JP2008153271A - 使用済み治具の洗浄方法および洗浄組成物 - Google Patents
使用済み治具の洗浄方法および洗浄組成物 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】硝酸等の無機酸とフッ化アンモニウム等のフッ化水素酸以外のフッ化物を混合した洗浄液組成物を用い、この洗浄組成物を治具に接触させて使用済み治具の洗浄を行い、再利用を可能とする。
【選択図】 選択図なし
Description
1.半導体素子製造工程で使用した治具を無機酸とフッ化物を含有する洗浄液組成物と接触させることにより、洗浄することを特徴とする使用済み治具の洗浄方法、
2.洗浄液組成物、並びに
3.洗浄組成物により洗浄した治具を、更に洗浄組成物の希釈液でリンス洗浄することを特徴とする使用済み治具の洗浄方法に関する。
実施例1〜2、比較例1〜2
厚さ6.4mmの石英板を長さ25mm、幅10mmに裁断し、試験片とした。この試験片を表1に示す液組成に調製した各洗浄液組成物に浸漬し、25℃で1時間保持した後、試験片を取り出し、これを水洗いし、乾燥した。浸漬前の表面積及び浸漬前後の重量変化から腐食速度を算出した。
実施例3〜5、比較例3〜5
半導体素子の製造工程であるエッチング工程で使用された、堆積物に由来する元素としてAlがその表面に付着している、石英部材からなる使用済み治具を長さ30mm、幅14mm、厚さ12mmに裁断し、試験片とした。この試験片を表2に示す液組成に調製した各洗浄液組成物に浸漬し、25℃で5時間保持した後、試験片を取り出し、これを水洗いし、乾燥した。表面のSEM(走査型電子顕微鏡)観察及び、ESCA(X線光電子分析装置)による半定量分析にて堆積物の除去状態を調べた。なお、SEMは日本電子社製、商品名「JSM T220A」、ESCAはPerkin Elmer社製、商品名「ESCA5400MC」を用いた。尚、洗浄前のESCAによる半定量分析でのAlの含有量は1.0atom%であり、堆積物の除去状態は以下の様に評価した。
○ : 洗浄前の堆積物の膜厚を100%として、100〜90%が除去され、ESCAによりAlが検出されなかった。
△ : 洗浄前の堆積物の膜厚を100%として、70%以上90%未満が除去され、ESCAによりAlが検出された。
× : 洗浄前の堆積物の膜厚を100%として、50%以上70%未満が除去され、ESCAによりAlが検出された。
半導体素子の製造工程であるエッチング工程で使用された、堆積物に由来する元素としてAl、Si及びFがその表面に付着しているアルミナセラミックス部材からなる使用済み治具を長さ18mm、幅16mm、厚さ10mmに裁断し、試験片とした。この試験片をHNO3が18重量%、NH4Fが2.6重量%(残部:水)含まれる洗浄液組成物に浸漬した。25℃で5時間保持した後、試験片を取り出し、これを水洗いし、乾燥した。表面を目視で観察した結果、堆積物が完全に除去された。また、表面のSEM観察においても堆積物が完全に除去されたことが確認され、ESCAによる分析では、洗浄前の含有量が36atom%であったFの含有量が、洗浄後では3atom%へと低減された。
半導体素子の製造工程であるエッチング工程で使用された、堆積物に由来する元素としてAlがその表面に付着している、石英部材からなる使用済み治具を長さ30mm、幅14mm、厚さ12mmに裁断し、試験片とした。この試験片をHNO3が6重量%、NH4Fが4.3重量%(残部:水)含まれる洗浄液組成物に浸漬した。25℃で5時間保持した後、取り出した試験片を、水洗いし、乾燥した。得られた試験片のパーティクル発生量の測定を行ったところ、3027counts/cm2(サイズ>2μm)であった。
半導体素子の製造工程であるエッチング工程で使用された、堆積物に由来する元素としてAlがその表面に付着している、石英部材からなる使用済み治具を長さ30mm、幅14mm、厚さ12mmに裁断し、試験片とした。この試験片をHNO3が6重量%、NH4Fが4.3重量%(残部:水)含まれる洗浄液組成物に浸漬した。25℃で5時間保持した後、取り出した試験片を、別途調製した、前記洗浄液組成物を水で100倍に希釈したリンス用薬液に素早く浸漬し、25℃で1時間保持した。試験片を取り出し、これを水洗いし、乾燥した後、パーティクル発生量の測定を行った結果、167counts/cm2(サイズ>2μm)であった。
Claims (14)
- 半導体素子製造工程で使用した治具を、無機酸とフッ化物を含有する洗浄液組成物と接触させることにより洗浄することを特徴とする、使用済み治具の洗浄方法。
- 無機酸が硝酸、硫酸、塩酸からなる群より選ばれる一種或いは二種以上の混合物であることを特徴とする請求項1に記載の使用済み治具の洗浄方法。
- 無機酸が硝酸であることを特徴とする請求項1に記載の使用済み治具の洗浄方法。
- フッ化物がフッ化ナトリウム 、フッ化カリウム 、フッ化アンモニウムからなる群より選ばれる一種或いは二種以上の混合物であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の使用済み治具の洗浄方法。
- フッ化物がフッ化アンモニウムであることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の使用済み治具の洗浄方法。
- 使用済み治具が石英部材からなることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の使用済み治具の洗浄方法。
- 使用済み治具がセラミックス部材からなることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の使用済み治具の洗浄方法。
- 使用済み治具の洗浄に用いる洗浄液組成物が、組成比として、無機酸が0.6〜60wt%、フッ化物が0.2〜30wt%で残部が水であることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の使用済み治具の洗浄方法。
- 使用済み治具の洗浄に用いる洗浄液組成物が、組成比として、硝酸が3〜30wt%、フッ化アンモニウムが1〜15wt%で残部が水であることを特徴とする請求項6記載の使用済み治具の洗浄方法。
- 使用済み治具の洗浄に用いる洗浄液組成物が、組成比として、硝酸が3〜12wt%、フッ化アンモニウムが0.5〜5wt%で残部が水であることを特徴とする請求項7記載の使用済み治具の洗浄方法。
- 使用済み治具が、窓材、シールドリング、サセプター、セラミックドーム、フォーカスリング、キャプチャーリングまたはガスノズルである、請求項1乃至請求項10のいずれかに記載の使用済み治具の洗浄方法。
- 硝酸が0.6〜60wt%、フッ化アンモニウムが0.2〜30wt%で残部が水からなる酸性洗浄液組成物。
- 請求項1乃至請求項11のいずれかに記載の洗浄方法を第1工程とし、次いで第1工程で得られた治具を前記工程で使用した洗浄液組成物の希釈液でリンス洗浄することを特徴とする使用済み治具の洗浄方法。
- 希釈液が、第1工程で用いた洗浄液組成物を20〜200倍に希釈したものであることを特徴とする請求項13に記載の使用済み治具の洗浄方法。
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2006
- 2006-12-14 JP JP2006336916A patent/JP2008153271A/ja active Pending
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