JP2008230895A - ZnOウィスカー、ZnOウィスカー膜及びそれらの作製方法 - Google Patents

ZnOウィスカー、ZnOウィスカー膜及びそれらの作製方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008230895A
JP2008230895A JP2007072248A JP2007072248A JP2008230895A JP 2008230895 A JP2008230895 A JP 2008230895A JP 2007072248 A JP2007072248 A JP 2007072248A JP 2007072248 A JP2007072248 A JP 2007072248A JP 2008230895 A JP2008230895 A JP 2008230895A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
zno
whisker
zno whisker
particles
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007072248A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4899229B2 (ja
Inventor
Yoshitake Masuda
佳丈 増田
Kunihito Kawamoto
邦仁 河本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST filed Critical National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority to JP2007072248A priority Critical patent/JP4899229B2/ja
Publication of JP2008230895A publication Critical patent/JP2008230895A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4899229B2 publication Critical patent/JP4899229B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

【課題】ZnOウィスカー及びZnOウィスカー膜及びこれらの作製方法を提供する。
【解決手段】ZnO結晶を主成分とするZnOウィスカーであって、アスペクト比が2以上のウィスカー形状粒子であり、フォトルミネッセンススペクトルcで示される可視光領域におけるフォトルミネッセンス特性を有するZnOウィスカー、及び、溶液プロセスにより、酸化亜鉛が析出する溶液反応系で、温度、原料濃度、添加剤、pH条件のいずれかの条件を調整してZnO結晶を析出させ、ZnOウィスカーを合成すること、あるいは、ZnOウィスカーを基板上に堆積させることによりZnOウィスカー膜を形成させるZnOウィスカー又はZnOウィスカー膜の製造方法。
【効果】高い比表面積と高い導電率を両立させたナノ構造体であるZnO結晶ウィスカーの電子デバイスを提供することができる。
【選択図】図3

