JP2008097758A - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】書込み、消去、及び読み出しの各動作においてそれぞれ所定電圧が供給されるコントロールゲート電極及びメモリゲート電極を含む不揮発性メモリセル(mm0〜mm15)が形成された半導体記憶装置において、上記不揮発性メモリセルからデータ読み出しが行われるときに、上記コントロールゲート電極と上記メモリゲート電極との間のカップリングによりメモリゲート電極の電位を上げることでメモリセルからの読出し電流を増大させるための制御回路を設ける。上記コントロールゲート電極と上記メモリゲート電極との間のカップリングにより十分な読出し電流を確保することによって読出しの高速化を達成する。
【選択図】図38
Description
図2には、本発明にかかる半導体記憶装置の一例とされるフラッシュメモリを含むマイクロコンピュータが示される。
図7に示されるように、メモリセルアレイ118のウエル領域を700−1〜700−nで示されるように複数のウエル領域に分割し、それに対応して複数のウエルドライバ107−1〜107−nを設け、このウエルドライバ107−1〜107−nにより、上記複数のウエル領域700−1〜700−nに対して個別的に所定のウエル電圧(例えば0.3V程度)を供給可能に構成することができる。尚、読み止し時にリファレンスとなるメモリ素子を含むウエルが、読み出し対象メモリを含むウエルと分かれている場合は、リファレンスとなるメモリ素子を含むウエルも、同様にウエルの電圧を変える。
図8には、別の構成例が示される。
図9には、上記フラッシュメモリ202の別の構成例が示される。
消去ベリファイ時、あるいは書込みベリファイ時も、読み出し時と同じセンスアンプ110で、ベリファイ判定が行われる。このとき、読み出し時だけでなく、消去ベリファイ時や、書込みベリファイ時にも、ウエルドライバ107を介してメモリセルアレイ118のウエル領域に0.3V程度の電圧を加えるようにする。すなわち、図11(a),(b)に示されるように、消去ベリファイ時においてメモリセルアレイ118のウエル領域に0.3V程度の電圧を加えることにより、消去ベリファイにおける読み出し精度を高くすることができ、図12(a),(b)に示されるように、書込みベリファイ時においてメモリセルアレイ118のウエル領域に0.3V程度の電圧を加えることにより、書込みベリファイにおける読み出し精度を高くすることができる。
消去ベリファイ時、あるいは書込みベリファイ時も、読み出し時と同じセンスアンプ110で、ベリファイ判定が行われる。このとき、読み出し時だけでなく、消去ベリファイ時や、書込みベリファイ時にも、上記切換え回路902を介して選択ソースに−0.3V程度の電圧を加えるようにする。すなわち、図13(a),(b)に示されるように、消去ベリファイ時に選択ソースに−0.3V程度の電圧を加えるようにすることにより、読み出し時と同じソース電圧条件で消去ベリファイを行うことができるので、消去ベリファイ時の読み出しの精度が高くなる。(a),(b)に示されるように、書込みベリファイ時に選択ソースに−0.3V程度の電圧を加えるようにすることにより、読み出し時と同じソース電圧条件で消去ベリファイを行うことができるので、書込みベリファイ時の読み出しの精度が高くなる。
メモリゲート(MG)には、メモリゲートドライバ109を介して所定レベルのゲート電圧が供給される。メモリゲートドライバ109には、図15に示されるように、基準電圧を降圧する降圧回路151から電源が供給される。ここでメモリセルのIds−VMG(ドレイン・ソース間電流−メモリゲート電圧)特性は、周囲温度によって異なる。例えば図22に示されるように、周囲温度が低い場合の特性曲線は221で示されるようになり、周囲温度が高い場合の特性曲線は222で示されるようになる。ここでは、図22のA点よりも右側の領域で読み出し動作を行うものとする。周囲温度が比較的高い場合において十分な読出し電流を確保すると、低温の場合には、必要以上の読出し電流が流れてしまうから、そのような電流に耐えるように回路、配線の信頼性などに十分な余裕を確保しなければ、メモリの信頼性を損なう虞がある。