JP2008097758A - 半導体記憶装置 - Google Patents

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由紀子 梅本
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章 加藤
Toshihiro Tanaka
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Abstract

【課題】信頼性を損なうことなく、十分な読出し電流を確保することによって読出しの高速化を図る。
【解決手段】書込み、消去、及び読み出しの各動作においてそれぞれ所定電圧が供給されるコントロールゲート電極及びメモリゲート電極を含む不揮発性メモリセル(mm0〜mm15)が形成された半導体記憶装置において、上記不揮発性メモリセルからデータ読み出しが行われるときに、上記コントロールゲート電極と上記メモリゲート電極との間のカップリングによりメモリゲート電極の電位を上げることでメモリセルからの読出し電流を増大させるための制御回路を設ける。上記コントロールゲート電極と上記メモリゲート電極との間のカップリングにより十分な読出し電流を確保することによって読出しの高速化を達成する。
【選択図】図38

Description

本発明は、半導体記憶装置、さらには不揮発性メモリセルが形成された半導体記憶装置に関する。
半導体記憶装置の一例とされる不揮発性メモリとして、例えば非特許文献1や特許文献1に記載されたものが知られている。非特許文献1記載の不揮発性メモリは、1セル当たり2個のトランジスタで構成され(「2トランジスタ/セル」と表記される)、コントロールゲートトランジスタを、CPU内で使用しているものと同じ1.5V系のMOSトランジスタで構成したMONOS(Metal Oxide Nitride Oxide Semiconductor)型不揮発性メモリとされる。かかる不揮発性メモリによれば、ドレイン側にコントロールゲートトランジスタのゲートが配置される。そして、書込み時にはソース側に高電圧が与えられ、ソース側ホットエレクトロン注入(Source-Side Hot-Electron Injection)が利用される。コントロールゲートトランジスタのゲートCGは1.5Vに固定され、ドレイン側の電圧で書込みがビット毎に制御される。消去は、トンネリングを使い、メモリゲート側に電子を引き抜くことによって可能とされる。消去は、メモリゲートが共通な範囲で、複数のメモリに対して並列して行われる。読出しは、1.5Vより高い電圧を必要としない。読出し時に動作する部分は、1.5V系のMOSトランジスタで構成する。消去状態は、メモリゲートトランジスタの閾値電圧が低い状態と定義されているので、読出し時よりも低い電圧が、選択されたメモリゲートに印可されて、消去ベリファイのための読み出しが行われる。書込み状態は、メモリゲートトランジスタの閾値電圧が高い状態と定義されているので、読出し時よりも高い電圧が、選択されたメモリゲートに印可されて、書込みベリファイのための読み出しが行われる。
また、特許文献1記載の不揮発性メモリによれば、ソース側にコントロールゲートトランジスタのゲートを配置した、2トランジスタ/セルのMONOS型不揮発性メモリとされる。書込みは、ソース側ホットエレクトロン注入が行われることによって可能とされる。消去は、ドレイン側で発生したホットホールが注入されることによって可能とされる。
T.Tanaka et al., A 512kB MONOS type Flash Memory Module Embedded in a Microcontroller, 2003 Symposium on VLSI Circuits Dig., p211,212 特開2003−46002号公報
不揮発性メモリ、特にマイクロコンピュータに搭載される不揮発性メモリは、マイクロコンピュータの高速化に伴って、読出しの高速化が求められる。同時にメモリ容量の増加も求められており、こちらはメモリセルの微細化で対応している。大容量の不揮発性メモリを高速で読出すためには、読出し電流を十分に確保する必要がある。メモリセルトランジスタのゲート長の微細化による読出し電流の確保は、メモリ動作への影響、動作時消費電流の抑制等の観点から、制限を受ける場合がある。また、消去レベルを単純に深くしたのでは、書込みと消去を繰り返すことによるメモリセルへのストレスが増加し、不揮発性メモリの信頼性が低下してしまう。さらに、大容量の不揮発性メモリを高速で読出すため、周囲温度が比較的高い場合において十分な読出し電流を確保すると、低温の場合には、必要以上の読出し電流が流れてしまうから、そのような電流に耐えるように回路、配線の信頼性などに十分な余裕を確保しなければ、メモリの信頼性を損なう虞がある。
本発明の目的は、信頼性を損なうことなく、十分な読出し電流を確保することによって読出しの高速化を図るための技術を提供する。
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。
〔1〕書込み、消去、及び読み出しの各動作において所定電圧が供給されるソース電極を含む不揮発性メモリセルがウエル領域に形成された半導体記憶装置において、上記不揮発性メモリセルからデータ読み出しが行われるときに、上記ソース電極又は上記ウエル領域の電位を変更することによりメモリセルからの読出し電流を増大させるための制御回路(104)を設ける。
上記の手段によれば、制御回路は、上記不揮発性メモリセルからデータ読み出しが行われるときに、上記ソース電極又は上記ウエル領域の電位を変更することによりメモリセルからの読出し電流を増大させる。この読出し電流の増大は、メモリセルトランジスタのゲート長の微細化により読出し電流を確保する方式ではないので、メモリ動作への影響、動作時消費電流の抑制等の観点から制限を受けることもない。このことが、信頼性を損なうことなく、十分な読出し電流を確保することによって読出しの高速化を達成する。
