JP2008198600A - 金属膜形成方法及び該方法により得られる金属膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】金属コロイド粒子が金属粒子と粒子表面に配位修飾した保護剤とにより構成され、保護剤が分子中に窒素又は酸素のいずれか一方又はその双方を含む炭素骨格を有し、かつ窒素、酸素、窒素を含む原子団及び酸素を含む原子団からなる群より選ばれた1種又は2種以上をアンカーとして金属粒子表面に配位修飾した構造を有し、保護剤がハイドロキシアルキル基を分子構造に含み、金属コロイド粒子を水系又は非水系のいずれか一方の分散媒又はその双方を混合した分散媒に所定の割合で混合して分散させた金属コロイドを基材表面に塗布する工程と、基材を酸性ガス雰囲気下、室温〜200℃の温度で5〜120分間保持することにより、基材表面に金属膜を形成する工程とを含む。
【選択図】図3
Description
本発明の別の目的は、低温での膜形成にも関わらず、金属コロイド中に含まれる、金属コロイド粒子を構成する金属そのものが有する電気抵抗に近い電気抵抗を有する金属膜を形成できる、金属膜形成方法及び該方法により得られる金属膜を提供することにある。
請求項2に係る発明は、請求項1に係る発明であって、酸性ガス雰囲気が、ギ酸、酢酸、2−エチルヘキサン酸、塩酸及び硫酸からなる群より選ばれた1種又は2種以上の酸を気化した雰囲気であることを特徴とする金属膜形成方法である。
請求項3に係る発明は、請求項1に係る発明であって、保護剤に含まれる窒素が、アミノ基、アミド基及びイミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種を由来とする金属膜形成方法である。
請求項4に係る発明は、請求項1に係る発明であって、保護剤に含まれる酸素が、カルボニル基、カルボキシル基、アルデヒド基及びアミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種を由来とする金属膜形成方法である。
請求項5に係る発明は、請求項1に係る発明であって、金属コロイド粒子を構成する金属粒子が、Au、Ag、Pt、Cu、Pd、Ni、Zn、Ru、Rh、In及びIrからなる群より選ばれた1種又は2種以上である金属膜形成方法である。
請求項6に係る発明は、請求項1又は請求項5に係る発明であって、金属コロイド粒子を構成する金属粒子が、Auである金属膜形成方法である。
請求項7に係る発明は、請求項1又は請求項5に係る発明であって、金属コロイド粒子の平均粒子径が、1〜60nmの範囲にある金属膜形成方法である。
請求項8に係る発明は、請求項1又は請求項5に係る発明であって、金属コロイド粒子の形状が、球形、多角状又はアメーバ状を有する粒状粒子である金属膜形成方法である。
請求項9に係る発明は、請求項1に係る発明であって、金属コロイドの基材への塗布方法が、塗布、吹付け、印刷、吐出及び転写のいずれか1種又は2種以上の方法である金属膜形成方法である。
請求項10に係る発明は、請求項1に係る発明であって、金属コロイドの基材への塗布方法が、インクジェット方式、ディスペンサ方式、スクリーン印刷方式、反転印刷方式、スリットコート方式及びスプレー方式からなる群より選ばれた1種又は2種以上の方法である金属膜形成方法である。
請求項11に係る発明は、請求項1に係る発明であって、基材が、ガラス、プラスチック、金属、木材、タイルを含むセラミック、セメント、コンクリート、石、繊維、紙及び皮革からなる群より選ばれた材質である金属膜形成方法である。
請求項12に係る発明は、請求項1ないし11いずれか1項に記載の金属膜形成方法により得られた金属膜である。
請求項13に係る発明は、請求項12に記載の金属膜を含む太陽電池である。
本発明の金属膜形成方法は、金属コロイドを基材表面に塗布する工程と、塗布した金属コロイド中の分散媒を自然乾燥により除去する工程と、基材を酸性ガス雰囲気下で室温〜200℃の温度で5〜120分間保持することにより基材表面に金属膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。
<合成1>
金属塩として塩化金酸を、保護剤前駆体として2−アミノエタノールを、還元剤としてジメチルアミンボランをそれぞれ用意した。先ず、2−アミノエタノール5.00gにジメチルアミンボランを適量添加した。また、金属濃度が4.0重量%になるように塩化金酸を溶解したメタノール液を徐々に投入して混合溶液を調製した。この混合溶液の調製は60℃に保温し、混合溶液をマグネチックスターラーで攪拌しながら行い、金属コロイド粒子が生成して赤色を呈するまで還元反応させた。次に、還元反応を終えた混合溶液を室温にまで冷却し、冷却後、混合溶液を限外濾過法により脱塩を行い、水を分散媒とした金属コロイドを得た。この金属コロイドに水に適宜添加して濃度を調製し、金属コロイド粒子を水に分散させた濃度50重量%金属コロイドを得た。
