JP2008112957A - GaN系LEDチップ - Google Patents
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Abstract
N系LEDチップを提供すること。
【解決手段】GaN系LEDチップ10は、透光性基板11上に、GaN系半導体層Lが積層された構造を有している。GaN系半導体層Lは、透光性基板11側から、n型層12と、発光層13と、p型層14とをこの順に含む積層構造を有している。GaN系半導体層Lからp型層14と発光層13の一部をエッチング除去することにより、n型層12が部分的に露出しており、その露出面上に負電極15が形成されている。p型層14上には、正電極として、非晶質の酸化物半導体からなる透光性電極16が形成されている。透光性電極16上には金属製の反射膜17が形成されている。透光性電極16は、非晶質の酸化物半導体で形成される代わりに、表面が研磨により平坦化された酸化物半導体膜であってもよい。
【選択図】図1
Description
図1は本発明の一実施形態に係るGaN系LEDチップの断面図である。この図に示すGaN系LEDチップ10は、透光性基板11上に、GaN系半導体層Lが積層された構造を有している。GaN系半導体層Lは、透光性基板11側から、n型層12と、発光層13と、p型層14とをこの順に含む積層構造を有している。GaN系半導体層Lからp型層14と発光層13の一部をエッチング除去することにより、n型層12が部分的に露出しており、その露出面上に負電極15が形成されている。p型層14上には、正電極として、酸化物半導体からなる透光性電極16が形成されている。透光性電極16上には金属製の反射膜17が形成されている。
図2は本発明の他の一実施形態に係るGaN系LEDチップの断面図である。この図に示すGaN系LEDチップ20は、透光性基板21上に、GaN系半導体層Lが積層された構造を有している。GaN系半導体層Lは、透光性基板21側から、n型層22と、発光層23と、p型層24とをこの順に含む積層構造を有している。GaN系半導体層Lからp型層24と発光層23の一部をエッチング除去することにより、n型層22が部分的に露出しており、その露出面上に負電極25が形成されている。p型層24上には、正電極として、酸化物半導体からなる透光性電極26が形成されている。透光性電極26は、非晶質の酸化物半導体膜であるか、または、成膜後に研磨を行うことによってその表面を平坦化した酸化物半導体膜である。透光性電極26上には金属製の反射膜27と接点電極28とが形成されている。
図3は本発明の更に他の一実施形態に係るGaN系LEDチップの断面図である。この図に示すGaN系LEDチップ30は、透光性基板31上に、GaN系半導体層Lが積層された構造を有している。GaN系半導体層Lは、透光性基板31側から、n型層32と、発光層33と、p型層34とをこの順に含む積層構造を有している。GaN系半導体層Lからp型層34と発光層33の一部をエッチング除去することにより、n型層32が部分的に露出しており、その露出面上に負電極35が形成されている。p型層34上には、正電極として、酸化物半導体からなる透光性電極36が形成されている。透光性電極36は、非晶質の酸化物半導体膜であるか、または、成膜後に研磨を行うことによってその表面を平坦化した酸化物半導体膜である。透光性電極36上には誘電体多層膜型の反射膜37と接点電極38とが形成されている。
図4は本発明の更に他の一実施形態に係るGaN系LEDチップの断面図である。この図に示すGaN系LEDチップ40は、導電性を有する透光性基板41上に、GaN系半導体層Lが積層された構造を有している。GaN系半導体層Lは、透光性基板41側から、n型層42と、発光層43と、p型層44とをこの順に含む積層構造を有している。透光性基板41とn型層42とは電気的に接続されており、透光性基板41の裏面上に負電極45が形成されている。p型層44上には、正電極として、酸化物半導体からなる透光性電極46が形成されている。透光性電極46は、非晶質の酸化物半導体膜であるか、または、成膜後に研磨を行うことによってその表面を平坦化した酸化物半導体膜である。透光性電極46上には反射膜47が形成されている。
