JP2008231548A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008231548A JP2008231548A JP2007076304A JP2007076304A JP2008231548A JP 2008231548 A JP2008231548 A JP 2008231548A JP 2007076304 A JP2007076304 A JP 2007076304A JP 2007076304 A JP2007076304 A JP 2007076304A JP 2008231548 A JP2008231548 A JP 2008231548A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- anode electrode
- disposed
- vapor deposition
- magnetic field
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【課題】成膜速度が速い蒸着装置を提供する。
【解決手段】カソード電極31の先端とアノード電極21の先端とを揃え、アーク放電によって生じたプラズマがアノード電極21に接触しないようにする。プラズマ中に微小荷電粒子が電荷を失い、中性粒子となることが防止されるので、磁界形成装置15によって成膜対象物17方向に曲げられる粒子が増加し、成膜速度が速くなる。アノード電極21の先端の成膜対象物17が配置された側に遮蔽電極27を設けておくと、巨大粒子が成膜対象物17に到達せず、膜質が向上する。
【選択図】 図1
Description
この真空蒸着装置102は、真空槽110を有しており、真空槽110の内部には、同軸型真空アーク蒸着源111が配置されている。
同軸型真空アーク蒸着源111の筒状のアノード電極の内部には、棒状の蒸着源本体122が配置されている。
蒸着源本体122は、アノード電極121の内部でカソード電極131が設けられた方の端部が放出口136に向けられている。
カソード電極131は、棒状電極132に電気的に接続されている。トリガ電極133は棒状電極132やカソード電極131から絶縁されている。
コンデンサユニットが充電された後、トリガ放電を発生させると、アーク放電が再び流れ、薄膜が成長する。
磁界形成装置と同軸型真空アーク蒸着源を用いて薄膜を形成する技術は、例えば下記文献に記載されている。
そうだとすると、プラズマをアノード電極に接触させなければよい。加えて、膜質を向上させるためには、成膜対象物が配置された方向に、巨大粒子が飛行しないようにするとよい。
また、本発明は、前記アノード電極の先端の前記成膜対象物が配置された側には、前記アノード電極と電気的に接続された遮蔽電極が配置された真空蒸着装置である。
また、本発明は、前記アノード電極の先端の前記成膜対象物が配置された側とは反対側の位置に、前記アノード電極に電気的に接続された網状電極が配置された真空蒸着装置である。
薄膜中に液滴の混入がない。
この真空蒸着装置1は、真空槽10を有しており、該真空槽10の内部には、同軸型真空アーク蒸着源11が配置されている。
この同軸型真空アーク蒸着源11は、アノード電極21と、蒸着源本体22を有している。
蒸着源本体22は、蒸着材料から成るカソード電極31と、棒状電極32と、トリガ電極33と、絶縁筒34とを有している。この蒸着源本体22の斜視図を図3(a)に示す。
トリガ電極33はリング状であり、絶縁筒34の外周のカソード電極31に近く、カソード電極31とは離間した位置に嵌め込まれている。
アノード電極21と、カソード電極31と、絶縁筒34と、棒状電極32の中心軸線は一致するように配置されている。符号39はその中心軸線を示している。
電荷質量比が小さな巨大荷電粒子や中性粒子は直進し、アノード電極21の側面に衝突し、そこに付着する。
遮蔽電極27は、ここでは、アノード電極21を構成する円筒形の金属材料が、円周に沿った方向に中心角度θ、中心軸線39に沿った方向に長さD(全長100cmに対してD=60cm)だけ切り欠かれ、金属材料の残りの部分で、円周に沿った方向に中心角度2π−θ、中心軸線39に沿った方向に長さDの遮蔽部材が形成されている。
ここではθ=π(180°)であり、切り欠き部分と遮蔽電極27の部分の、円周方向に沿った長さは半円周になるようにされている。
遮蔽部材が配置されない部分では、プラズマが拡がってもアノード電極21と同電位の部材には接触せず、微小荷電粒子が中性粒子化しない。従って、微小荷電粒子を多く含む蒸気がアノード電極21の放出口36から真空槽10内に放出される。
アノード電極21の中心軸線39の延長線上には磁界形成装置15が配置されている。
同軸型真空アーク蒸着源11からは微小荷電粒子が多量に放出され、磁界形成装置15によって成膜対象物17に照射されるから、成膜速度が速い。
10……真空槽
15……磁界形成装置
17……成膜対象物
21……アノード電極
22……蒸着源本体
27……遮蔽電極
28……網状電極
31……カソード電極
33……トリガ電極
39……中心軸線
Claims (3)
- 筒状のアノード電極と、
前記アノード電極内に配置されたカソード電極と、
前記アノード電極内で前記カソード電極とは絶縁して配置されたトリガ電極と、
前記アノード電極の中心軸線の延長線上に配置され、荷電粒子の飛行方向を曲げる磁界を形成する磁界形成装置とを有し、
前記アノード電極の先端の放出口から放出された電子が前記磁界形成装置を通過し、曲げられた後の飛行方向と交叉する位置に成膜対象物を配置すると、前記カソード電極の材料蒸気によって、前記成膜対象物表面に薄膜が形成される真空蒸着装置であって、
前記カソード電極は、その先端が前記アノード電極の先端と同一平面上に位置するように配置された真空蒸着装置。 - 前記アノード電極の先端の前記成膜対象物が配置された側には、
前記アノード電極と電気的に接続された遮蔽電極が配置された請求項1記載の真空蒸着装置。 - 前記アノード電極の先端の前記成膜対象物が配置された側とは反対側の位置に、前記アノード電極に電気的に接続された網状電極が配置された請求項2記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007076304A JP4746578B2 (ja) | 2007-03-23 | 2007-03-23 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007076304A JP4746578B2 (ja) | 2007-03-23 | 2007-03-23 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008231548A true JP2008231548A (ja) | 2008-10-02 |
JP4746578B2 JP4746578B2 (ja) | 2011-08-10 |
Family
ID=39904702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007076304A Expired - Fee Related JP4746578B2 (ja) | 2007-03-23 | 2007-03-23 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4746578B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011026676A (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Olympus Corp | プラズマ処理装置および光学素子成形型の製造方法 |