このとき、上記制御回路の制御に基づいて、上記ウエル領域に所定のウエル電圧を供給するためのウエルドライバ(107)を設けることができる。
また、上記制御回路の制御に基づいて、上記ソース電極への印加電圧を切り換えるための切換え回路902を設けることができる。
そして、書込み、消去、及び読み出しの各動作においてそれぞれ所定電圧が供給されるコントロールゲート電極及びメモリゲート電極を含む不揮発性メモリセルが形成された半導体記憶装置において、上記不揮発性メモリセルからデータ読み出しが行われるときに、上記コントロールゲート電極と上記メモリゲート電極との間のカップリングによりメモリゲート電極の電位を上げることでメモリセルからの読出し電流を増大させるための制御回路(104)を設ける。
上記の手段によれば、制御回路は、上記不揮発性メモリセルからデータ読み出しが行われるときに、上記コントロールゲート電極と上記メモリゲート電極との間のカップリングによりメモリゲート電極の電位を上げることでメモリセルからの読出し電流を増大させる。この読出し電流の増大は、メモリセルトランジスタのゲート長の微細化により読出し電流を確保する方式ではないので、メモリ動作への影響、動作時消費電流の抑制等の観点から制限を受けることもない。このことが、信頼性を損なうことなく、十分な読出し電流を確保することによって読出しの高速化を達成する。
また、上記半導体記憶装置の信頼性の向上を図るため、上記メモリゲート電極に供給されるメモリゲート電圧を温度補償するための温度補償回路を設けることができる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。
すなわち、信頼性を損なうことなく、十分な読出し電流を確保することによって読出しの高速化を図るための技術を提供することができる。
<第1実施形態>
図2には、本発明にかかる半導体記憶装置の一例とされるフラッシュメモリを含むマイクロコンピュータが示される。
図2に示されるマイクロコンピュータは、特に制限されないが、公知の半導体集積回路製造技術により、単結晶シリコン基板などの一つの半導体基板に形成される。中央処理装置(CPU)201と、フラッシュメモリ202とがバス205によって結合される。フラッシュメモリ202には、上記CPU201で実行されるプログラムが格納される。上記バス205は、データを転送するためのデータバスや、アドレス信号を伝達するためのアドレスバスを含む。
図1には、上記フラッシュメモリ202の構成例が示される。
フラッシュメモリ202は、特に制限されないが、制御レジスタ101、及びフラッシュメモリモジュール102を含んで成る。制御レジスタ101は、上記バス205におけるデータバスDBUSに結合され、上記制御レジスタ101への制御データの設定は、上記データバスDBUSを介して行われる。
上記フラッシュメモリモジュール102は、特に制限されないが、電圧発生回路(VG)103、コントローラ(CONT)104、ソースデコーダ(SLDEC)105、ソースドライバ106、ウエルドライバ107、メモリゲートデコーダ(MGDEC)108、メモリゲートドライバ109、センスアンプ(SA)110、書込み消去制御回路111、カラムゲート(YG)112、データ入出力バッファ(DTB)113、アドレスバッファ(ADB)114、カラムアドレスデコーダ(YDEC)115、ロウアドレスデコーダ(XDEC)116、コントロールゲートドライバ117、及びメモリセルアレイ118を含む。
メモリセルアレイ118は、複数のコントールゲート線CG0〜CGx、及び複数のメモリゲート線MG0〜MGyと、複数のソース線SL0〜SLz、及び複数のビット線BL0〜BLnとが交差する箇所に不揮発性メモリセルが配置されて成る。上記不揮発性メモリセルは、特に制限されないが、MONOS(Metal Oxide Nitride Oxide Semiconductor)型不揮発性メモリセルとされる。具体的には図3(a),(b)に示されるように、1セル当たり2個のトランジスタで構成され、コントロールゲート(CG)、メモリゲート(MG)、ドレイン(BL)、ソース(SL)を含む。コントロールゲート(CG)は、対応するコントロールゲート線CG0〜CGxに結合され、メモリゲート(MG)は対応するメモリゲート線MG0〜MGyに結合され、ドレイン(BL)は対応するビット線BL0〜BLnに結合される。不揮発性メモリセルは、特に図3に示されるメモリセルに限定されず、ONO膜の代わりに絶縁膜、HfO2あるいはAl203等の電荷蓄積層、絶縁膜の順に積層構造としたもの、電荷蓄積層として半導体又は金属の浮遊ゲートを持つものや、強誘電体をメモリゲートのゲート絶縁膜とした素子等でもよい。アレイの構成も、NOR型、NAND型等の形を取ることが出来る。
CPU201からデータバス205を介して制御レジスタ101に値が設定されることによって、読出し、書込み、消去等のフラッシュメモリモジュールの動作が決定される。コントローラ104は、上記制御レジスタ101の値に基づき、電圧発生回路103の発生電圧を、読出し、書込み、消去等で必要な電圧に変え、コントロールゲート(CG)、メモリゲート(MG)、ソース(SL)等に必要な電圧を適切なタイミングで供給するように、各部の動作を制御する。アドレスバスABUSより入力されたアドレス情報がアドレスバッファ114に保され、この情報を基に、ロウアドレスデコーダ116、メモリゲートデコーダ108、ソースデコーダ105、カラムアドレスデコーダ115で、メモリを選択的に読出し、書込み、消去等を行う。ロウアドレスデコーダ116は、入力されたアドレス情報を基にコントロールゲートドライバ117を選択し、コントロールゲート(CG)の電圧を制御する。メモリゲートデコーダ108は、入力されたアドレス情報を基にメモリゲートドライバ109を選択し、メモリゲート(MG)の電圧を制御する。ソースデコーダ105は、入力されたアドレス情報を基にソースドライバ106を選択し、メモリセルのソース(SL)の電圧を制御する。カラムアドレスデコーダ115は、入力されたアドレス情報を基にカラムゲート112、書込み消去制御回路111の動作を制御する。センスアンプ110は、ビット線BL0〜BLnに現れる読出し信号を増幅してラッチする。このラッチデータは、カラムゲート112に伝達され、アドレスに一致したデータのみが、上記カラムゲート112を介してデータ入出力バッファ113に送られ、データバスDBUSに出力可能とされる。
