JP2008201056A - 積層体 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の透明基材の少なくとも片面に形成される膜(A)は、上記一般式(1)で表される構造の有機系環状化合物よりなるものであり、好ましくは下記一般式(2)で表される構造の環状化合物よりなるものである。
本発明で用いられる環状化合物の製造方法としては、公知の手法を用いることができるが、2個以上のクロロメチル基を有するベンゼン誘導体と2個以上のメルカプト基を有するベンゼン誘導体を反応させる手法が好ましい。
本発明で用いられる環状化合物は、粉末状あるいは結晶状の固体であり、加熱により融解し、更に、高温に加熱すると蒸発する。融点並びに沸点は、環状化合物の化学構造や組成に依存するが、おおむね融点は50〜200℃、沸点は150〜300℃である。従って、環状化合物を、50℃以上で融解して基材上に塗布したり、150℃以上に加熱して基材へ蒸着することが可能である。もちろん、一般的なウェットコート法の様に、溶剤に溶解した後、基材上に塗布し、溶剤を乾燥して、膜を形成することも可能である。また、一般的な蒸着法のように、真空下で蒸着することも可能である。
基材/(A)
基材/(A)/(B)、
基材/(A)/(C)、
基材/(A)/(B)/(C)、
(A)/基材/(A)、
(A)/基材/(A)/(B)、
(A)/基材/(A)/(C)、
(B)/(A)/基材/(A)/(B)、
(B)/(A)/基材/(A)/(B)/(C)
(C)/(B)/(A)/基材/(A)/(B)/(C)
等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。
尚、例中「部」、「%」とあるのは、断りのない限り重量基準を意味する。
(全光線透過率)
長さ50×幅50(mm)の試験片を用いて、日本電色社ヘイズメーター「NDH−2000」で、全光線透過率を測定した。
(屈折率、アッベ数)
アタゴ社製アッベ屈折率計「1T(NaD線)」にて23℃で測定した。
(色相)
長さ50×幅50(mm)の試験片を用いて、日本電色社製色差計Σ90で、透過測定モードによりb値を測定した。
(表面硬度)
JIS K−5600−5−4:1999に準じて鉛筆硬度を測定した。
[環状化合物の合成]
フラスコに、ジクロロ−m−キシリレン174部、ジクロロ−m−キシリレン179部、メタノール1000部を入れ、氷冷した。次いで、水酸化ナトリウム86部をメタノール1000部に溶解した溶液を1時間かけて滴下し、更に、3時間室温で攪拌した。水3000部を加えて生成物を完全に析出させた後、1ミクロンの濾紙で濾過し、1000部の水で洗浄した。得られたウェットケーキをビーカーに取り、DMF300部を加え、130℃に加温して完全に溶解させた。水3000部を加えて再度析出させ、1ミクロンの濾紙で濾過し、1000部の水で洗浄した。得られたウェットケーキを減圧で乾燥し、658gの生成物(白色粉末)を得た。DSCよりこの生成物の融点は120℃、沸点は300℃であった。
810〜750cm-1にベンゼンm−置換体に由来するシグナルが観察された。
[1H−NMR](図2参照)
6.8〜7.4ppmにベンゼンm−置換体のプロトンに由来するシグナルが、また3.5〜3.8ppmに環状化合物のメチレンに由来するシグナルがそれぞれ観測された。
上記で得られた環状化合物をるつぼに入れ、300℃まで加熱し、厚さ300μmのポリカーボネート製フィルムの片面に、厚さ200nmの膜(A)を形成した。得られた膜(A)の屈折率は1.673、アッベ数は31.2であった。また、得られた積層体の全光線透過率や色相は表1に示されるとおりである。
得られた積層体の膜(A)上に、保護膜として、スパッタ法にて100℃で厚さ20nmの酸化珪素膜を成膜した。かかる保護膜(B)の表面硬度を表1に示す。
得られた積層体の膜(A)上に、スパッタ法にて100℃で厚さ200nmのITO膜(屈折率2.0)を成膜して、透明導電性フィルムを得た。得られたフィルムの全光線透過率を表1に示す。
厚さ300μmのポリカーボネート製フィルムの片面に、スパッタ法にて100℃で厚さ200nmのITO膜(屈折率2.0)を成膜して、透明導電性フィルムを得た。得られたフィルムの全光線透過率を表1に示す。
Claims (8)
- 透明基材が、樹脂フィルムであることを特徴とする請求項1または2記載の積層体。
- 膜(A)の屈折率が、1.6以上であることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の積層体。
- 膜(A)のアッベ数が、20以上であることを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の積層体。
- 膜(A)が、蒸着により形成されることを特徴とする請求項1〜5いずれか記載の積層体。
- 膜(A)上に、酸化珪素を主成分とする膜(B)が形成されていることを特徴とする請求項1〜6いずれか記載の積層体。
- 膜(A)上に、屈折率1.8以上の膜(C)が形成されていることを特徴とする請求項1〜7いずれか記載の積層体。
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JP2007246884A (ja) * | 2006-02-16 | 2007-09-27 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 樹脂組成物、及び、それを用いた樹脂成形体、コーティング剤 |
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