図5は本発明の更に他の一実施形態に係るGaN系LEDチップの断面図である。この図に示すGaN系LEDチップ50は、導電性を有する透光性基板51上に、GaN系半導体層Lが積層された構造を有している。GaN系半導体層Lは、透光性基板51側から、p型層54と、発光層53と、n型層52とをこの順に含む積層構造を有している。透光性基板51とp型層54とは電気的に接続されており、透光性基板51の裏面上に正側の接点電極58が形成されている。n型層52上には、負電極として透光性電極56が形成されている。透光性電極56は、非晶質の酸化物半導体膜であるか、または、成膜後に研磨を行うことによってその表面を平坦化した酸化物半導体膜である。透光性電極56上には負側の接点電極を兼用する反射膜57が形成されている。
上記実施形態1〜4に係るGaN系LEDチップにおいて、透光性基板の表面に形成することのできる好適な凹凸パターンとして、ストライプ状の凹部(溝)と凸部(リッジ)が交互に並んだパターンが挙げられるが、このような凹凸パターンを採用すると、透光性基板とGaN系半導体層との間に形成される屈曲界面の光散乱作用に異方性が生じる。すなわち、GaN系半導体層内を層方向(層の膜厚方向に直交する方向)に伝播する光の成分のうち、基板表面のストライプ状の凹部および凸部の長手方向と直交する方向に伝播する成分は強い散乱を受けるが、該長手方向に平行な方向に伝播する成分は殆ど散乱されない。そこで、GaN系半導体層の上面形状が方形(正方形または長方形)であるLEDチップにおいて、このような凹凸パターンを採用する場合には、ストライプ状の凹部および凸部の長手方向が、該方形を構成する4つの辺のそれぞれと約45度(40度〜50度)の角度をなすように、凹凸パターンの方向を定めることが好ましい。凹凸パターンの方向をこのように定めると、ストライプ状の凹部および凸部の長手方向に平行に伝播する光成分が、GaN系半導体層の端面で反射されることによって、その伝播方向を、該長手方向に直交する方向に変えることになる(図7)。つまり、殆ど散乱を受けない方向に伝播する光成分の伝播方向が、反射によって、強い散乱を受ける方向に変化することになる。よって、光のGaN系半導体層内への閉じ込めを弱くすることができる。
(1)透光性基板と、該透光性基板上に形成されたGaN系半導体層とを有し、前記GaN系半導体層は、前記透光性基板側からn型層と、発光層と、p型層とをこの順に含む積層構造を備え、前記p型層上には、非晶質の酸化物半導体からなる透光性電極が形成され、該透光性電極の表面上に反射膜が形成されている、GaN系LEDチップ。
(2)透光性基板と、該透光性基板上に形成されたGaN系半導体層とを有し、前記GaN系半導体層は、前記透光性基板側からn型層と、発光層と、p型層とをこの順に含む積層構造を備え、前記p型層上には、酸化物半導体からなる透光性電極が形成されており、該透光性電極の表面は研磨により平坦化されており、該透光性電極の表面上に反射膜が形成されている、GaN系LEDチップ。
(3)前記非晶質の酸化物半導体からなる透光性電極が、インジウム亜鉛酸化物で形成されている、前記(1)に記載のGaN系LEDチップ。
(4)前記酸化物半導体がインジウム錫酸化物である、前記(2)に記載のGaN系LEDチップ。
(5)前記反射膜が金属製の反射膜である、前記(1)〜(4)のいずれかに記載のGaN系LEDチップ。
(6)前記金属製の反射膜が、Ag、Al、RhもしくはPtの単体、または、これらのいずれかを主体とする合金で形成されている、前記(5)に記載のGaN系LEDチップ。
(7)前記透光性電極と、前記金属製の反射膜との間に透光性の誘電体膜が介在されている、前記(5)または(6)に記載のGaN系LEDチップ。
(8)前記誘電体膜の屈折率が1.4以下である、前記(7)に記載のGaN系LEDチップ。