Description

本発明は、ZnOウィスカー、ZnOウィスカー膜及びそれらの作製方法に関するものであり、更に詳しくは、ZnO結晶を主成分(モル比50%以上)とするアスペクト比2以上のウィスカー形状粒子、ウィスカー形状粒子集積膜及びそれらの作製方法に関するものである。本発明において、ウィスカー状粒子(ひげ状粒子、針状粒子、棒状粒子)とは、アスペクト比が2以上の異方性粒子を指す。アスペクト比とは、長さ/直径の比のことで、球状粒子や立方体粒子ではアスペクト比1、針状粒子や棒状粒子等のウィスカー状粒子ではアスペクト比1以上となる。本発明は、例えば、分子センサー、ガスセンサー、溶液センサーや色素増感型太陽電池等として利用できる高導電性ZnOウィスカー、ZnOウィスカー膜、その作製方法及び高電導性Znウィスカー部材を提供するものである。
ZnOは、様々な分野において幅広く利用されてきたが、近年、特に、色素増感型太陽電池や分子センサー用として、その導電性、蛍光特性、透明導電性等への関心が高まっている。また、低環境負荷プロセスへの移行や形態制御能の高さから、溶液プロセスによるZnO結晶の合成も活発に推進されている。
これまでに、六角柱状ZnO粒子、楕円体ZnO粒子、多針体ZnO粒子の合成が報告されている(非特許文献1)。また、ZnOウィスカーについては、先行技術として、例えば、単結晶のチューブ状酸化亜鉛ウィスカーの製造方法(特許文献1)、導電性テトラポッド状酸化亜鉛ウィスカーの製造方法(特許文献2)、導電性テトラポッド状酸化亜鉛ウィスカー及びその製造方法(特許文献3)、更に、フラーレンナノウィスカー等の液相合成方法及びその用途(特許文献4)、が提案されている。
上記先行技術では、上述のように、例えば、それまでの方法では、多結晶体しか得られなかった酸化亜鉛が単結晶で得られるようになり、電子移動度や発光強度が多結晶体よりもすぐれている単結晶のチューブ状酸化亜鉛ウィスカーが得られたこと等が示されている。しかし、水溶液プロセスによるZnOウィスカー及びZnOウィスカー膜の合成は報告されていない。
特開2004−299920号公報 特開平6−24744号公報 特開平6−24745号公報 特開2006−83050号公報 Y.Masuda,N.Kinoshita,F.Sato,K.Koumoto,Crystal Growth & Design(2006),6,75
このような状況の中で、本発明者らは、上記従来技術に鑑みて、不純物の混入や、反応系の複雑化、高コスト化を回避してZnOウィスカー及びZnOウィスカー膜を合成することを目標として鋭意研究を積み重ねた結果、溶液プロセスを利用した反応系を開発することに成功し、本発明を完成するに至った。本発明は、溶液プロセスを利用して、高い比表面積と高い導電率を両立させることを可能としたZnOウィスカー、ZnOウィスカー膜及びそれらの作製方法を提供することを目的とするものである。
上記課題を解決するための本発明は、以下の技術的手段から構成される。
(1)ZnO結晶を主成分(モル比50%以上)とするZnOウィスカーであって、アスペクト比が少なくても2のウィスカー形状粒子であり、図3cのフォトルミネッセンススペクトルで示される可視光領域におけるフォトルミネッセンス特性を有することを特徴とするZnOウィスカー。
(2)ウィスカーが、直径10−50nm、長さ1000−2000nmの高アスペクト比を有する、前記(1)に記載のZnOウィスカー。
(3)ウィスカーが、図2cのX線回折パターンを示す、前記(1)又は(2)に記載のZnOウィスカー。
(4)ウィスカー粒子が、ひげ状粒子、針状粒子、又は棒状粒子である、前記(1)に記載のZnOウィスカー。
(5)前記(1)から(4)のいずれかに記載のZnOウィスカー粒子を基板上に堆積させて形成したZnOウィスカーネットワーク膜であって、ランダムなZnO粒子と比べて高い比表面積と高い導電率を両立させたナノ構造体からなることを特徴とするZnOウィスカー膜。
(6)前記(4)に記載のZnOウィスカー膜を構成要素として含むことを特徴とする高比表面積と高導電率を両立させた導電性ZnOウィスカー部材。
(7)溶液プロセスによりZnOウィスカー乃至ZnOウィスカー膜を製造する方法であって、酸化亜鉛が析出する溶液反応系で、温度、原料濃度、添加剤、乃至pH条件のいずれかの条件を調整してZnO結晶を析出させ、図3cのフォトルミネッセンススペクトルで示される可視光領域におけるフォトルミネッセンス特性を有するZnOウィスカーを合成すること、あるいは、該ZnOウィスカーを基板上に堆積させることによりZnOウィスカー膜を形成させることを特徴とするZnOウィスカー又はZnOウィスカー膜の製造方法。