得られた金属コロイドをTOF−SIMS分析したところ、AuとCNからなるクラスターイオンが優勢に検出された。更に、NMR(C,H)により分析した結果を併せることにより、金属コロイド中の金属コロイド粒子を構成する保護剤分子は、窒素にてAu粒子表面に配位修飾していることが判った。
金属塩、保護剤前駆体、還元剤及び分散媒の種類を次の表1及び表2に示す化合物にそれぞれ変更した以外は、合成1と同様の方法により各種金属コロイドを得た。なお、表1及び表2中の保護剤前駆体の種類欄において、記号(A)〜(J)で示される化合物を表3に示す。
また,合成2〜23でそれぞれ得られた金属コロイド粒子の保護分子構造についてもN
MR、TOF−SIMS、FT−IR、SAXS、可視紫外分光、SERS、XAFS等
の各種分析手法を組み合わせて解析することにより確認した。
基材として、20mm×20mm×1mm厚のガラス基板を用意し、このガラス基板表面に、合成9で得られた50重量%濃度の金属コロイドをスピンコート法により塗膜した。スピンコートは、ガラス基板を1000rpmの回転速度で回転させ、金属コロイドを基板に滴下しながら1分間回転し続けることにより行った。次いで、金属コロイドを塗布したガラス基板を室温で自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去した。次に、図2に示すように、容器本体15内の底部にガラス基板を置き、シャーレ12内に酸13を入れてから蓋14で容器10内を密閉し、ヒーター16の熱で酸13を気化させて容器10内に酸性ガス雰囲気を作り出した。次いで、以下の表4に示すように、温度をそれぞれ別の条件とし、酸の種類及び保持時間については同じ条件で、ガラス基板の表面に金属膜を形成した。
基材として、20mm×20mm×1mm厚のガラス基板を用意し、このガラス基板表面に、合成9で得られた50重量%濃度の金属コロイドをスピンコート法により塗膜した。スピンコートは、ガラス基板を1000rpmの回転速度で回転させ、金属コロイドを基板に滴下しながら1分間回転し続けることにより行った。次いで、金属コロイドを塗布したガラス基板を室温で自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去した。次に、図2に示すように、容器本体15内の底部にガラス基板を置き、シャーレ12内に酸13を入れてから蓋14で容器10内を密閉し、ヒーター16の熱で酸13を気化させて容器10内に酸性ガス雰囲気を作り出した。次いで、以下の表4に示すように、保持時間を実施例1〜4と異なる条件とし、酸の種類及び温度については実施例3と同じ条件で、ガラス基板の表面に金属膜を形成した。
基材として、20mm×20mm×1mm厚のガラス基板を用意し、このガラス基板表面に、合成9で得られた50重量%濃度の金属コロイドをスピンコート法により塗膜した。スピンコートは、ガラス基板を1000rpmの回転速度で回転させ、金属コロイドを基板に滴下しながら1分間回転し続けることにより行った。次いで、金属コロイドを塗布したガラス基板を室温で自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去した。次に、図2に示すように、容器本体15内の底部にガラス基板を置き、シャーレ12内に酸13を入れてから蓋14で容器10内を密閉し、ヒーター16の熱で酸13を気化させて容器10内に酸性ガス雰囲気を作り出した。次いで、以下の表4に示すように、温度をそれぞれ変えて、酸の種類及び保持時間は同じ条件で、ガラス基板の表面に金属膜を形成した。酸については、実施例1〜4とは別の酸を使用した。
基材として、20mm×20mm×1mm厚のガラス基板を用意し、このガラス基板表面に、合成9で得られた50重量%濃度の金属コロイドをスピンコート法により塗膜した。スピンコートは、ガラス基板を1000rpmの回転速度で回転させ、金属コロイドを基板に滴下しながら1分間回転し続けることにより行った。次いで、金属コロイドを塗布したガラス基板を室温で自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去した。次に、図2に示すように、容器本体15内の底部にガラス基板を置き、シャーレ12内に酸13を入れてから蓋14で容器10内を密閉し、ヒーター16の熱で酸13を気化させて容器10内に酸性ガス雰囲気を作り出した。次いで、以下の表4に示すように、酸の種類についてはそれぞれ別の酸を使用し、温度及び保持時間は実施例3と同じ条件で、ガラス基板の表面に金属膜を形成した。
