JP2008153570A - 太陽電池の基体およびその製造方法、太陽電池モジュール - Google Patents
太陽電池の基体およびその製造方法、太陽電池モジュール Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】透光性基板1に積層される透明導電膜2は、入射光の波長よりも短いピッチの凹凸を有する凹凸部3が表面に形成されているので、透明導電膜2の表面での反射率を低減できて、入射光の利用効率を向上できる。
【選択図】図3
Description
上記透光性基板に積層される透明導電膜とを備え、
上記透明導電膜は、
入射光の波長よりも短いピッチの凹凸を有する凹凸部が表面に形成されていることを特徴としている。
この発明の第1の実施形態としての太陽電池の基体の製造方法を説明する。まず、図1に示すように、塗布型の透明導電材料としてIn2O3−SnO2系ゾルを使用し、ゾル−ゲル法にて透光性基板1の表面に透明導電膜2を形成する。この透明導電膜2は、In2O3−SnO2系薄膜であり、In2O3−SnO2系ゾルを透光性基板1に塗布して、この透光性基板1の表面にゲル膜を形成した後、そのゲル膜に対し紫外光を照射してゲル膜を結晶化させることにより得られる。
Ni電鋳金型21と透明導電膜2を加熱し、120℃に熱しながら、10分間圧着し、透明導電膜2に凹凸部3を形成する。
なお、上記実施形態の製造方法では、透明導電膜2に凹凸部3を形成したが、透明導電膜2の表面にスタンパを押圧して凹凸部を形成することが困難な場合には、次のようにしてもよい。
2、82 透明導電膜
3、88、89 凹凸部
3A、89A 凸部
21 Ni電鋳金型
22 凸部
33 ナノインプリント形成装置
Claims (7)
- 透光性基板と、
上記透光性基板に積層される透明導電膜とを備え、
上記透明導電膜は、
入射光の波長よりも短いピッチの凹凸を有する凹凸部が表面に形成されていることを特徴とする太陽電池の基体。 - 請求項1に記載の太陽電池の基体において、
上記凹凸部の凹凸のピッチが、300nm以下であることを特徴とする太陽電池の基体。 - 請求項1に記載の太陽電池の基体において、
上記凹凸部は、錐形の凸部を有することを特徴とする太陽電池の基体。 - 請求項1または2に記載の太陽電池の基体において、
上記凹凸部は、
底が湾曲した凹部または先端が湾曲した凸部を有することを特徴とする太陽電池の基体。 - 請求項1乃至4のいずれか1つに記載の太陽電池の基体を製造する方法であって、
透明導電膜の表面に凹凸が形成されたスタンパの表面を押圧すると共に上記透明導電膜とスタンパを加熱して、上記透明導電膜の表面に凹凸部を形成することを特徴とする太陽電池の基体の製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれか1つに記載の太陽電池の基体を製造する方法であって、
透光性基板の表面に凹凸が形成されたスタンパの表面を押圧すると共に上記透光性基板とスタンパを加熱して、上記透光性基板の表面に凹凸部を形成し、
上記透光性基板の上記凹凸部が形成された表面に透明導電膜を形成することを特徴とする太陽電池の基体の製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれか1つに記載の太陽電池の基体を太陽電池上に設けたことを特徴とする太陽電池モジュール。
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