(8)添加剤として、エチレンジアミン又はアンモニアを用いる、前記(7)に記載の方法。
(9)溶液反応系が、亜鉛含有水溶液の水熱反応系である、前記(7)に記載の方法。
(10)基板として、シリコン、ガラス、金属、セラミックス、又はポリマーの基板を用いる、前記(7)に記載の方法。
次に、本発明について更に詳細に説明する。
本発明は、ZnO結晶を主成分(モル比50%以上)とするZnOウィスカーであって、アスペクト比が2以上のウィスカー形状粒子であり、図3cのフォトルミネッセンススペクトルで示される可視光領域におけるフォトルミネッセンス特性を有することを特徴とするものである。本発明では、ウィスカーが、直径10−50nm、長さ1000−2000nmの高アスペクト比を有すること、ウィスカーが、図2cのX線回折パターンを示すこと、ウィスカー粒子が、ひげ状粒子、針状粒子、又は棒状粒子であること、を好ましい実施の態様としている。
また、本発明は、上記のZnOウィスカー粒子を基板上に堆積させて形成したZnOウィスカーネットワーク膜であって、ランダムなZnO粒子と比べて高い比表面積と高い導電率を両立させたナノ構造体からなることを特徴とするものである。また、本発明は、上記ZnOウィスカー膜を構成要素として含むことを特徴とする高比表面積と高導電率を両立させた導電性ZnO部材の点に特徴を有するものである。
また、本発明は、溶液プロセスによるZnOウィスカー乃至ZnOウィスカー膜の製造方法であって、酸化亜鉛が析出する溶液反応系で、温度、原料濃度、添加剤、pH条件のいずれかの条件を調整してZnO結晶を析出させ、図3cのフォトルミネッセンススペクトルで示される可視光領域におけるフォトルミネッセンス特性を有するZnOウィスカーを合成すること、あるいは、該ZnOウィスカーを基板上に堆積させることによりZnOウィスカー膜を形成させることを特徴とするものである。
従来法では、実験条件として、50℃の酢酸亜鉛水溶液にアンモニア(28%水溶液)を加え、攪拌しながら50℃にて保持し、ZnO粒子を合成している。溶液中の酢酸亜鉛濃度、アンモニア濃度は、それぞれ15mM(酢酸亜鉛)、30,60又は90mM(アンモニア)であり、それらのモル比は、([NH]/[Zn]=2.0,4.0or6.0)に調整されている。
また、これら3条件でのpHは、それぞれ、pH=7.04,7.50又は8.93であった。しかし、センサーや色素増感型太陽電池などの電子デバイス向けには、高比表面積のZnOが求められている。また、新規な特性の発現を目指して、ウィスカー形状やファイバー状の酸化物材料の開発も進められている。
本発明は、上記従来の事情に鑑みてなされたものであり、ZnOウィスカー及びZnOウィスカー膜を提供し、かつ、これらの作製方法を提供することを課題としている。本発明では、テンプレートや有機物の添加を必要とせず、ZnOの結晶成長を精密にコントロールすることにより、形態制御を実現して、ZnOウィスカー及びZnOウィスカー膜の開発に成功した。
そのため、不純物の混入や、反応系の複雑化、高コスト化を回避することに成功しており、本発明のZnOウィスカー及びZnOウィスカー膜は、様々な分野への適用が可能である。また、ZnOウィスカー及びウィスカー膜は、高い比表面積と高い導電率を両立させることのできたナノ構造体であり、例えば、分子センサー、ガスセンサー、色素増感型太陽電池において、電子デバイス等として、高い特性を発現可能である。
本発明は、ZnO結晶の異方成長を用いてZnOウィスカー及びZnOウィスカー膜を合成することを最も主要な特徴としている。原料としては、亜鉛含有溶液が用いられる。亜鉛含有溶液には、実施例の酢酸亜鉛水溶液の他、硝酸亜鉛水溶液等の亜鉛塩類の亜鉛含有水溶液を用いることができる。
また、酸化亜鉛が析出する反応系であれば、有機溶液等の、非水溶液反応系も用いることができる。酸化亜鉛が析出する反応系であれば、水熱反応等も用いることができる。
後記する実施例の様に酢酸亜鉛を原料として用いた際には、錯化剤として、エチレンジアミンに代えて、アンモニア等を用いることができる。また、エチレンジアミン等を添加せず、温度や原料濃度、pHを変化させて、ZnOを析出させることもできる。