そこで本例では、上記降圧回路の前段に温度補償回路161を設け、この温度補償回路161によって上記基準電圧の温度補償を行うようにしている。上記温度補償回路161には、特に制限されないが、図18に示される回路構成を適用することができる。すなわち、pチャネル型MOSトランジスタ181,182、nチャネル型MOSトランジスタ183,184,185を含んで成る。nチャネル型MOSトランジスタ183,184は差動結合され、pチャネル型MOSトランジスタ181,182は、カレントミラー型負荷とされる。nチャネル型MOSトランジスタ183のゲート幅W1と、nチャネル型MOSトランジスタ184のゲート幅W2とは異なる。nチャネル型MOSトランジスタ183のゲート電極に基準電圧が供給され、nチャネル型MOSトランジスタ184のドレイン電極から温度補償回路161の出力信号が得られる。上記温度補償回路161の温度補償により、図20に示されるように、温度Tの上昇に伴い、メモリゲート電圧VMGが上昇する特性が得られる。このため、周囲温度が高い場合には、メモリゲート電圧VMGが上昇され、十分な読み出し電流が得られる。また、周囲温度が低くなると、温度補償回路161により、メモリゲート電圧VMGが低下されることによって、必要以上の読出し電流が流れてしまうのが阻止される。従って、温度補償を行わない場合(図15参照)には、周囲温度が比較的高い場合において十分な読出し電流を確保すると、低温の場合には、必要以上の読出し電流が流れてしまうから、そのような電流に耐えるように回路、配線の信頼性などに十分な余裕を確保しなければ、メモリの信頼性を損なう虞があるのに対して、温度補償が行われる場合(図16参照)には、読出し電流の適正化が図られるため、必要以上の読出し電流に耐えるように回路、配線の信頼性などに十分な余裕を確保する必要はない。
リファレンスセルのメモリゲートが、読み出し対象メモリセル(通常メモリセル)と別個に形成される場合がある。かかる場合には、リファレンスセル及び読み出し対象メモリセルの双方において、図24に示される特性を考慮する必要がある。そこで、図23に示されるように、読み出し対象メモリ側の電源電圧を変更可能な可変電圧電源回路231、及び温度補償回路233とは別に、リファレンスセル側にも、リファレンスセル側のメモリゲートドライバの電源電圧を変更可能な可変電圧電源回路232、及び温度補償回路234を設け、読み出し対象メモリの読み出し電流、及びリファレンスセルの読出し電流の双方が、周囲温度によらず一定となるように、メモリゲートドライバ235,236の電源電圧を変更することによってメモリゲート電圧を制御する(図25参照)。
読み出し時だけでなく、書込みベリファイ時、あるいは消去ベリファイ時においても、図26に示されるように周囲温度により読み出し電流が異なるため、図27に示されるように、書込みベリファイ時、あるいは消去ベリファイ時においても、メモリゲート電圧VMGの温度補償を行うようにすると良い。
第1実施形態、第3実施形態では、図5に示されるように、読み出しが終わると、メモリセルアレイ118におけるウエル領域の電圧を0Vに戻していたが、図29(a),(b)に示されるように、メモリセルアレイ118におけるウエル領域の電圧を予め0.3V程度としておき、読み出しが終わっても0Vに戻さないようにしても良い。この場合、読み出しの度にウエル領域の電圧を上げ下げする必要が無いため、消費電力の低減や高速化に有効とされる。
第5実施形態では、図11,12に示されるように、消去ベリファイ、あるいは書込みベリファイが終わると、メモリウエルの電圧を0Vに戻していたが、図30(a),(b)、及び図31(a),(b)に示されるように、メモリウエルの電圧を予め0.3V程度としておき、消去ベリファイ、あるいは書込みベリファイが終わっても0Vに戻さないようにしてもよい。消去ベリファイ時、あるいは書込みベリファイ時の度にウエル領域の電圧を上げ下げする必要が無いため、消費電力の低減や高速化にも有効である。