書込み消去制御回路111は、書込み時に書込みデータをラッチし、書込み、消去時にビット線(BL0〜BLn)、ソース線(SL0〜SLz)の電位を制御する。選択されたメモリセルには、例えば書込み時において、ビット線に0.8V、ソース線に6V、コントロールゲートに1.5V、メモリゲートに13Vの電圧が与えられ、ソースサイドインジェクションで電子が電荷保持膜に注入される。消去時には、ビット線に0V、ソース線に0V、コントロールゲート(CG)に1.5V、メモリゲート(MG)に1.5Vの電圧が与えられ、トンネリングで電子が電荷保持膜から引き抜かれる。読出し時は初期状態として、ビット線が1Vに充電される。その後、ソース線に0V、コントロールゲート(CG)に1.5V、メモリゲート(MG)に1.5Vの電圧が与えられ、メモリセルを通して、ビット線に蓄えていた電荷が一定時間引き抜かれる。このとき、メモリセルの閾値電圧が高い場合は、メモリセルに流れる電流が小さく、ビット線から引き抜かれる電荷量は少ないので、ビット線の電圧は少し下がるだけである。これに対し、メモリセルの閾値電圧が低い場合は、メモリセルに流れる電流が大きいため、ビット線から引き抜かれる電荷量は多くなり、ビット線の電圧はメモリセルの閾値電圧が高い場合よりも下がる。このビット線の電圧がセンスアンプ110で増幅され、記憶情報の論理値「1」,「0」の判定が可能とされる。
さらに、図1に示される構成によれば、メモリセルのウエル領域に所定の電圧を供給するためのウエルドライバ107が設けられている。上記コントローラ104は、上記メモリセルからデータ読み出しが行われるときに、メモリセルのソースに比べてウエル領域の電位が高くなるように、上記ウエルドライバ107を介してコントローラ104により電圧制御が行われる。具体的には、メモリセルからの読出し時に上記メモリセルのウエル領域に0.3V程度の電圧を加えるようにする。このため、メモリセルがnチャネル型MOSトランジスタの場合、N型半導体の基板上で作成するか(図4(c)参照)、P型半導体の基板上にN型半導体のウエル領域を作成し、そのウエル中にP型半導体のウエル領域を作り、メモリのウエル領域と基板のP型半導体が電気的に導通しないようにする(図4(a),(b))。メモリセルがpチャネル型MOSトランジスタの場合は、N型とP型の関係を入れ替える。メモリセルアレイ118のウエル領域に印加する電圧は、メモリのソース側拡散層とウエル間の電圧とメモリのドレイン側拡散層とウエル間の電圧が、メモリのソース側拡散層とウエル間のPN接合ダイオードのビルトインポテンシャル以下で、なおかつ、メモリのドレイン側拡散層とウエル間のPN接合ダイオードのビルトインポテンシャル以下となる電圧とする。この電圧は、例えば、0.3V程度とされる。
図5には、読み出し時における主要部の電圧印加タイミングが示される。
図5(a)におけるメモリセルM00のデータを読み出す場合、メモリゲート線MG0の電圧は、読み出し待機状態の間は1.5V固定としておく。時刻t1で、読出しアドレスに対応したメモリセルのウエル領域の電圧を0.3Vにし、ビット線BL0を1Vに充電する。時刻t2で、コントロールゲート線CG0の電圧を1.5Vとして、メモリセルを通してビット線BL0から電荷を引き抜く。時刻t3で、ビット線に接続されたセンスアンプ110を動作させ、ビット線BL0の電圧を増幅する。時刻t4で、コントロールゲート線CG0とメモリセルのウエル領域の電圧を0Vに戻す。時刻t5までに読み出しデータをラッチし、時刻t5でビット線BL0を0Vに放電する。
尚、図5に示される例は、メモリセルがnチャネル型MOSトランジスタの場合を考えている。メモリセルがpチャネル型MOSトランジスタの場合、選択メモリのウエル領域には、非選択時のメモリセルアレイ118のウエル領域電圧から−0.3V程度低い電圧を与えるようにする。
上記例によれば、以下の作用効果を得ることができる。
(1)読出し時にウエルドライバ107を介してメモリセルアレイ118のウエル領域に0.3V程度の電圧Vbを加えると、メモリセルの閾値電圧が下がり、ドレイン(BL)、コントロールゲート(CG)、メモリゲート(MG)の各電圧が同じであっても、メモリセルアレイ118のウエル領域の電圧Vb=0Vの場合と比較して、大きなメモリセル電流(Ids)が流れる(図6参照)。このため、1Vに充電したビット線を、例えば0.5Vになるまで放電するのに必要な時間は、メモリセルアレイ118のウエル領域の電圧Vb=0Vの場合よりも、メモリセルアレイ118のウエル領域が0.3Vの時のほうが短くなる。これにより、ビット線の放電を始めてから、センスアンプ110でビット線BL0〜BLnの電圧を読み出すまでの時間を短くすることができ、高速な読み出しが実現できる。
(2)メモリセルアレイ118のウエル領域の電圧Vb=0Vの場合と同じ読み出し時間でよければ、メモリセルアレイ118のウエル領域の電圧Vb=0Vの場合よりも消去レベルを浅くすることができる。つまり、消去ベリファイ時のメモリゲート電圧を、例えば、−1Vから−0.5Vに上げることができる。このため、メモリ素子の書換え時のストレスが減り、信頼性が向上する。また、消去ベリファイ時のメモリゲート電圧を、−0.5Vまで上げる代わりに−0.7程度にすると、メモリ素子の書換え時に発生するストレスの減少による信頼性の向上と、読み出し速度の向上を、同時に実現することもできる。
<第2実施形態>
図7に示されるように、メモリセルアレイ118のウエル領域を700−1〜700−nで示されるように複数のウエル領域に分割し、それに対応して複数のウエルドライバ107−1〜107−nを設け、このウエルドライバ107−1〜107−nにより、上記複数のウエル領域700−1〜700−nに対して個別的に所定のウエル電圧(例えば0.3V程度)を供給可能に構成することができる。尚、読み止し時にリファレンスとなるメモリ素子を含むウエルが、読み出し対象メモリを含むウエルと分かれている場合は、リファレンスとなるメモリ素子を含むウエルも、同様にウエルの電圧を変える。
上記の構成によれば、以下の作用効果を得ることができる。
(1)メモリセルアレイ118のウエル領域を700−1〜700−nで示されるように複数のウエル領域に分割されているため、当該分割にかかる一つのウエル領域の面積を小さくすることができ、それにより、個々のウエルドライバ107−1〜107−nから見たウエル領域の寄生容量は、図1に示される構成の場合よりも小さくなるため、ウエルドライバ107−1〜107−nに必要とされる駆動能力は小さくて良いし、また、そこでの消費電力も小さくなる。
(2)ウエル領域に、0.3V程度の電圧を加えると、メモリセルの電荷蓄積層に、電界によって電荷が入ったり出たりして、ディスターブによる閾値電圧の変化が起こることが考えられる。それに対して、図7に示される構成によれば、メモリセルアレイ118のウエル領域を700−1〜700−nで示されるように複数のウエル領域に分割することによって、読み出し対象のメモリセルに対応するウエル領域以外のウエルの電圧を0Vに留めることによりディスターブによる閾値電圧の変化を少なくすることができるという利点がある。
<第3実施形態>
図8には、別の構成例が示される。
図8に示されるように、メモリセルアレイ118に対応するウエル領域と、センスアンプ110や各ドライバ106,109,117などの各種周辺回路のnチャネル型MOSトランジスタ800のウエル領域とを共通化し、読出し時に、この共通ウエル領域に所定の電圧(例えば0.3V程度の電圧)を加えるようにしても良い。
上記の構成によれば、メモリセルアレイ118に対応するウエル領域と、センスアンプ110や各ドライバ106,109,117などの各種周辺回路のnチャネル型MOSトランジスタ800のウエル領域とが共通化されることにより、メモリセルアレイ118のウエル領域と、周辺回路のnチャネル型MOSトランジスタ800のウエル領域とが独立している場合に不可欠なウエル分離領域が不要になり、その分だけレイアウト面積を小さくすることができる。また、周辺回路のnチャネル型MOSトランジスタ800のオン電流が、基板効果によって大きくなることから、周辺回路の動作を高速化することができる。
尚、ウエル領域をメモリセルアレイ118と共有化するのは、周辺回路の一部でもよい。図8に示される構成では、メモリセルアレイ118に対応するウエル領域と、センスアンプ110や各ドライバ106,109,117などの各種周辺回路のnチャネル型MOSトランジスタ800のウエル領域とが共通化されたが、メモリセルがpチャネル型MOSトランジスタによって構成される場合には、周辺回路のpチャネル型MOSトランジスタのウエル領域が共通化される。
<第4実施形態>
図9には、上記フラッシュメモリ202の別の構成例が示される。
図9に示されるフラッシュメモリ202が図1に示されるのと大きく相違するのは、ウエルドライバ107に代えて、負電圧電源901及び切換え回路902が設けられている点である。負電圧電源901は負電圧を生成する。この負電圧は、メモリセルのソース側拡散層とウエル領域間の電圧が、メモリセルのソース側拡散層とウエル領域間のPN接合ダイオードのビルトインポテンシャル以下となる電圧とされ、例えば−0.3Vとされる。切換え回路902は、コントローラ104の制御下で、上記負電圧電源901で生成された−0.3Vと、グランドレベル(0V)とを選択的にソースドライバ106に供給する。
図10(a),(b)には、読み出し時における主要部の電圧印加タイミングが示される。
上記の構成において、読出し対象メモリのソース側に−0.3V程度の電圧が与えられると、基板効果によりメモリセルの閾値電圧が下がり、且つ、ビット線とソースの間の電圧は、ソース電圧が0Vの場合と比較して大きくなるため、ソース電圧が0Vの場合よりも大きな電流が流れる。このため、図1に示される構成の場合と同様の作用効果を得ることができる。
尚、図9及び図10に示される例では、メモリセルがnチャネル型MOSトランジスタによって構成される場合を考えている。メモリセルがpチャネル型MOSトランジスによって構成される場合には、負電圧電源901に代えて正電圧電源を設け、対象メモリセルのソース側には、ウエル領域の電圧レベルから0.3V程度高い電圧を与えれば良い。
<第5実施形態>
消去ベリファイ時、あるいは書込みベリファイ時も、読み出し時と同じセンスアンプ110で、ベリファイ判定が行われる。このとき、読み出し時だけでなく、消去ベリファイ時や、書込みベリファイ時にも、ウエルドライバ107を介してメモリセルアレイ118のウエル領域に0.3V程度の電圧を加えるようにする。すなわち、図11(a),(b)に示されるように、消去ベリファイ時においてメモリセルアレイ118のウエル領域に0.3V程度の電圧を加えることにより、消去ベリファイにおける読み出し精度を高くすることができ、図12(a),(b)に示されるように、書込みベリファイ時においてメモリセルアレイ118のウエル領域に0.3V程度の電圧を加えることにより、書込みベリファイにおける読み出し精度を高くすることができる。
<第6実施形態>