温度も、原料濃度、添加剤、pH等に合わせて、水溶液の凝固点以上かつ沸点以下(およそ0−99℃)の範囲で用いることができる。ウィスカー膜の作製の際に、シリコン基板以外に、ガラス、金属、セラミックス、ポリマー等の種々の基板を用いることができる。また、平板上基板以外に、例えば、粒子基材、繊維基材、複雑形状基材等も用いることができる。
本発明のZnOウィスカー及びZnOウィスカー膜は、図3のフォトルミネッセンススペクトルで示される可視光領域におけるフォトルミンッセンス特性を有し、図2cのX線回折パターンを示すことで特徴付けられるものであり、これらの物理的特性を比較することで、ランダムなZnO粒子や他の特定形態のZnO粒子や既存のZnOウィスカー粒子と区別(識別)することが可能である。
本発明により、次のような効果が奏される。
(1)ZnO結晶の異方成長を利用することにより、溶液プロセスでZnOウィスカー及びZnOウィスカー膜を作製することができる。
(2)有機物の添加を用いていないため、不純物の混入を回避することができる。
(3)数百℃での高温加熱処理を経ることなく、ZnO結晶ウィスカー及びウィスカー膜を得ることができる。
(4)本発明は、ZnOウィスカー及びZnOウィスカー膜を、高い比表面積と高い導電率を両立させることのできるナノ構造体として提供するものであり、例えば、分子センサー、ガスセンサー、色素増感型太陽電池の分野において、高い特性を発現できる電子デバイスを提供することを可能とするものである。
次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。
本実施例では、ZnOウィスカーを作製した。また、このウィスカーを基板上に堆積あるいは析出させることにより、ZnOウィスカー膜を作製した。また、比較例として、通常のZnO粒子を作製した。
(1)作製方法
15mMの酢酸亜鉛(Zn(CHCOO))水溶液を調製した後、15−45mMのエチレンジアミンを錯化剤として添加し、溶液を60℃にて3時間保持した。この際、エチレンジアミンと亜鉛のモル比を、[ethylendiamine]/[Zn]=(a)1:1、(b)2:1、(c)3:1と変化させた。
エチレンジアミンの添加直後からZnO粒子が生成し始め、溶液は白濁した。また、エチレンジアミンの添加量の増加に伴い、白濁の速度も速くなった。ZnO粒子の評価のため、シリコン基板を溶液に浸積し、基板状に堆積したZnO粒子をSEM、XRD、蛍光光度計にて評価した。
(2)六角柱状ZnO粒子及び長楕円体ZnO粒子の合成とフォトルミネッセンス特性
図1に、ZnO粒子のSEMによる二次電子像写真を示す。エチレンジアミン15mM含有水溶液中([ethylendiamine]/[Zn]=(a)1:1)において、六角柱状ZnO粒子が生成した(図1a)。図2に、ZnO粒子のX線回折パターンを示す。XRDからは、析出した粒子がZnO結晶であることが示された。(10−10)及び(0002)の回折強度は、ランダムなZnO粒子の回折パターンと同様であった。
粒子は、直径100−200nmの正六角形の面を有しており、長さは、およそ500nmであった。ZnOは、六方晶の結晶構造を有しているため、十分に遅い結晶成長においては、結晶構造を反映して、六角柱状に成長したものと考えられる。図3に、ZnO粒子のフォトルミネッセンススペクトルを示す。この粒子は、350nmの励起光によって、UV領域(370−400nm)及び可視光領域(530−550nm)にフォトルミネッセンスを示した(図3a)。
これは、ZnOが、390nm付近に、band−edge luminescence(バンド端発光)由来の強い紫外発光を示し、450−600nm付近に酸素欠陥由来の可視発光を示すことによるものである。続いて、エチレンジアミン濃度を2倍に増加させた([ethylendiamine]/[Zn]=(a)2:1)。水溶液中では、均一核生成により、長楕円体形状を有するZnO粒子が生成した(図1b)。
粒子サイズは、直径100−200nm、長さ500nm程度であり、六角柱状粒子に類似したサイズであった。XRDからは、粒子がZnO結晶であることが示された(図2b)。また、(10−10)面の回折強度は、(0002)よりもずっと強いものであり、長楕円体粒子のほとんどが基板状に横たわった状態で堆積していることを示している。これは、SEM観察の結果とも一致する(図1b)。
長楕円体粒子の生成速度は、六角柱状粒子の生成速度よりもわずかに速かった。これは、錯化剤であるエチレンジアミンの濃度を増加させたことによる効果である。また、速い結晶成長により、六角柱状粒子の角がまるくなり、長楕円体形状へと変化したものと考えられる。