EP2398037A1 (de) * | 2010-06-18 | 2011-12-21 | Herr Werner Grimm | Anordnung und Verfahren zur dropletarmen Beschichtung von Substraten mit einem Vakuumlichtbogenverdampfer |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000303166A (ja) * | 1999-04-16 | 2000-10-31 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着源、蒸着装置及び蒸着方法 |
JP2002256419A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-11 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | アーク蒸発源、その点弧方法、及びそれを用いた蒸着膜の反射率制御方法 |
JP2003321769A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-14 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着装置 |
JP2006083431A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着源と蒸着装置 |
JP2006161063A (ja) * | 2004-12-02 | 2006-06-22 | Olympus Corp | 表面処理装置及び光学素子成形用型 |
-
2007
- 2007-03-23 JP JP2007076304A patent/JP4746578B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000303166A (ja) * | 1999-04-16 | 2000-10-31 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着源、蒸着装置及び蒸着方法 |
JP2002256419A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-11 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | アーク蒸発源、その点弧方法、及びそれを用いた蒸着膜の反射率制御方法 |
JP2003321769A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-14 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着装置 |
JP2006083431A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着源と蒸着装置 |
JP2006161063A (ja) * | 2004-12-02 | 2006-06-22 | Olympus Corp | 表面処理装置及び光学素子成形用型 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011026676A (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Olympus Corp | プラズマ処理装置および光学素子成形型の製造方法 |
EP2398037A1 (de) * | 2010-06-18 | 2011-12-21 | Herr Werner Grimm | Anordnung und Verfahren zur dropletarmen Beschichtung von Substraten mit einem Vakuumlichtbogenverdampfer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4746578B2 (ja) | 2011-08-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20100059369A1 (en) | Plasma generating apparatus rendered electrically neutral on the periphery of plasma gun | |
TWI553132B (zh) | Arc蒸鍍裝置及真空處理裝置 | |
JP6100619B2 (ja) | イオン源およびイオンミリング装置 | |
JP2007016768A (ja) | スパッタイオンポンプ | |
JP4746578B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP2009114497A (ja) | 成膜装置 | |
JP4233332B2 (ja) | 蒸着装置 | |
TW508370B (en) | Arc type ion plating apparatus | |
JP4535625B2 (ja) | 蒸着源及び蒸着装置 | |
JP2003321769A (ja) | 蒸着装置 | |
KR102417574B1 (ko) | 전리 진공계 및 카트리지 | |
JP4629394B2 (ja) | 蒸着源と蒸着装置 | |
JP2004018899A (ja) | 蒸着源及び成膜装置 | |
JP5340848B2 (ja) | プラズマ処理装置および光学素子成形型の製造方法 | |
JP5025991B2 (ja) | アーク蒸着源、成膜装置 | |
JP2001011606A (ja) | 同軸型真空アーク蒸着源を有する蒸着装置 | |
JPH11246964A (ja) | 蒸着源及び蒸着装置 | |
JP2013008471A (ja) | ガスイオン源 | |
EP4368742A1 (en) | Arc evaporation source | |
JP5133359B2 (ja) | 蒸着源 | |
JP4594455B2 (ja) | 蒸着源及び蒸着装置 | |
EP3242534A1 (en) | Apparatus for generating a plasma jet, in particular for space propulsion | |
US11259397B2 (en) | Microwave plasma source | |
JP2015040313A (ja) | 成膜装置 | |
JP4751850B2 (ja) | 真空蒸着装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090903 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110329 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110329 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110510 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110513 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4746578 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |