JP2008165234A - 反射透過型液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】画素部、ゲートパッド部、データパッド部に区分されるアレイ基板と、画素部に形成されるゲート電極及びゲートラインと、ゲート電極の上部でゲート電極よりも幅が狭く、島状に形成されるアクティブパターンと、アクティブパターン上に形成されるオーミックコンタクト層及びバリアメタル層と、画素部に形成され、オーミックコンタクト層及びバリアメタル層を介して、アクティブパターンのソース領域に電気的に接続するソース電極、及びアクティブパターンのドレイン領域に電気的に接続するドレイン電極と、画素部に形成され、ゲートラインと交差し、反射部及び透過部からなる画素領域を定義するデータラインと、透過部に形成される画素電極と、反射部に形成される反射電極と、アレイ基板と対向して貼り合わせられるカラーフィルタ基板とを含む。
【選択図】図1
Description
Claims (29)
- 画素部、第1パッド部、及び第2パッド部に区分される第1基板を提供する工程と、
前記第1基板の画素部にゲート電極及びゲートラインを形成する工程と、
前記第1基板上に第1絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲート電極の上部に島状のアクティブパターンを形成し、前記アクティブパターン上にn+非晶質シリコン薄膜パターン及び導電膜パターンを形成する工程と、
前記第1基板の画素部にソース電極及びドレイン電極を形成し、前記ゲートラインと交差し、反射部及び透過部からなる画素領域を定義するデータラインを形成する工程と、
前記画素領域の透過部に透明導電膜からなる画素電極を形成する工程と、
前記第1基板上に第2絶縁膜を形成する工程と、
前記画素領域の反射部に不透明導電膜からなる反射電極を形成する工程と、
前記第1基板と第2基板とを貼り合わせる工程と
を含むことを特徴とする反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1基板の第1パッド部にゲートパッドラインを形成する工程をさらに含む
ことを特徴とする請求項1記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記n+非晶質シリコン薄膜パターン及び導電膜パターンは、前記アクティブパターンと同一の形状に形成する
ことを特徴とする請求項1記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記導電膜パターンは、アルミニウム、アルミニウム合金、タングステン、銅、クロム、モリブデンのいずれかの低抵抗の導電物質で形成する
ことを特徴とする請求項1記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記導電膜パターンは、50〜100Åの厚さで形成する
ことを特徴とする請求項1記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1絶縁膜を除去することにより、前記ゲートパッドラインの一部を露出させるコンタクトホールを形成する工程をさらに含む
ことを特徴とする請求項2記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記n+非晶質シリコン薄膜パターン及び導電膜パターンの一部を除去することにより、オーミックコンタクト層及びバリアメタル層を形成する工程をさらに含む
ことを特徴とする請求項1記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記ソース電極は、前記オーミックコンタクト層及びバリアメタル層を介して前記アクティブパターンのソース領域に電気的に接続し、前記ドレイン電極は、前記オーミックコンタクト層及びバリアメタル層を介して前記アクティブパターンのドレイン領域に電気的に接続する
ことを特徴とする請求項7記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記ソース電極、ドレイン電極、及びデータラインの下部に、透明導電膜からなり、それぞれ前記ソース電極、ドレイン電極、及びデータラインと同一の形状にパターニングされたソース電極パターン、ドレイン電極パターン、及びデータラインパターンを形成する工程をさらに含む
ことを特徴とする請求項1記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1基板の第2パッド部にデータパッドラインを形成する工程をさらに含む
ことを特徴とする請求項1記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記コンタクトホールを介して前記ゲートパッドラインに電気的に接続するゲートパッド電極を形成する工程をさらに含む
ことを特徴とする請求項6記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1基板の第2パッド部に、前記データパッドラインに電気的に接続するデータパッド電極を形成する工程をさらに含む
ことを特徴とする請求項10記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記第2絶縁膜の一部を除去して前記画素領域の画素電極を露出させる工程をさらに含む
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記第2絶縁膜は、凹凸を有するように形成する
ことを特徴とする請求項1記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記第2絶縁膜は、有機膜で形成する
ことを特徴とする請求項1記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記反射電極は、前記ドレイン電極及び画素電極に電気的に接続する
ことを特徴とする請求項1記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 画素部、第1パッド部、及び第2パッド部に区分される第1基板と、
前記第1基板の画素部に形成されるゲート電極及びゲートラインと、
前記第1基板上に形成される第1絶縁膜と、
前記ゲート電極の上部に、前記ゲート電極よりも幅が狭く、島状に形成されるアクティブパターンと、
前記第1基板上に形成され、前記アクティブパターンのソース領域及びドレイン領域上に形成されるオーミックコンタクト層及びバリアメタル層と、
前記第1基板の画素部に形成され、前記オーミックコンタクト層及びバリアメタル層を介して、前記アクティブパターンのソース領域に電気的に接続するソース電極、及び前記アクティブパターンのドレイン領域に電気的に接続するドレイン電極と、
前記第1基板の画素部に形成され、前記ゲートラインと交差し、反射部及び透過部からなる画素領域を定義するデータラインと、
前記画素領域の透過部に形成され、前記ドレイン電極に電気的に接続する画素電極と、
前記ソース電極、ドレイン電極、及びデータラインの下部に形成され、前記画素電極を構成する導電膜からなるソース電極パターン、ドレイン電極パターン、及びデータラインパターンと、
前記画素領域の反射部に形成される反射電極と、
前記画素領域の画素電極を露出させる第2絶縁膜と、
前記第1基板と対向して貼り合わせられる第2基板と
を備えたことを特徴とする反射透過型液晶表示装置。 - 前記第1基板の第1パッド部に形成されるゲートパッドラインをさらに備えた
ことを特徴とする請求項17記載の反射透過型液晶表示装置。 - 前記オーミックコンタクト層及びバリアメタル層は、アルミニウム、アルミニウム合金、タングステン、銅、クロム、モリブデンのいずれかの低抵抗の導電物質からなる
ことを特徴とする請求項17記載の反射透過型液晶表示装置。 - 前記オーミックコンタクト層及びバリアメタル層は、50〜100Åの厚さを有する
ことを特徴とする請求項17記載の反射透過型液晶表示装置。 - 前記第1絶縁膜の一部が除去されることによって形成され、前記ゲートパッドラインの一部を露出させるコンタクトホールをさらに備えた
ことを特徴とする請求項18記載の反射透過型液晶表示装置。 - 前記ソース電極パターン、ドレイン電極パターン、及びデータラインパターンは、それぞれ前記ソース電極、ドレイン電極、及びデータラインと同一の形状にパターニングされる
ことを特徴とする請求項17記載の反射透過型液晶表示装置。 - 前記第1基板の第2パッド部に形成されるデータパッドラインをさらに備えた
ことを特徴とする請求項17記載の反射透過型液晶表示装置。 - 前記コンタクトホールを介して前記ゲートパッドラインに電気的に接続するゲートパッド電極をさらに備えた
ことを特徴とする請求項21記載の反射透過型液晶表示装置。 - 前記第1基板の第2パッド部に形成され、前記データパッドラインに電気的に接続するデータパッド電極をさらに備えた
ことを特徴とする請求項23記載の反射透過型液晶表示装置。 - 前記第2絶縁膜の一部が除去されて前記画素領域の画素電極を露出させる
ことを特徴とする請求項17記載の反射透過型液晶表示装置。 - 前記第2絶縁膜は、凹凸を有する
ことを特徴とする請求項17記載の反射透過型液晶表示装置。 - 前記第2絶縁膜は、有機膜からなる
ことを特徴とする請求項17記載の反射透過型液晶表示装置。 - 前記反射電極は、前記ドレイン電極及び画素電極に電気的に接続する
ことを特徴とする請求項17記載の反射透過型液晶表示装置。
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