長楕円体粒子の発光特性は、六角柱状粒子と同様であった(図3b)。[ethylendiamine]/[Zn]=1−2の範囲では、フォトルミネッセンス特性は、粒子の合成条件によらず、安定していることが示された。フォトルミネッセンス特性が合成条件の影響を受けずに高い再現性と安定性を示すことは、本反応系の利点であり、マスプロダクションへの適用の際には、大きなアドバンテージとなる。
(3)ZnOウィスカーの合成
エチレンジアミン濃度を更に増加させて、[ethylendiamine]/[Zn]=3:1とし、ZnO粒子の生成速度を更に高めた。ウィスカー形状を有するZnO結晶粒子が生成した。ウィスカーは、直径10−50nm、長さ1000−2000nmの高いアスペクト比を有していた(図1c)。
この高いアスペクト比は、a面の結晶成長速度が高いことにより、結晶をc軸方向へと異方成長させたことによるものである。XRDからは、粒子がZnO結晶であることが示された(図2c)。(10−10)面の回折強度は(0002)面の回折強度よりもはるかに強いものであり、ほとんどのウィスカーが基板状に横たわった状態で堆積していることを示している。これは、SEM観察からも確認されている(図1c)。
これらのZnOウィスカーを用いることにより、基板上にZnOウィスカーネットワーク膜を形成させることができ、高比表面積を必要とする各種センサー(分子センサー、ガスセンサー等)や色素増感型太陽電池等の分野における電子デバイスへの応用が可能である。
また、このZnOウィスカー膜は、ウィスカーが、高いアスペクト比を持つため、長軸方向に電流を流した場合、少ない粒界数でキャリアを運ぶことができる。そのため、粒子膜やメソポーラス膜などの高比表面積ZnO膜と比較して、ZnOウィスカー膜は、単位質量あたり(あるいは単位体積当たり)の導電率が高いメリットを持つ。
ZnOウィスカーの可視光領域におけるフォトルミネッセンス特性は、六角柱状粒子、長楕円体粒子とは大きく異なるものであった(図3c)。ZnOウィスカーは、その形状が六角柱状粒子及び長楕円体粒子から大きく異なっており、そのことからも、結晶成長プロセスが大幅に異なり、そのため、酸素欠陥の生成にも大きな差異が生じたものと考えられる。
15mMの酢酸亜鉛(Zn(CHCOO))水溶液を調製した後、15−45mMのエチレンジアミンを添加し、溶液を60℃にて3時間保持した。水溶液中において、ZnO結晶が析出し、それぞれのエチレンジアミン濃度において、ZnO六角柱状粒子(エチレンジアミン15mM)、ZnO長楕円体粒子(エチレンジアミン30mM)、ZnOウィスカー(エチレンジアミン45mM)が生成した。
また、これを基板上に堆積させることにより、粒子膜及びウィスカー膜を形成させることができた。ZnOウィスカーは、直径10−50nm、長さ1000−2000nmの高いアスペクト比を有していた。この高いアスペクト比は、a面の結晶成長速度が高いことにより、結晶をc軸方向へと異方成長させたことによるものである。ZnOウィスカー及びウィスカー膜は、高い比表面積と高い導電率を両立させることのできるナノ構造体であり、分子センサー、ガスセンサー、色素増感型太陽電池の電子デバイスとして、高い特性を発現できるものである。
以上詳述したように、本発明は、ZnOウィスカー、ZnOウィスカー膜及びそれらの作製方法に係るものであり、ZnO結晶の異方成長を利用することにより、ZnOウィスカー及びZnOウィスカー膜を作製し、提供することができる。本発明の溶液反応系では、有機物の添加を用いていないため、不純物の混入を回避することができる。本発明により、数百℃での高温加熱処理を経ることなく、ZnO結晶ウィスカー及びそのウィスカー膜を得ることができる。本発明は、ZnO結晶ウィスカー及びウィスカー膜であって、高い比表面積と高い導電率を両立させることのできるナノ構造体を提供するものであり、例えば、分子センサー、ガスセンサー、色素増感型太陽電池等において、高い特性を発現できる電子デバイスを提供可能にするものとして有用である。
ZnO粒子のSEMによる二次電子像写真である。(a):ZnO六角柱粒子、(b):ZnO長楕円体粒子、(c):ZnOウィスカー。 ZnO粒子のX線回折パターンである。(a):ZnO六角柱粒子、(b):ZnO長楕円体粒子、(c):ZnOウィスカー。 ZnO粒子のフォトルミネッセンススペクトルである。(a):ZnO六角柱粒子、(b):ZnO長楕円体粒子、(c):ZnOウィスカー。