消去ベリファイ時、あるいは書込みベリファイ時も、読み出し時と同じセンスアンプ110で、ベリファイ判定が行われる。このとき、読み出し時だけでなく、消去ベリファイ時や、書込みベリファイ時にも、上記切換え回路902を介して選択ソースに−0.3V程度の電圧を加えるようにする。すなわち、図13(a),(b)に示されるように、消去ベリファイ時に選択ソースに−0.3V程度の電圧を加えるようにすることにより、読み出し時と同じソース電圧条件で消去ベリファイを行うことができるので、消去ベリファイ時の読み出しの精度が高くなる。(a),(b)に示されるように、書込みベリファイ時に選択ソースに−0.3V程度の電圧を加えるようにすることにより、読み出し時と同じソース電圧条件で消去ベリファイを行うことができるので、書込みベリファイ時の読み出しの精度が高くなる。
<第7実施形態>
メモリゲート(MG)には、メモリゲートドライバ109を介して所定レベルのゲート電圧が供給される。メモリゲートドライバ109には、図15に示されるように、基準電圧を降圧する降圧回路151から電源が供給される。ここでメモリセルのIds−VMG(ドレイン・ソース間電流−メモリゲート電圧)特性は、周囲温度によって異なる。例えば図22に示されるように、周囲温度が低い場合の特性曲線は221で示されるようになり、周囲温度が高い場合の特性曲線は222で示されるようになる。ここでは、図22のA点よりも右側の領域で読み出し動作を行うものとする。周囲温度が比較的高い場合において十分な読出し電流を確保すると、低温の場合には、必要以上の読出し電流が流れてしまうから、そのような電流に耐えるように回路、配線の信頼性などに十分な余裕を確保しなければ、メモリの信頼性を損なう虞がある。そこで本例では、上記降圧回路の前段に温度補償回路161を設け、この温度補償回路161によって上記基準電圧の温度補償を行うようにしている。上記温度補償回路161には、特に制限されないが、図18に示される回路構成を適用することができる。すなわち、pチャネル型MOSトランジスタ181,182、nチャネル型MOSトランジスタ183,184,185を含んで成る。nチャネル型MOSトランジスタ183,184は差動結合され、pチャネル型MOSトランジスタ181,182は、カレントミラー型負荷とされる。nチャネル型MOSトランジスタ183のゲート幅W1と、nチャネル型MOSトランジスタ184のゲート幅W2とは異なる。nチャネル型MOSトランジスタ183のゲート電極に基準電圧が供給され、nチャネル型MOSトランジスタ184のドレイン電極から温度補償回路161の出力信号が得られる。上記温度補償回路161の温度補償により、図20に示されるように、温度Tの上昇に伴い、メモリゲート電圧VMGが上昇する特性が得られる。このため、周囲温度が高い場合には、メモリゲート電圧VMGが上昇され、十分な読み出し電流が得られる。また、周囲温度が低くなると、温度補償回路161により、メモリゲート電圧VMGが低下されることによって、必要以上の読出し電流が流れてしまうのが阻止される。従って、温度補償を行わない場合(図15参照)には、周囲温度が比較的高い場合において十分な読出し電流を確保すると、低温の場合には、必要以上の読出し電流が流れてしまうから、そのような電流に耐えるように回路、配線の信頼性などに十分な余裕を確保しなければ、メモリの信頼性を損なう虞があるのに対して、温度補償が行われる場合(図16参照)には、読出し電流の適正化が図られるため、必要以上の読出し電流に耐えるように回路、配線の信頼性などに十分な余裕を確保する必要はない。
図17に示されるように、昇圧回路162を介してメモリゲートドライバ109に電源を供給する場合にも、温度補償回路163を設けることができる。このとき、上記温度補償回路163は、図19に示されるように、温度補償部192と、この温度補償部192の出力信号と、昇圧回路162の出力電圧を抵抗R1,R2で分圧したものとを比較する比較回路191とを含んで構成することができる。上記温度補償部192は、図18に示される構成を採用することができる。
尚、図22のA点よりも左側の領域で読み出し動作を行う場合には、図21に示されるように、温度上昇に伴い、メモリゲート電圧VMGが低下するように制御する。
上記の構成によれば、温度の低下とともに、メモリを流れる電流が増加すると、低温側では、必要以上の読み出し電流が流れる。大きな読み出し電流が流れても、エレクトロマイグレーションに耐える信頼性を確保するためには、配線を太くしたりする必要があるのに対して、温度の低下と共に、メモリゲートに与える電圧を低くすることで、メモリに流れる電流の増加を、抑制することができるので、必要最小限の配線幅で、読み出し系を構成できる。配線幅が細いと、配線の上下にある別配線やウエル等との間にできる寄生容量が小さくなる。このため、ビット線の寄生容量も小さくなり、同一電流で放電した場合は、電圧の低下の速度が速くなる。それにより、センスアンプによる判定のタイミングを早くすることができ、読み出しの高速化になる。また、ビット線を1Vに充電する時間も早くなり、消費電力も減少する。同時に、配線ピッチを小さくすることができるので、レイアウト面積も小さくすることができる。
<第8実施形態>
リファレンスセルのメモリゲートが、読み出し対象メモリセル(通常メモリセル)と別個に形成される場合がある。かかる場合には、リファレンスセル及び読み出し対象メモリセルの双方において、図24に示される特性を考慮する必要がある。そこで、図23に示されるように、読み出し対象メモリ側の電源電圧を変更可能な可変電圧電源回路231、及び温度補償回路233とは別に、リファレンスセル側にも、リファレンスセル側のメモリゲートドライバの電源電圧を変更可能な可変電圧電源回路232、及び温度補償回路234を設け、読み出し対象メモリの読み出し電流、及びリファレンスセルの読出し電流の双方が、周囲温度によらず一定となるように、メモリゲートドライバ235,236の電源電圧を変更することによってメモリゲート電圧を制御する(図25参照)。
<第9実施形態>
読み出し時だけでなく、書込みベリファイ時、あるいは消去ベリファイ時においても、図26に示されるように周囲温度により読み出し電流が異なるため、図27に示されるように、書込みベリファイ時、あるいは消去ベリファイ時においても、メモリゲート電圧VMGの温度補償を行うようにすると良い。
尚、書込みベリファイの動作点が、図22のA点より左側に相当する場合は、図28のように、メモリゲートの電圧の温度依存性が逆になる場合もある。
<第10実施形態>
第1実施形態、第3実施形態では、図5に示されるように、読み出しが終わると、メモリセルアレイ118におけるウエル領域の電圧を0Vに戻していたが、図29(a),(b)に示されるように、メモリセルアレイ118におけるウエル領域の電圧を予め0.3V程度としておき、読み出しが終わっても0Vに戻さないようにしても良い。この場合、読み出しの度にウエル領域の電圧を上げ下げする必要が無いため、消費電力の低減や高速化に有効とされる。
<第11実施形態>
第5実施形態では、図11,12に示されるように、消去ベリファイ、あるいは書込みベリファイが終わると、メモリウエルの電圧を0Vに戻していたが、図30(a),(b)、及び図31(a),(b)に示されるように、メモリウエルの電圧を予め0.3V程度としておき、消去ベリファイ、あるいは書込みベリファイが終わっても0Vに戻さないようにしてもよい。消去ベリファイ時、あるいは書込みベリファイ時の度にウエル領域の電圧を上げ下げする必要が無いため、消費電力の低減や高速化にも有効である。
<第12実施形態>
図1に示されるメモリセルアレイ118における不揮発性メモリセルは、コントロールゲート(CG)とメモリゲート(MG)の隣接する2つのゲートを持つため、図32に示されるように、MGの上にCGがのり上げる構成や、図33に示されるようにCG上にMGがのり上げる構成、さらには図34に示されるようにCGとMGとが単に隣接しているだけでも、そこにはカップリング容量320が存在する。このカップリング容量320によるカップリングのために、片方のゲートが動作すると、もう片方のゲート電位も変動する。選択アドレスに従いCGを立ち上げると、CG−MG間のカップリングにより、MG電位が持ち上がる(MG電位にノイズがのる)。読出し動作は高速(例えば100MHz)で行われるため、MG電位にノイズが重畳された状態でメモリセルの情報を読み出すことになる。メモリセルの情報はメモリセルの電流を判定することで読み出される。
図35には、読出し動作時のメモリゲート電位(「MG電位」という)と、メモリセル電流の関係が示される。
メモリセル電流の多い図中(a)を消去状態(低閾値VthL)、メモリセル電流の少ない(b)を書込み状態(高閾値VthL)としている。MG電位にノイズが重畳された状態で読出し動作を行うと、メモリセルはベリファイされた電流値(図中351はVthL、352はVthH)よりも多い電流を流す(図中353はVthL、354はVthH)ため、MG電位にノイズが重畳された状態での読出し動作は、VthHの読出しに対して誤読出しをしてしまう可能性がある。そこで、MG電位にノイズが重畳されないような対策が必要とされる。
図36には、MG電位にノイズが重畳されないように対策されたメモリマットが示される。
MG電位にノイズが重畳されないように、一定電位に固定するために、nチャネル型MOSトランジスタmn_r0〜7を、それぞれ、メモリゲートMG0〜3に接続した。これらのMOSトランジスタは、読出し動作時にのみ動作し、MG電位のノイズを抑えるのに十分な能力を持つ大きさを持っている。図中のバッファbuf_w0〜3は書換え電圧出力用である。書換え動作はMG電位のノイズが収まった状態で動作する。したがって、これらのバッファbuf_w0〜3は、MG電位のノイズを抑える能力を持たなくてもよい。
図37には、読出し動作時のMG電位のノイズ波形が示される。入力された選択アドレスに従いコントロールゲートCGが立ち上がると、MG電位にノイズが重畳される(破線参照)。しかし、nチャネル型MOSトランジスタmn_r0〜7が導通されることによりMG電位のノイズが抑えられている(実線参照)。
読出し動作を高速で行うためには低閾値VthLと高閾値VthHのメモリセル電流差を多くとらなければならず、低閾値VthLのメモリセル電流を多くとる必要がある。しかし、低閾値VthLのメモリセル電流を多くとるために、消去レベルを深くすると、消去時間が長くなるので好ましくない。そこで、メモリの消去レベルを深くすることなく、高速読出しに必要な低閾値VthLのメモリセル電流を確保する必要がある。
メモリセルの消去レベルを深くすることなくメモリセル電流を多くとるためには、読出し動作時のMG電位を上げればよい。また、読出し動作中のメモリゲートは、読出し動作の高速性とモジュールの小面積化の観点から、読出しサイクル毎に駆動されるのではなく、常時一定の電位が出力されていることが望ましい。しかし、読出し動作中、常時MG電位を上げた状態はメモリセルへのストレスを増大させ、メモリセルの信頼性を損なう虞がある。
図38には、MG電位を読出しサイクル毎に上げ、メモリセルの消去レベルを深くすることなく、低閾値VthLのメモリセル電流を多くとれるようにしたメモリマット構成例が示される。
図38に示される構成が、図36に示されるのと大きく相違するのは、読出し動作時においてメモリゲートMGをオープン状態にするためのスイッチSW0〜3を設けた点である。このスイッチSW0〜3は、図1におけるコントローラ104によって動作制御される。スイッチSW0〜3の設置箇所は、バッファbuf_w0〜3の出力をメモリゲートMGから切り離すことができる場所ならば、どこでもよい。
図39には、図38に示される構成を採用した場合の読出し時のMG電位ノイズ波形と読出しタイミング波形が示される。
メモリセルが電流を流すタイミングの前にメモリゲートMGを読出しの電位に充電した後、メモリゲートMGをフローティングにする。ここで、SW0〜3の動作は、図39に示される、mgfixgと同じタイミングでON/OFF動作をするか、読出し動作中はOFF(メモリゲートへの充電はMOSトランジスタmn_r0〜7で行う)/書換え動作中はON、のいずれでもよい。この状態で、コントロールゲートCGを立ち上げ、メモリゲートMGにノイズを重畳する。メモリセルの情報を判定する時のMG電位のノイズ量を一定にするために、メモリの情報を判定するタイミング信号(例えば、センスアンプ起動信号)は、読出し動作周波数によらず、一定の時間で動作する。図39中では、例えば、クロック信号CLKの立ち上がりからセンスアンプ起動信号を生成している。図40には、クロック信号CLKからセンスアンプ起動信号を生成する回路例が示される。
