JP5082689B2 - 金属膜形成方法及び該方法により得られる金属膜 - Google Patents
金属膜形成方法及び該方法により得られる金属膜 Download PDFInfo
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Description
金属塩として塩化金酸を、保護剤前駆体として2−アミノエタノールを、還元剤としてジメチルアミンボランをそれぞれ用意した。先ず、2−アミノエタノール5.00gにジメチルアミンボランを適量添加した。また、金属濃度が4.0重量%になるように塩化金酸を溶解したメタノール液を徐々に投入して混合溶液を調製した。この混合溶液の調製は60℃に保温し、混合溶液をマグネチックスターラーで攪拌しながら行い、金属コロイド粒子が生成して赤色を呈するまで還元反応させた。次に、還元反応を終えた混合溶液を室温にまで冷却し、冷却後、混合溶液を限外濾過法により脱塩を行い、水を分散媒とした金属コロイドを得た。この金属コロイドに水に適宜添加して濃度を調節し、金属コロイド粒子を水に分散させた濃度50重量%の金属コロイドを得た。
金属塩、保護剤前駆体、還元剤及び分散媒の種類を次の表1及び表2に示す化合物にそれぞれ変更した以外は、合成1と同様の方法により各種金属コロイドを得た。なお、表1及び表2中の保護剤前躯体の種類欄において、記号(A)〜(J)で示される化合物を表3に示す。
基材として、20mm×20mm×1mm厚のガラス基板を用意し、このガラス基板表面に、合成9で得られた50重量%濃度の金属コロイドをスピンコート法により塗布した。スピンコートは、ガラス基板を1000rpmの回転速度で回転させ、金属コロイドを基板に滴下しながら1分間回転し続けることにより行った。次いで、金属コロイドを塗布したガラス基板を室温で自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去した。次に、ガラス基板を次の表4に示す条件で熱処理することにより、ガラス基板表面に金属膜を形成した。具体的には、1.1Pa〜9.3×102Paまでの真空雰囲気、室温での自然乾燥〜200℃での温度で30分間保持する熱処理を行った。
基材として、20mm×20mm×1mm厚のガラス基板を用意し、このガラス基板表面に、合成9で得られた50重量%濃度の金属コロイドをスピンコート法により塗布した。スピンコートは、ガラス基板を1000rpmの回転速度で回転させ、金属コロイドを基板に滴下しながら1分間回転し続けることにより行った。次いで、金属コロイドを塗布したガラス基板を室温で自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去した。次に、ガラス基板を次の表4に示す条件で熱処理することにより、ガラス基板表面に金属膜を形成した。具体的には、1.0×105Paの大気圧雰囲気、室温での自然乾燥〜200℃での温度で30分間保持する熱処理を行った。
基材として、20mm×20mm×1mm厚のガラス基板を用意し、このガラス基板表面に、合成9で得られた50重量%濃度の金属コロイドをスピンコート法により塗布した。スピンコートは、ガラス基板を1000rpmの回転速度で回転させ、金属コロイドを基板に滴下しながら1分間回転し続けることにより行った。次いで、金属コロイドを塗布したガラス基板を室温で自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去した。次に、ガラス基板を次の表4に示す条件で熱処理することにより、ガラス基板表面に金属膜を形成した。具体的には、1.5×104Pa及び2.5×103Paの真空雰囲気、70℃での温度で30分間保持する熱処理を行った。
基材として、20mm×20mm×1mm厚のガラス基板を用意し、このガラス基板表面に、合成9で得られた50重量%濃度の金属コロイドをスピンコート法により塗布した。スピンコートは、ガラス基板を1000rpmの回転速度で回転させ、金属コロイドを基板に滴下しながら1分間回転し続けることにより行った。次いで、金属コロイドを塗布したガラス基板を室温で自然乾燥して金属コロイド中の分散媒を除去した。次に、ガラス基板を次の表4に示す条件で熱処理することにより、ガラス基板表面に金属膜を形成した。具体的には、1.0×105Paの大気圧雰囲気及び8.5×102Paの真空雰囲気、300℃での温度で30分間保持する熱処理を行った。
実施例1〜5及び比較例1〜8で得られた金属膜の電気抵抗値を測定した。その結果を表4にそれぞれ示す。また、実施例1〜4及び比較例1〜8で得られた金属膜における、熱処理工程での温度及び圧力条件と金属膜の電気抵抗の関係を図2に示す。
Claims (7)
- 金属塩としての塩化金酸をメタノールに溶解し、保護剤前駆体としての1−アミノ−2−プロパノールに還元剤としてのジメチルアミンボランを添加した液に前記塩化金酸のメタノール液を添加して混合溶液を調製し、前記混合溶液を攪拌しながら前記塩化金酸を還元して金属コロイド粒子としての金コロイド粒子を生成し、前記混合溶液を脱塩した後、前記金コロイド粒子を水とメタノールの混合液に分散させて金属コロイドとしての金コロイドを調製する工程と、
前記金コロイドを基材表面に塗布する工程と、
前記塗布した金コロイド中の分散媒を自然乾燥により除去する工程と、
前記塗布した金コロイド中の分散媒を除去した基材を熱処理することにより、前記基材表面に金属膜を形成する工程と
を含み、
前記熱処理を300℃を越えない温度で行うときに、前記熱処理を1.1Pa〜9.3×10 2 Paの真空雰囲気下、室温〜200℃の温度で30分間保持して行うことを特徴とする金属膜形成方法。 - 金コロイド粒子の平均粒子径が、1〜60nmの範囲にある請求項1記載の金属膜形成方法。
- 金コロイド粒子の形状が、球形、多角状又はアメーバ状を有する粒状粒子である請求項1記載の金属膜形成方法。
- 金コロイドの基材への塗布方法が、塗布、吹付け、印刷、吐出及び転写からなる群より選ばれた1種又は2種以上の方法である請求項1記載の金属膜形成方法。
- 金コロイドの基材への塗布方法が、インクジェット方式、ディスペンサ方式、スクリーン印刷方式、反転印刷方式、スリットコート方式及びスプレー方式からなる群より選ばれた1種又は2種以上の方法である請求項1記載の金属膜形成方法。
- 基材が、ガラス、プラスチック、金属、木材、タイルを含むセラミック、セメント、コンクリート、石、繊維、紙及び皮革からなる群より選ばれた材質である請求項1記載の金属膜形成方法。
- 請求項1ないし6いずれか1項に記載の金属膜形成方法により得られた金属膜。
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