JP2008137870A - シリコン塩化物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】金属シリコン粉末を流動層内で塩化水素や、水素および塩化珪素と反応させてシリコン塩化物を製造する方法において、原料として用いる金属シリコン粉末の酸素濃度を0.2質量%以下または炭素濃度を0.1質量%以下と規定する。酸素濃度を0.2質量%以下とし、かつ炭素濃度を0.1質量%以下とすれば、効果はより顕著である。
【選択図】なし
Description
Claims (4)
- 金属シリコン粉末を塩化水素を含有するガスまたは水素と塩化珪素を含有するガスと流動層内で反応させて目的のシリコン塩化物を得て、流動層炉から排出されるシリコン塩化物含有ガスからサイクロンで金属シリコン微粉末を捕集し、捕集された金属微粉末を系外へ抜き出すシリコン塩化物の製造方法であって、
金属シリコン粉末の酸素濃度が0.2質量%以下または炭素濃度が0.1質量%以下であることを特徴とするシリコン塩化物の製造方法。 - 金属シリコン粉末を塩化水素を含有するガスまたは水素と塩化珪素を含有するガスと流動層内で反応させて目的のシリコン塩化物を得て、流動層炉から排出されるシリコン塩化物含有ガスからサイクロンで金属シリコン微粉末を捕集し、捕集された金属微粉末を系外へ抜き出すシリコン塩化物の製造方法であって、
金属シリコン粉末の酸素濃度が0.2質量%以下であり、かつ炭素濃度が0.1質量%以下であることを特徴とするシリコン塩化物の製造方法。 - 金属シリコン粉末の純度が99.5質量%以上であることを特徴とする請求項1または2に記載のシリコン塩化物の製造方法。
- 金属シリコン粉末が凝固偏析法により製造された金属シリコンの破砕粉末であることを特徴とする請求項1または2に記載のシリコン塩化物の製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011063480A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-03-31 | Mitsubishi Materials Corp | クロロシラン精製用フィルター装置、クロロシラン精製装置及び精製方法 |
CN109319790A (zh) * | 2018-11-09 | 2019-02-12 | 成都蜀菱科技发展有限公司 | 一种利用细硅粉生产氯硅烷的方法及氯硅烷产品 |
WO2020137853A1 (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-02 | 株式会社トクヤマ | クロロシラン類の製造方法 |
JP2020521701A (ja) * | 2018-02-08 | 2020-07-27 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG | 冶金シリコンの分類方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5945919A (ja) * | 1982-09-02 | 1984-03-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | トリクロルシランの連続製造法 |
JPS6036318A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-25 | モトローラ・インコーポレーテツド | トリクロロシラン製造方法及び装置 |
JPS643005A (en) * | 1987-06-25 | 1989-01-06 | Sunx Ltd | Production of silicon ingot |
JPH0238305A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-02-07 | Bayer Ag | 太陽電池用のシリコン、その製造方法及びその使用 |
JPH02208217A (ja) * | 1988-12-08 | 1990-08-17 | Elkem As | トリクロルモノシランの製造方法 |
JPH04238805A (ja) * | 1991-01-11 | 1992-08-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 高純度クロルシランの製造方法 |
JP2005298327A (ja) * | 2004-04-08 | 2005-10-27 | Wacker Chemie Gmbh | トリクロロモノシランの製造方法 |
JP2006001804A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Sumitomo Titanium Corp | シリコン塩化物の製造方法およびそれを用いる多結晶シリコンの製造方法 |
-
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5945919A (ja) * | 1982-09-02 | 1984-03-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | トリクロルシランの連続製造法 |
JPS6036318A (ja) * | 1983-07-18 | 1985-02-25 | モトローラ・インコーポレーテツド | トリクロロシラン製造方法及び装置 |
JPS643005A (en) * | 1987-06-25 | 1989-01-06 | Sunx Ltd | Production of silicon ingot |
JPH0238305A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-02-07 | Bayer Ag | 太陽電池用のシリコン、その製造方法及びその使用 |
JPH02208217A (ja) * | 1988-12-08 | 1990-08-17 | Elkem As | トリクロルモノシランの製造方法 |
JPH04238805A (ja) * | 1991-01-11 | 1992-08-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 高純度クロルシランの製造方法 |
JP2005298327A (ja) * | 2004-04-08 | 2005-10-27 | Wacker Chemie Gmbh | トリクロロモノシランの製造方法 |
JP2006001804A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Sumitomo Titanium Corp | シリコン塩化物の製造方法およびそれを用いる多結晶シリコンの製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011063480A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-03-31 | Mitsubishi Materials Corp | クロロシラン精製用フィルター装置、クロロシラン精製装置及び精製方法 |
JP2020521701A (ja) * | 2018-02-08 | 2020-07-27 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG | 冶金シリコンの分類方法 |
CN109319790A (zh) * | 2018-11-09 | 2019-02-12 | 成都蜀菱科技发展有限公司 | 一种利用细硅粉生产氯硅烷的方法及氯硅烷产品 |
WO2020137853A1 (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-02 | 株式会社トクヤマ | クロロシラン類の製造方法 |
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