JP4594271B2 - 六塩化二珪素の製造方法 - Google Patents
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Description
ここで言う「反応開始」とは、シリコン生成反応炉への原料ガス(高純度のトリクロロシランおよび水素)の供給開始を意味し、「反応終了」とは前記原料ガスの供給終了を意味する。
前記本発明の製造方法において、シリコン生成反応温度を1100℃以下とすれば、シリコン生成反応炉から排出されるガス中の六塩化二珪素の分解による含有量の低下を抑制することができる。
すなわち、本発明は、原料ガスの採取の仕方を規定したことを特徴とする六塩化二珪素の製造方法である。
前記図3に示したパターンIIに従って、すなわち、原料ガスの採取速度を、全反応時間の1/2を経過するまでは0とし、その後反応終了時で400となるように直線的に変化させて原料ガスを採取し、その原料ガスを六塩化二珪素製造工程へ導入して六塩化二珪素を製造した。
前記図7に示したパターンVIに従って、すなわち、原料ガスの採取速度を、反応開始から全反応時間の1/3を経過するまでは50とし、1/3〜2/3の範囲で100とし、2/3〜反応終了時までを150として原料ガスを採取し、その原料ガスを六塩化二珪素製造工程へ導入して六塩化二珪素を製造した。
実施例3は、前記図2に示したパターンIに従って原料ガスを採取し、その原料ガスを六塩化二珪素製造工程へ導入して六塩化二珪素を製造した場合である。
Claims (4)
- シーメンス法による多結晶シリコン製造工程におけるシリコン生成反応炉から排出されるガスの少なくとも一部を六塩化二珪素原料として六塩化二珪素製造工程へ送って六塩化二珪素を製造する方法であって、シリコン生成反応炉の反応開始から反応終了までの時間を横軸(X軸)、六塩化二珪素原料の採取速度を縦軸(Y軸)とし、反応開始からの経過時間xに対する原料の採取速度yを一次式で近似し、最小二乗法により求めた一次式がy=ax+bであり、全反応時間における六塩化二珪素原料の平均採取量がave(x)であるとき、下記(1)式を満たすように六塩化二珪素原料を採取することを特徴とする六塩化二珪素の製造方法。
b/ave(x)<1 ・・・(1) - 前記六塩化二珪素原料を採取する際に満たすべき(1)式が、下記(2)式であることを特徴とする請求項1に記載の六塩化二珪素の製造方法。
b/ave(x)≦0.35 ・・・(2) - シーメンス法による多結晶シリコン製造工程におけるシリコン生成反応炉から排出されるガスの少なくとも一部を六塩化二珪素原料として六塩化二珪素製造工程へ送って六塩化二珪素を製造する方法であって、シリコン生成反応温度を1100℃以下とすることを特徴とする請求項1に記載の六塩化二珪素の製造方法。
- シーメンス法による多結晶シリコン製造工程におけるシリコン生成反応炉から排出されるガスの少なくとも一部を六塩化二珪素原料として六塩化二珪素製造工程へ送って六塩化二珪素を製造する方法であって、シリコン生成反応炉に供給される水素とトリクロロシランのモル比を7.0以上とすることを特徴とする請求項1に記載の六塩化二珪素の製造方法。
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