基材として、20mm×20mm×1mm厚のガラス基板を用意し、このガラス基板表面に、合成9で得られた50重量%濃度の金属コロイドをスピンコート法により塗膜した。スピンコートは、ガラス基板を1000rpmの回転速度で回転させ、金属コロイドを基板に滴下しながら1分間回転し続けることにより行った。次いで、金属コロイドを塗布したガラス基板を室温で自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去した。次に、以下の表4に示すように、温度をそれぞれ別の条件とし、保持時間は同じ条件で、ガラス基板表面に金属膜を形成した。
基材として、20mm×20mm×1mm厚のガラス基板を用意し、このガラス基板表面に、合成9で得られた50重量%濃度の金属コロイドをスピンコート法により塗膜した。スピンコートは、ガラス基板を1000rpmの回転速度で回転させ、金属コロイドを基板に滴下しながら1分間回転し続けることにより行った。次いで、金属コロイドを塗布したガラス基板を室温で自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去した。次に、比較例6〜8では、図2に示すように、容器本体15内の底部にガラス基板を置き、シャーレ12内に酸13を入れてから蓋14で容器10内を密閉し、ヒーター16の熱で酸13を気化させて容器10内に酸性ガス雰囲気を作り出した。次いで、以下の表4に示すように、温度を200℃を越える比較例5と同じ温度とし、酸の種類及び保持時間については実施例1〜4と同じ条件で処、ガラス基板表面に金属膜を形成した。
基材として、20mm×20mm×1mm厚のガラス基板を用意し、このガラス基板表面に、合成9で得られた50重量%濃度の金属コロイドをスピンコート法により塗膜した。スピンコートは、ガラス基板を1000rpmの回転速度で回転させ、金属コロイドを基板に滴下しながら1分間回転し続けることにより行った。次いで、金属コロイドを塗布したガラス基板を室温で自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去した。次に、図2に示すように、容器本体15内の底部にガラス基板を置き、シャーレ12内に酸13を入れてから蓋14で容器10内を密閉し、ヒーター16の熱で酸13を気化させて容器10内に酸性ガス雰囲気を作り出した。次いで、以下の表4に示すように、保持時間を比較例7では5分未満、比較例8では120分を越える条件とし、酸の種類及び温度については実施例3と同じ条件で、ガラス基板表面に金属膜を形成した。
実施例1〜13及び比較例1〜8で得られた金属膜の電気抵抗値を測定した。その結果を表4にそれぞれ示す。また、実施例1〜13及び比較例1〜8で得られた金属膜における電気抵抗と温度及び酸の種類との関係を図2に示す。
Claims (13)
- 金属コロイド粒子が金属粒子と前記粒子表面に配位修飾した保護剤とにより構成され、前記保護剤が分子中に窒素又は酸素のいずれか一方又はその双方を含む炭素骨格を有し、かつ前記窒素、酸素、窒素を含む原子団及び酸素を含む原子団からなる群より選ばれた1種又は2種以上をアンカーとして金属粒子表面に配位修飾した構造を有し、
前記保護剤がハイドロキシアルキル基を分子構造に含み、
前記金属コロイド粒子を水系又は非水系のいずれか一方の分散媒又はその双方を混合した分散媒に所定の割合で混合して分散させた金属コロイドを基材表面に塗布する工程と、 前記塗布した金属コロイド中の分散媒を自然乾燥により除去する工程と、
前記基材を酸性ガス雰囲気下、室温〜200℃の温度で5〜120分間保持することにより、前記基材表面に金属膜を形成する工程と
を含むことを特徴とする金属膜形成方法。 - 酸性ガス雰囲気が、ギ酸、酢酸、2−エチルヘキサン酸、塩酸及び硫酸からなる群より選ばれた1種又は2種以上の酸を気化した雰囲気である請求項1記載の金属膜形成方法。
- 保護剤に含まれる窒素が、アミノ基、アミド基及びイミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種を由来とする請求項1記載の金属膜形成方法。
- 保護剤に含まれる酸素が、カルボニル基、カルボキシル基、アルデヒド基及びアミド基からなる群より選ばれた少なくとも1種を由来とする請求項1記載の金属膜形成方法。