Claims (10)

  1. ZnO結晶を主成分(モル比50%以上)とするZnOウィスカーであって、アスペクト比が少なくても2のウィスカー形状粒子であり、図3cのフォトルミネッセンススペクトルで示される可視光領域におけるフォトルミネッセンス特性を有することを特徴とするZnOウィスカー。
  2. ウィスカーが、直径10−50nm、長さ1000−2000nmの高アスペクト比を有する、請求項1に記載のZnOウィスカー。
  3. ウィスカーが、図2cのX線回折パターンを示す、請求項1又は2に記載のZnOウィスカー。
  4. ウィスカー粒子が、ひげ状粒子、針状粒子、又は棒状粒子である、請求項1に記載のZnOウィスカー。
  5. 請求項1から4のいずれかに記載のZnOウィスカー粒子を基板上に堆積させて形成したZnOウィスカーネットワーク膜であって、ランダムなZnO粒子と比べて高い比表面積と高い導電率を両立させたナノ構造体からなることを特徴とするZnOウィスカー膜。
  6. 請求項4に記載のZnOウィスカー膜を構成要素として含むことを特徴とする高比表面積と高導電率を両立させた導電性ZnOウィスカー部材。
  7. 溶液プロセスによりZnOウィスカー乃至ZnOウィスカー膜を製造する方法であって、酸化亜鉛が析出する溶液反応系で、温度、原料濃度、添加剤、乃至pH条件のいずれかの条件を調整してZnO結晶を析出させ、図3cのフォトルミネッセンススペクトルで示される可視光領域におけるフォトルミネッセンス特性を有するZnOウィスカーを合成すること、あるいは、該ZnOウィスカーを基板上に堆積させることによりZnOウィスカー膜を形成させることを特徴とするZnOウィスカー又はZnOウィスカー膜の製造方法。
  8. 添加剤として、エチレンジアミン又はアンモニアを用いる、請求項7に記載の方法。
  9. 溶液反応系が、亜鉛含有水溶液の水熱反応系である、請求項7に記載の方法。
  10. 基板として、シリコン、ガラス、金属、セラミックス、又はポリマーの基板を用いる、請求項7に記載の方法。
JP2007072248A 2007-03-20 2007-03-20 ZnOウィスカー膜及びそれらの作製方法 Expired - Fee Related JP4899229B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007072248A JP4899229B2 (ja) 2007-03-20 2007-03-20 ZnOウィスカー膜及びそれらの作製方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007072248A JP4899229B2 (ja) 2007-03-20 2007-03-20 ZnOウィスカー膜及びそれらの作製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008230895A true JP2008230895A (ja) 2008-10-02
JP4899229B2 JP4899229B2 (ja) 2012-03-21