センスアンプ起動信号は、読出し動作時に、クロック信号CLKの立ち上がりタイミングを遅延回路401により遅延させることで生成される。
図41には、この実施例におけるMG電位とメモリセル電流の関係が示される。読出し動作時のメモリセル電流は読出し動作時にMG電位にノイズが重畳されることを考慮したベリファイの電流値(図中411はVthL、412はVthH)となっている。
メモリセルの情報を判定する時にメモリゲートMGをフローティングにするため、MG電位はノイズが重畳された状態にある。このノイズ分により、消去状態のメモリ電流を多くとることができるため、十分な読出し電流を確保することによって、読出しの高速化を図ることができる。
<第13実施形態>
MG電位にノイズが重畳されるタイミングがメモリセルの場所によって異なる場合がある。例えば図42において、メモリセル群421(mm0,mm4,mm8,mm12)と、メモリセル群422(mm2,mm6,mm10,mm14)とでは、図43に示されるように、MG電位のノイズ波形が異なるものとする。かかる場合には、メモリセル情報を判定するタイミング信号、すなわち、センスアンプ起動タイミングをメモリセルの場所によって変えるようにすると良い。
図44には、クロック信号CLKからセンスアンプ起動信号を生成する回路の構成例が示される。
読出し動作時に、クロック信号CLKの立ち上がりタイミングをセンスアンプ起動信号生成用遅延回路441により遅延させ、メモリセル群421に対応するセンスアンプを起動するためのセンスアンプ起動信号、及びメモリセル群422に対応するセンスアンプを起動するためのセンスアンプ起動信号を生成する。遅延量はアドレスによって異なる。これにより、MG電位のノイズがメモリセルの場所によって異なる場合でも、センスアンプ起動信号のアサートタイミングを調整することにより、一定のノイズ量が得られるタイミングで、センスアンプへの信号取り込みを行うことができる。
以上本発明者によってなされた発明を具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
例えば図36においてnチャネル型MOSトランジスタmn_r0〜7を省略しても良い。また、図36や、図42に示される構成を採用する場合において、ソースやウエル領域への印加電圧の制御や、メモリゲート電圧の温度補償を行うようにしても良い。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明をその背景となった利用分野であるフラッシュメモリに適用した場合について説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、半導体記憶装置に広く適用することができる。
本発明にかかる半導体記憶装置の一例とされるフラッシュメモリの構成例ブロック図である。 上記フラッシュメモリを含むマイクロコンピュータの構成例ブロック図である。 上記フラッシュメモリに含まれるMONOS型不揮発性メモリセルの構成例説明図である。 不揮発性メモリセルの構造説明のための断面図である。 上記フラッシュメモリの読出し時における電圧印加の説明図である。 上記不揮発性メモリセルのメモリゲート電圧に対するドレイン・ソース間電流の特性図である。 上記フラッシュメモリにおける主要部の別の構成例ブロック図である。 上記フラッシュメモリにおける主要部の別の構成例ブロック図である。 上記フラッシュメモリの別の構成例ブロック図である。 上記フラッシュメモリの読出し時における電圧印加の別の説明図である。 上記フラッシュメモリの消去ベリファイ読出時における電圧印加の別の説明図である。 上記フラッシュメモリの書込みベリファイ読出時における電圧印加の別の説明図である。 上記フラッシュメモリの消去ベリファイ読出時における電圧印加の別の説明図である。 上記フラッシュメモリの書込みベリファイ時における電圧印加の別の説明図である。 上記フラッシュメモリにおける主要部の別の構成例ブロック図である。 上記フラッシュメモリにおける主要部の別の構成例ブロック図である。 上記フラッシュメモリにおける主要部の別の構成例ブロック図である。 上記フラッシュメモリにおける主要部の別の構成例回路図である。 上記フラッシュメモリにおける主要部の別の構成例ブロック図である。 上記フラッシュメモリに含まれる温度補償回路の温度補償を説明するための特性図である。 上記フラッシュメモリに含まれる温度補償回路の温度補償を説明するための別の特性図である。 上記フラッシュメモリに含まれる温度補償回路の温度補償を説明するための別の特性図である。 上記フラッシュメモリにおける主要部の別の構成例ブロック図である。 上記フラッシュメモリに含まれる温度補償回路の温度補償を説明するための別の特性図である。 上記フラッシュメモリに含まれる温度補償回路の温度補償を説明するための別の特性図である。 上記フラッシュメモリに含まれる温度補償回路の温度補償を説明するための別の特性図である。 上記フラッシュメモリに含まれる温度補償回路の温度補償を説明するための別の特性図である。 上記フラッシュメモリに含まれる温度補償回路の温度補償を説明するための別の特性図である。 上記フラッシュメモリの読み出し時における電圧印加の別の説明図である。 上記フラッシュメモリの消去ベリファイ時における電圧印加の別の説明図である。 上記フラッシュメモリの書込みベリファイ時における電圧印加の別の説明図である。 上記不揮発性メモリセルにおけるカップリング容量の説明図である。 上記不揮発性メモリセルにおけるカップリング容量の別の説明図である。 