- 金属コロイド粒子を構成する金属粒子が、Au、Ag、Pt、Cu、Pd、Ni、Zn、Ru、Rh、In及びIrからなる群より選ばれた1種又は2種以上である請求項1記載の金属膜形成方法。
- 金属コロイド粒子を構成する金属粒子が、Auである請求項1又は請求項5記載の金属膜形成方法。
- 金属コロイド粒子の平均粒子径が、1〜60nmの範囲にある請求項1又は5記載の金属膜形成方法。
- 金属コロイド粒子の形状が、球形、多角状又はアメーバ状を有する粒状粒子である請求項1又は5記載の金属膜形成方法。
- 金属コロイドの基材への塗布方法が、塗布、吹付け、印刷、吐出及び転写からなる群より選ばれた1又は2以上の方法である請求項1記載の金属膜形成方法。
- 金属コロイドの基材への塗布方法が、インクジェット方式、ディスペンサ方式、スクリーン印刷方式、反転印刷方式、スリットコート方式及びスプレー方式からなる群より選ばれた1又は2以上の方法である請求項1記載の金属膜形成方法。
- 基材が、ガラス、プラスチック、金属、木材、タイルを含むセラミック、セメント、コンクリート、石、繊維、紙及び皮革からなる群より選ばれた材質である請求項1記載の金属膜形成方法。
- 請求項1ないし11いずれか1項に記載の金属膜形成方法により得られた金属膜。
- 請求項12記載の金属膜を含む太陽電池。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004162169A (ja) * | 2002-09-26 | 2004-06-10 | Mitsubishi Materials Corp | 安定性の良い金属コロイドとその用途 |
JP2006035205A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-02-09 | Mitsubishi Materials Corp | 安定性の良い金属コロイドとその用途 |
JP2006076283A (ja) * | 2004-08-12 | 2006-03-23 | Mitsubishi Materials Corp | 金属コロイド含有塗膜形成物 |
JP2006124826A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-05-18 | Mitsubishi Materials Corp | 金属コロイド粒子及び金属コロイド並びに該金属コロイドの用途 |
JP2006169613A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Ulvac Japan Ltd | 金属薄膜の形成方法及び金属薄膜 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004162169A (ja) * | 2002-09-26 | 2004-06-10 | Mitsubishi Materials Corp | 安定性の良い金属コロイドとその用途 |
JP2006035205A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-02-09 | Mitsubishi Materials Corp | 安定性の良い金属コロイドとその用途 |
JP2006076283A (ja) * | 2004-08-12 | 2006-03-23 | Mitsubishi Materials Corp | 金属コロイド含有塗膜形成物 |
JP2006124826A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-05-18 | Mitsubishi Materials Corp | 金属コロイド粒子及び金属コロイド並びに該金属コロイドの用途 |
JP2006169613A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Ulvac Japan Ltd | 金属薄膜の形成方法及び金属薄膜 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018502806A (ja) * | 2014-11-24 | 2018-02-01 | ヘレーウス ノーブルライト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングHeraeus Noblelight GmbH | ガラスでできた反射体ベース上に反射体を制作する方法 |
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