図1に示されるメモリセルアレイ118における不揮発性メモリセルは、コントロールゲート(CG)とメモリゲート(MG)の隣接する2つのゲートを持つため、図32に示されるように、MGの上にCGがのり上げる構成や、図33に示されるようにCG上にMGがのり上げる構成、さらには図34に示されるようにCGとMGとが単に隣接しているだけでも、そこにはカップリング容量320が存在する。このカップリング容量320によるカップリングのために、片方のゲートが動作すると、もう片方のゲート電位も変動する。選択アドレスに従いCGを立ち上げると、CG−MG間のカップリングにより、MG電位が持ち上がる(MG電位にノイズがのる)。読出し動作は高速(例えば100MHz)で行われるため、MG電位にノイズが重畳された状態でメモリセルの情報を読み出すことになる。メモリセルの情報はメモリセルの電流を判定することで読み出される。
MG電位にノイズが重畳されるタイミングがメモリセルの場所によって異なる場合がある。例えば図42において、メモリセル群421(mm0,mm4,mm8,mm12)と、メモリセル群422(mm2,mm6,mm10,mm14)とでは、図43に示されるように、MG電位のノイズ波形が異なるものとする。かかる場合には、メモリセル情報を判定するタイミング信号、すなわち、センスアンプ起動タイミングをメモリセルの場所によって変えるようにすると良い。
102 フラッシュメモリモジュール
103 電圧発生回路
104 コントローラ
118 メモリセルアレイ
201 CPU
202 フラッシュメモリ
161,163,233,234 温度補償回路
CG コントロールゲート
MG メモリゲート
Claims (5)
- 書込み、消去、及び読み出しの各動作において所定電圧が供給されるソース電極を含む不揮発性メモリセルがウエル領域に形成された半導体記憶装置であって、
上記不揮発性メモリセルからデータ読み出しが行われるときに、上記ソース電極又は上記ウエル領域の電位を変更することによりメモリセルからの読出し電流を増大させるための制御回路を含むことを特徴とする半導体記憶装置。 - 上記制御回路の制御に基づいて、上記ウエル領域に所定のウエル電圧を供給するためのウエルドライバを含む請求項1記載の半導体記憶装置。
- 上記制御回路の制御に基づいて、上記ソース電極への印加電圧を切り換えるための切換え回路を含む請求項1記載の半導体記憶装置。
- 書込み、消去、及び読み出しの各動作においてそれぞれ所定電圧が供給されるコントロールゲート電極及びメモリゲート電極を含む不揮発性メモリセルが形成された半導体記憶装置であって、
上記不揮発性メモリセルからデータ読み出しが行われるときに、上記コントロールゲート電極と上記メモリゲート電極との間のカップリングによりメモリゲート電極の電位を上げることでメモリセルからの読出し電流を増大させるための制御回路を含むことを特徴とする半導体記憶装置。 - 上記メモリゲート電極に供給されるメモリゲート電圧を温度補償するための温度補償回路を含む請求項1又は4記載の半導体記憶装置。
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JP2006280489A JP2008097758A (ja) | 2006-10-13 | 2006-10-13 | 半導体記憶装置 |
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Cited By (3)
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JP2013191885A (ja) * | 2013-06-18 | 2013-09-26 | Renesas Electronics Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
CN112542197A (zh) * | 2020-12-29 | 2021-03-23 | 深圳市芯天下技术有限公司 | 提高灵敏放大器读取可靠性方法、装置、存储介质和终端 |
US11486767B2 (en) | 2020-08-26 | 2022-11-01 | Kioxia Corporation | Semiconductor storage device, method of controlling semiconductor storage device, and memory system |
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