上記不揮発性メモリセルにおけるカップリング容量の別の説明図である。 上記不揮発性メモリセルにおける読出しメモリゲート電圧に対するメモリセル電流の特性図である。 上記フラッシュメモリにおける基本的なメモリマットの回路図である。 図36に示されるメモリマットにおける主要部の動作タイミング図である。 上記フラッシュメモリにおける主要部の別の構成例を説明するためのメモリマットの回路図である。 図38に示されるメモリマットにおける主要部の動作タイミング図である。 図38に示される構成においてセンスアンプ起動信号を生成する回路の説明図である。 図38に示される構成における読出しメモリゲート電圧に対するメモリセル電流の特性図である。 上記フラッシュメモリにおける基本的なメモリマットの別の回路図である。 図42に示されるメモリマットにおける主要部の動作タイミング図である。 図42に示される構成においてセンスアンプ起動信号を生成する回路の説明図である。
符号の説明
101 制御レジスタ
102 フラッシュメモリモジュール
103 電圧発生回路
104 コントローラ
118 メモリセルアレイ
201 CPU
202 フラッシュメモリ
161,163,233,234 温度補償回路
CG コントロールゲート
MG メモリゲート

Claims (5)

  1. 書込み、消去、及び読み出しの各動作において所定電圧が供給されるソース電極を含む不揮発性メモリセルがウエル領域に形成された半導体記憶装置であって、
    上記不揮発性メモリセルからデータ読み出しが行われるときに、上記ソース電極又は上記ウエル領域の電位を変更することによりメモリセルからの読出し電流を増大させるための制御回路を含むことを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 上記制御回路の制御に基づいて、上記ウエル領域に所定のウエル電圧を供給するためのウエルドライバを含む請求項1記載の半導体記憶装置。
  3. 上記制御回路の制御に基づいて、上記ソース電極への印加電圧を切り換えるための切換え回路を含む請求項1記載の半導体記憶装置。
  4. 書込み、消去、及び読み出しの各動作においてそれぞれ所定電圧が供給されるコントロールゲート電極及びメモリゲート電極を含む不揮発性メモリセルが形成された半導体記憶装置であって、
    上記不揮発性メモリセルからデータ読み出しが行われるときに、上記コントロールゲート電極と上記メモリゲート電極との間のカップリングによりメモリゲート電極の電位を上げることでメモリセルからの読出し電流を増大させるための制御回路を含むことを特徴とする半導体記憶装置。
  5. 上記メモリゲート電極に供給されるメモリゲート電圧を温度補償するための温度補償回路を含む請求項1又は4記載の半導体記憶装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013191885A (ja) * 2013-06-18 2013-09-26 Renesas Electronics Corp 不揮発性半導体記憶装置
CN112542197A (zh) * 2020-12-29 2021-03-23 深圳市芯天下技术有限公司 提高灵敏放大器读取可靠性方法、装置、存储介质和终端
US11486767B2 (en) 2020-08-26 2022-11-01 Kioxia Corporation Semiconductor storage device, method of controlling semiconductor storage device, and memory system

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002151602A (ja) * 2000-11-09 2002-05-24 Sharp Corp 半導体装置、書き込みおよび読み出し方法、およびそれを用いた集積回路
JP2004265508A (ja) * 2003-02-28 2004-09-24 Seiko Epson Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP2007026520A (ja) * 2005-07-14 2007-02-01 Toshiba Corp 半導体装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002151602A (ja) * 2000-11-09 2002-05-24 Sharp Corp 半導体装置、書き込みおよび読み出し方法、およびそれを用いた集積回路
JP2004265508A (ja) * 2003-02-28 2004-09-24 Seiko Epson Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP2007026520A (ja) * 2005-07-14 2007-02-01 Toshiba Corp 半導体装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013191885A (ja) * 2013-06-18 2013-09-26 Renesas Electronics Corp 不揮発性半導体記憶装置
US11486767B2 (en) 2020-08-26 2022-11-01 Kioxia Corporation Semiconductor storage device, method of controlling semiconductor storage device, and memory system
CN112542197A (zh) * 2020-12-29 2021-03-23 深圳市芯天下技术有限公司 提高灵敏放大器读取可靠性方法、装置、存储介质和终端

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