローブカードへの基板当接方法
JP5918682B2 (ja) * 2012-10-09 2016-05-18 東京エレクトロン株式会社 プローブカード取り付け方法
CN103091521B (zh) * 2013-01-08 2015-07-15 上海交通大学 一种探针和引脚自动对准的方法及其探针台测试系统
US9335345B1 (en) * 2013-03-18 2016-05-10 Christos Tsironis Method for planarity alignment of waveguide wafer probes
US9322843B1 (en) * 2013-03-19 2016-04-26 Christos Tsironis Method for planarity alignment of wafer probes
JP5819880B2 (ja) * 2013-05-08 2015-11-24 本田技研工業株式会社 平行度調整装置および平行度調整方法
US9347979B2 (en) * 2013-10-01 2016-05-24 Infineon Technologies Ag Touchdown monitoring for individual dies of a semiconductor wafer
TWI498565B (zh) * 2013-12-11 2015-09-01 Mpi Corp 探針點測系統、探針高度調整方法與探針位置監測方法
KR101934880B1 (ko) * 2014-05-15 2019-01-03 삼성전자주식회사 탐침 장치 및 그 운용 방법
TWI528041B (zh) * 2015-04-30 2016-04-01 The method of adjusting the displacement distance of the probe according to the horizontal position of the plurality of points to be measured
TWI560795B (en) * 2015-06-01 2016-12-01 Mpi Corp Wafer probing device
CN105097598B (zh) * 2015-08-14 2018-06-26 武汉新芯集成电路制造有限公司 一种晶圆探针卡自动检测装置
JP6406221B2 (ja) * 2015-11-17 2018-10-17 三菱電機株式会社 半導体装置の評価装置及び評価方法
WO2017161193A1 (en) * 2016-03-16 2017-09-21 Hexagon Metrology, Inc. Optical probe with crash protection and probe clips
JP6501726B2 (ja) * 2016-04-19 2019-04-17 三菱電機株式会社 プローブ位置検査装置および半導体評価装置ならびにプローブ位置検査方法
WO2018118075A1 (en) 2016-12-23 2018-06-28 Intel Corporation Fine pitch probe card methods and systems
KR20180082754A (ko) * 2017-01-11 2018-07-19 (주)테크윙 테스트핸들러용 가압장치
KR20180088030A (ko) * 2017-01-26 2018-08-03 주식회사 탑 엔지니어링 프로브 장치
US10775414B2 (en) 2017-09-29 2020-09-15 Intel Corporation Low-profile gimbal platform for high-resolution in situ co-planarity adjustment
US11061068B2 (en) 2017-12-05 2021-07-13 Intel Corporation Multi-member test probe structure
US11204555B2 (en) 2017-12-28 2021-12-21 Intel Corporation Method and apparatus to develop lithographically defined high aspect ratio interconnects
US11073538B2 (en) 2018-01-03 2021-07-27 Intel Corporation Electrical testing apparatus with lateral movement of a probe support substrate
US10488438B2 (en) 2018-01-05 2019-11-26 Intel Corporation High density and fine pitch interconnect structures in an electric test apparatus
JP2019160937A (ja) * 2018-03-09 2019-09-19 東京エレクトロン株式会社 位置補正方法、検査装置及びプローブカード
CN108828425A (zh) * 2018-07-16 2018-11-16 苏州肯美特设备集成有限公司 一种半导体测试装置
US11543454B2 (en) 2018-09-25 2023-01-03 Intel Corporation Double-beam test probe
US10935573B2 (en) 2018-09-28 2021-03-02 Intel Corporation Slip-plane MEMS probe for high-density and fine pitch interconnects

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07169801A (ja) * 1993-12-14 1995-07-04 Nec Yamaguchi Ltd プローバ
JP2000260852A (ja) * 1999-03-11 2000-09-22 Tokyo Electron Ltd 検査ステージ及び検査装置
JP2005012119A (ja) * 2003-06-20 2005-01-13 Tokyo Electron Ltd 検査方法及び検査装置
JP2005079253A (ja) * 2003-08-29 2005-03-24 Tokyo Electron Ltd 検査方法及び検査装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3208734B2 (ja) * 1990-08-20 2001-09-17 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置
US5644245A (en) * 1993-11-24 1997-07-01 Tokyo Electron Limited Probe apparatus for inspecting electrical characteristics of a microelectronic element
US5773987A (en) * 1996-02-26 1998-06-30 Motorola, Inc. Method for probing a semiconductor wafer using a motor controlled scrub process
US7009415B2 (en) * 1999-10-06 2006-03-07 Tokyo Electron Limited Probing method and probing apparatus
JP2001356134A (ja) * 2000-04-13 2001-12-26 Innotech Corp プローブカード装置およびそれに用いられるプローブ
JP2006339196A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローバの移動量演算校正方法、移動量演算校正処理プログラム及びプローバ
US8311758B2 (en) * 2006-01-18 2012-11-13 Formfactor, Inc. Methods and apparatuses for dynamic probe adjustment
JP5034614B2 (ja) * 2007-03-30 2012-09-26 東京エレクトロン株式会社 プロービング方法、プローブ装置及び記憶媒体

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07169801A (ja) * 1993-12-14 1995-07-04 Nec Yamaguchi Ltd プローバ
JP2000260852A (ja) * 1999-03-11 2000-09-22 Tokyo Electron Ltd 検査ステージ及び検査装置
JP2005012119A (ja) * 2003-06-20 2005-01-13 Tokyo Electron Ltd 検査方法及び検査装置
JP2005079253A (ja) * 2003-08-29 2005-03-24 Tokyo Electron Ltd 検査方法及び検査装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009252853A (ja) * 2008-04-02 2009-10-29 Tokyo Electron Ltd アライメント方法、針先位置検出装置及びプローブ装置
KR20200019188A (ko) * 2017-06-23 2020-02-21 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 프로브 장치 및 침적 전사 방법
US11221350B2 (en) 2017-06-23 2022-01-11 Tokyo Electron Limited Probe device for improving transfer accuracy of needle traces of probes and needle trace transcription method therefor
KR102366895B1 (ko) * 2017-06-23 2022-02-23 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 프로브 장치 및 침적 전사 방법

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