Family

ID=39904146

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007072248A Expired - Fee Related JP4899229B2 (ja) 2007-03-20 2007-03-20 ZnOウィスカー膜及びそれらの作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4899229B2 (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008254992A (ja) * 2007-04-09 2008-10-23 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd 酸化亜鉛及びその製造方法並びにそれを用いた化粧料
JP2009167037A (ja) * 2008-01-11 2009-07-30 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ZnOウィスカー膜、ZnOウィスカー膜形成のためのシード層及びそれらの作製方法
JP2010139497A (ja) * 2008-12-12 2010-06-24 Korea Electronics Telecommun 酸化物半導体ナノ繊維を利用した超高感度ガスセンサー及びその製造方法
CN101853737A (zh) * 2009-03-30 2010-10-06 Tdk株式会社 光电转换元件用电极及其制造方法、以及色素增感型太阳能电池
JP2011111346A (ja) * 2009-11-25 2011-06-09 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology Zn(OH)2ナノシートとZnOナノウィスカー膜によるハイブリッドフィルム、ZnOナノシートとZnOナノウィスカー膜によるハイブリッドフィルム、およびそれらの作製方法
WO2012147887A1 (ja) * 2011-04-28 2012-11-01 堺化学工業株式会社 六角柱状酸化亜鉛粒子、その製造方法、並びに、それを配合した化粧料、放熱性フィラー、放熱性樹脂組成物、放熱性グリース及び放熱性塗料組成物
US8629411B2 (en) 2010-07-13 2014-01-14 First Solar, Inc. Photoluminescence spectroscopy
CN104005087A (zh) * 2014-05-09 2014-08-27 洛阳威乐美科技有限公司 一种氧化锌晶须的制备方法
JP5641225B2 (ja) * 2008-10-27 2014-12-17 国立大学法人 名古屋工業大学 柱状ZnO粒子の製造方法
US9120681B2 (en) 2011-04-28 2015-09-01 Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Method for production of zinc oxide particles
JP2018070881A (ja) * 2016-10-25 2018-05-10 ロッテ アドバンスト マテリアルズ カンパニー リミテッド 熱可塑性樹脂組成物およびこれから製造された成形品
JP2020503228A (ja) * 2016-12-20 2020-01-30 ロッテ アドバンスト マテリアルズ カンパニー リミテッド 人造大理石用組成物
JP2021508742A (ja) * 2017-12-26 2021-03-11 ロッテ ケミカル コーポレイション 熱可塑性樹脂組成物およびこれから製造された成形品
US11505674B2 (en) 2017-11-08 2022-11-22 Lotte Chemical Corporation Thermoplastic resin composition and molded article produced from same

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008254992A (ja) * 2007-04-09 2008-10-23 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd 酸化亜鉛及びその製造方法並びにそれを用いた化粧料
JP2009167037A (ja) * 2008-01-11 2009-07-30 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ZnOウィスカー膜、ZnOウィスカー膜形成のためのシード層及びそれらの作製方法
JP5641225B2 (ja) * 2008-10-27 2014-12-17 国立大学法人 名古屋工業大学 柱状ZnO粒子の製造方法
JP2010139497A (ja) * 2008-12-12 2010-06-24 Korea Electronics Telecommun 酸化物半導体ナノ繊維を利用した超高感度ガスセンサー及びその製造方法
CN101853737A (zh) * 2009-03-30 2010-10-06 Tdk株式会社 光电转换元件用电极及其制造方法、以及色素增感型太阳能电池
EP2237339A2 (en) 2009-03-30 2010-10-06 TDK Corporation Electrode for photoelectric conversion elements, manufacturing method of the same, and dye-sensitized solar cell
JP2011111346A (ja) * 2009-11-25 2011-06-09 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology Zn(OH)2ナノシートとZnOナノウィスカー膜によるハイブリッドフィルム、ZnOナノシートとZnOナノウィスカー膜によるハイブリッドフィルム、およびそれらの作製方法
US8629411B2 (en) 2010-07-13 2014-01-14 First Solar, Inc. Photoluminescence spectroscopy
US9404195B2 (en) 2011-04-28 2016-08-02 Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Hexagonal prism-shaped zinc oxide particles, method for production of the same, and cosmetic, heat releasing filler, heat releasing resin composition, heat releasing grease, and heat releasing coating composition comprising the same
US9120681B2 (en) 2011-04-28 2015-09-01 Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Method for production of zinc oxide particles
JP5907167B2 (ja) * 2011-04-28 2016-04-20 堺化学工業株式会社 六角柱状酸化亜鉛粒子、その製造方法、並びに、それを配合した化粧料、放熱性フィラー、放熱性樹脂組成物、放熱性グリース及び放熱性塗料組成物
WO2012147887A1 (ja) * 2011-04-28 2012-11-01 堺化学工業株式会社 六角柱状酸化亜鉛粒子、その製造方法、並びに、それを配合した化粧料、放熱性フィラー、放熱性樹脂組成物、放熱性グリース及び放熱性塗料組成物
CN104005087A (zh) * 2014-05-09 2014-08-27 洛阳威乐美科技有限公司 一种氧化锌晶须的制备方法
JP2018070881A (ja) * 2016-10-25 2018-05-10 ロッテ アドバンスト マテリアルズ カンパニー リミテッド 熱可塑性樹脂組成物およびこれから製造された成形品
JP2020503228A (ja) * 2016-12-20 2020-01-30 ロッテ アドバンスト マテリアルズ カンパニー リミテッド 人造大理石用組成物
US11034620B2 (en) 2016-12-20 2021-06-15 Lotte Chemical Corporation Composition for artificial marble
US11505674B2 (en) 2017-11-08 2022-11-22 Lotte Chemical Corporation Thermoplastic resin composition and molded article produced from same
JP2021508742A (ja) * 2017-12-26 2021-03-11 ロッテ ケミカル コーポレイション 熱可塑性樹脂組成物およびこれから製造された成形品
JP7315541B2 (ja) 2017-12-26 2023-07-26 ロッテ ケミカル コーポレイション 熱可塑性樹脂組成物およびこれから製造された成形品