(9)前記誘電体膜がフッ化マグネシウムまたはフッ化リチウムで形成されている、前記(7)に記載のGaN系LEDチップ。
(10)前記透光性基板の表面が凹凸面とされており、前記GaN系半導体層が該凹凸面の凹部を埋めるように形成されている、前記(1)〜(9)のいずれかに記載のGaN系LEDチップ。
(11)前記凹凸面は交互に配置されたストライプ状の凹部および凸部を有しており、前記GaN系半導体層はその上面形状が方形であり、前記ストライプ状の凹部および凸部の長手方向が、該方形を構成する4つの辺のそれぞれと約45度の角度をなしている、前記(10)に記載のGaN系LEDチップ。
11、21、31、41、51、61 基板
12、22、32、42、52、62 n型層
13、23、33、43、53、63 発光層
14、24、34、44、54、64 p型層
15、25、35、45、65 負電極
16、26、36、46、56、66 透光性電極
17、27、37、47、57、67 反射膜
28、38、58 接点電極
L GaN系半導体層
Claims (15)
- GaN系半導体層を有するGaN系LEDチップであって、
該GaN系半導体層上に、非晶質の酸化物半導体からなる透光性電極が形成され、
該透光性電極の表面上に反射膜が形成されている、
ことを特徴とするGaN系LEDチップ。 - GaN系半導体層を有するGaN系LEDチップであって、
該GaN系半導体層上に、酸化物半導体からなる透光性電極が形成され、
該透光性電極の表面は研磨により平坦化されており、
該平坦化された透光性電極の表面上に反射膜が形成されている、
ことを特徴とするGaN系LEDチップ。 - 前記非晶質の酸化物半導体からなる透光性電極がインジウム亜鉛酸化物膜である、請求項1に記載のGaN系LEDチップ。
- 前記酸化物半導体がインジウム錫酸化物である、請求項2に記載のGaN系LEDチップ。
- 前記反射膜が金属製の反射膜である、請求項1〜4のいずれかに記載のGaN系LEDチップ。
- 前記金属製の反射膜が、Ag、Al、Rh、Pt、Ir、Pd、RuもしくはOsの単体、または、これらのいずれかを主体とする合金で形成されている、請求項5に記載のGaN系LEDチップ。
- 前記透光性電極と前記金属製の反射膜との間に、前記透光性電極よりも低い屈折率を有する材料で形成された透光性の誘電体膜が介在されている、請求項5または6に記載のGaN系LEDチップ。
- 前記誘電体膜の屈折率が1.5以下である、請求項7に記載のGaN系LEDチップ。
- 前記誘電体膜がフッ化マグネシウムまたはフッ化リチウムで形成されている、請求項7に記載のGaN系LEDチップ。
- 前記反射膜が誘電体多層膜である、請求項1〜4のいずれかに記載のGaN系LEDチップ。
- 前記反射膜が、更に、前記誘電体多層膜上に積層された金属反射層を有する、請求項10に記載のGaN系LEDチップ。
- 前記GaN系半導体層に接合された透光性基板を有し、該透光性基板と、前記GaN系半導体層と、前記透光性電極と、前記反射膜とをこの順に含む積層構造を備える、請求項1〜11のいずれかに記載のGaN系LEDチップ。
- 前記透光性基板の表面が凹凸面とされており、前記GaN系半導体層が該凹凸面の凹部を埋めるように形成されている、請求項12に記載のGaN系LEDチップ。
- 前記凹凸面は交互に配置されたストライプ状の凹部および凸部を有しており、前記GaN
系半導体層はその上面形状が方形であり、前記ストライプ状の凹部および凸部の長手方向
が、該方形を構成する4つの辺のそれぞれと約45度の角度をなしている、請求項13に
記載のGaN系LEDチップ。 - 前記GaN系半導体層に接合された導電性基板を有し、該導電性基板と、前記反射膜と、前記透光性電極と、前記GaN系半導体層とをこの順に含む積層構造を備えている、請求項1〜11のいずれかに記載のGaN系LEDチップ。
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