Also Published As

Publication number Publication date
JP4899229B2 (ja) 2012-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4899229B2 (ja) ZnOウィスカー膜及びそれらの作製方法
Shi et al. Growth of flower-like ZnO via surfactant-free hydrothermal synthesis on ITO substrate at low temperature
JP4803443B2 (ja) 酸化亜鉛粒子ならびに酸化亜鉛粒子膜及びそれらの作製方法
Yin et al. Mild solution synthesis of zinc oxide films with superhydrophobicity and superhydrophilicity
Gautam et al. The effect of growth temperature of seed layer on the structural and optical properties of ZnO nanorods
Habibi et al. Structure and morphology of nanostructured zinc oxide thin films prepared by dip-vs. spin-coating methods
JP4665175B2 (ja) 高c軸配向高比表面積ZnO結晶自立膜及びその作製方法
Qiu et al. Synthesis and Characterization of Flower‐Like Bundles of ZnO Nanosheets by a Surfactant‐Free Hydrothermal Process
JP5263750B2 (ja) ナノ針状アナターゼTiO2結晶集積粒子と多孔質アナターゼTiO2結晶膜の作製方法
Samanta et al. Substrate effect on morphology and photoluminescence from ZnO monopods and bipods
Kumar et al. Growth of novel ZnO nanostructures by soft chemical routes
JP2009167037A (ja) ZnOウィスカー膜、ZnOウィスカー膜形成のためのシード層及びそれらの作製方法
JP2015212213A (ja) グラフェンシートとの一体化ZnOナノロッド、およびグラフェンシート上へのZnOナノロッドの製造方法
Murugesan et al. Effect of precursor concentration on structural, morphological, and optical properties of ZnO thin-filmed sensor for ethanol detection
Hector et al. Chemical synthesis of β-Ga2O3 microrods on silicon and its dependence on the gallium nitrate concentration
Kovalenko et al. Formation of single-crystalline BaTiO3 nanorods from glycolate by tuning the supersaturation conditions
Zhang et al. Silica-controlled structure and optical properties of zinc oxide sol–gel thin films
Siriphongsapak et al. Hydrothermal growth of ZnO nanostructures using sodium hydroxide as a source of hydroxide ion
JP5339372B2 (ja) Zn(OH)2ナノシートとZnOナノウィスカー膜によるハイブリッドフィルム、ZnOナノシートとZnOナノウィスカー膜によるハイブリッドフィルム、およびそれらの作製方法
Zhang et al. Study on synthesis and optical properties of ZnO hierarchical nanostructures by hydrothermal method
Shobana et al. A Comprehensive Review on Zinc Sulphide Thin Film by Chemical Bath Deposition Techniques
Orlov et al. Influence of process temperature on ZnO nanostructures formation
Duan et al. Structural and optical properties of porous ZnO nanorods synthesized by a simple two-step method
Jiang et al. Help nanorods “stand” on microsubstrate to form hierarchical ZnO nanorod-nanosheet architectures
Shi et al. Morphology and growth mechanism of novel zinc oxide nanostructures synthesized by a carbon thermal evaporation process

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090310

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110216

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110418

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110516

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110711

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110801

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111101

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20111109

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111129

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111217

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150113

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150113

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees