JP2008096676A - 偏光板からの高分子の回収方法、ならびに再生高分子フィルム及び偏光板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 偏光板から、保護フィルム用の高分子を有効に回収可能な方法を提供する。
【解決手段】 偏光子とその両面に第一及び第二の高分子フィルムとを有する偏光板を水系液に少なくとも接触させること、及びその後に偏光板にせん断力を作用させて、偏光子と第一の高分子フィルムとを少なくとも分離することを含む高分子の回収方法である。
【選択図】なし

Description

本発明は偏光板から高分子を回収する方法、ならびに回収された高分子を利用する、再生高分子フィルム及び偏光板の製造方法に関する。

液晶表示装置等の画像表示装置には偏光板が用いられている。偏光板としては、ヨウ素等の二色性色素で染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルム等の偏光子の片面又は両面に、透明保護フィルムとしてトリアセチルアセテート（ＴＡＣ）フィルムを貼合したものが多く用いられている。かかる偏光板は、通常、長尺状に作製された後、所定の大きさに切断されて液晶表示装置等に用いられるが、必要とされる面積や、必要とされる吸収軸の方向によっては、面積歩留まりが悪く、大量に産業廃棄物を発生させるという問題がある。そのため、これらの廃棄物等を再利用することが提案されている。
例えば、偏光板から保護フィルムの材料である高分子を回収する方法として、偏光板を水で処理することによりセルロースエステルを回収する方法（特許文献１）、及びＴＡＣフィルムを保護フィルムとして有する偏光板を溶剤で処理して、ＴＡＣの溶液を得、該溶液からフィルムを作製することを特徴とする再生ＴＡＣフィルムの製造方法（特許文献２）が提案されている。

一方、液晶ディスプレイに対する高品質化及び薄型化の要求に伴い、それに用いられる偏光板に対しても高性能化の要求があり、かかる高性能の偏光板を作製するため、偏光子の保護フィルムには、ＴＡＣフィルム等のセルロースエステル系フィルムとは物理的、化学的に異なる性質のフィルムが使用されるようになってきている。例えば、耐久性等が改善された偏光板として、透湿度がＴＡＣフィルムと比較してより小さいフィルムを保護フィルムの一方に用いた偏光板が提案されている。
このように、従来の偏光板は、偏光子の両面に同一の保護フィルムを有するものが一般的であったが、偏光子の両面が互いに異なる保護フィルムによって非対称に保護された偏光板が実用されるようになりつつあり、かかる構成の偏光板から互いに異なる保護フィルムをそれぞれ別々に回収し、再利用する方法が必要となってくる。しかし、これまでに提案されている上記回収方法により、前記非対称偏光板を処理すると、偏光子の各面が有する保護フィルムが、処理の過程で混合していまい、別々に回収することできないことが分かった。例えば、特許文献２に記載の方法を利用して、保護フィルムを所定の溶剤に溶解させる場合には、それぞれの保護フィルムの素材が混合してしまい、いずれの素材の回収においても不純物の混入が大きくなる。一方、特許文献１に記載の方法を利用して、水処理により偏光子からそれぞれの保護フィルムを剥がす場合にも、保護フィルムが混合してしまう等の問題が発生する。当然ながら素材を回収しリサイクルする場合は、できる限り不純物を少なくすることが望まれる。
特開２００１−１８１４４０号公報 特開２００３−１９５０４８号公報

本発明は、偏光子の両面の保護フィルムに、同一種の高分子フィルムが用いられている対称偏光板のみならず、互いに異なる高分子フィルムが用いられている非対称偏光板であっても、保護フィルムとして用いられている高分子フィルムから高分子を有効に回収可能な方法を提供することを課題とする。
また、本発明は前記製造方法によって回収された高分子を利用する、再生高分子フィルム及び偏光板の製造方法を提供することを課題とする。

上記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］ 偏光子とその両面に第一及び第二の高分子フィルムとを有する偏光板を水系液に少なくとも接触させること、及びその後に偏光板にせん断力を作用させて、偏光子と第一の高分子フィルムとを少なくとも分離することを含む高分子の回収方法。
［２］ 第一及び第二の高分子フィルムの透湿度が互いに異なる偏光板を用いる［１］の方法。
［３］ 偏光板の面積１ｃｍ²に対し、１Ｎ以上２００Ｎ以下のせん断力を作用させる［１］又は［２］の方法。
［４］ 水系液が、水である［１］〜［３］のいずれかの方法。
［５］ 水系液が、水と、少なくとも一つの水酸基を有し且つ炭素原子数１〜６の水と相溶性を有する化合物との混合液である［１］〜［３］のいずれかの方法。
［６］ 水系液に少なくとも接触させる前に、偏光板を無定型もしくは四角に粉砕又は断裁することをさらに含む［１］〜［５］のいずれかの方法。
［７］ 第一の高分子フィルムを偏光子と分離した後、水系液に接触させて偏光子と第二の高分子フィルムとを分離することをさらに含む［１］〜［６］のいずれかの方法。
［８］ ［１］〜［７］のいずれかの方法によって回収された高分子を、溶剤に溶解又は溶融すること、及び得られた溶液又は溶融物を用いて製膜することを含む再生高分子フィルムの製造方法。
［９］ ［１］〜［７］のいずれかの方法により回収された高分子を、溶剤に溶解又は溶融すること、得られた溶液又は溶融物を用いて製膜し、再生高分子フィルムを製造すること、該再生高分子フィルムを、偏光子の少なくとも片面に積層することを含む偏光板の製造方法。

本発明によれば、偏光子の両面の保護フィルムに、同一種の高分子フィルムが用いられている対称偏光板のみならず、互いに異なる高分子フィルムが用いられている非対称偏光板であっても、保護フィルムとして用いられている高分子フィルムから高分子を有効に回収可能な方法を提供することができる。
また、本発明によれば、前記製造方法によって回収された高分子フィルムを利用した、再生高分子フィルム及び偏光板の製造方法を提供することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
［高分子の回収］
本発明は、偏光子とその両面に第一及び第二の高分子フィルムとを有する偏光板から、それぞれの高分子フィルムを分離し、回収する方法に関する。
本発明の方法では、まず、処理対象である偏光板を、水系液に少なくとも接触させる。処理の迅速化の観点から、偏光板を粉砕又は断裁した後、水系液に接触させるのが好ましい。粉砕又は断裁された偏光板の形状については特に制限はないが、一般的には、無定型又は四角の小さなチップの状態にするのが好ましい。偏光板の粉砕又は断裁には、種々の装置を利用することができ、例えば、一軸粉砕機（株式会社クボタ製）、ＲＣ−１０００（槇野産業株式会社製）等が用いられる。

本発明で使用する水系液は、水のみからなっていてもよいが、水と有機化合物との混合液であってもよい。該有機化合物としては、少なくとも一つの水酸基を有し、且つ炭素原子数１〜６の水と相溶性を有する化合物が好ましい。該有機化合物の例には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、エチレングリコール、１，３−トリメチレングリコール、１，４−テトラメチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、トリメタノールエタン、トリメタノールプロパン、ペンタエリスリトール、シクロヘキサノール、グルコーズ、ペントーズ、キシリトーズ、キシリトールが含まれるが、これらに制限されない。前記水系液として混合液を用いる場合は、混合液中における上記有機化合物の含有率は、０．１〜９９．９質量％であるのが好ましく、１０〜９０質量％であるのがより好ましく、３０〜８０質量％であるのがさらに好ましい。但し、これらの化合物の水に対する溶解性によって、上記好ましい含有量の範囲が異なる場合がある。

偏光板を水系液に接触させる方法としては、水系液中に偏光板を浸漬する、噴霧状の水系液を偏光板に噴射する、水系液を偏光板に塗布する等種々の方法が利用できる。浸漬する場合は、処理を迅速に行うために、偏光板が浸漬された水系液を攪拌してもよい。また、処理は室温で行ってもよいが、所望により水系液の温度を制御してもよい。水系液の好ましい温度範囲は、用いる水系液の種類（混合液である場合は、所定の有機化合物の種類、その混合割合等）によって異なるが、一般的には、２０〜１００℃が好ましく、３５〜８０℃がより好ましい。また、水系液のｐＨは中性付近が好ましく、より好ましくは６．０〜８．０、さらに好ましくは７．０〜８．０である。なお、ｐＨの調整等のために、水系液はｐＨ緩衝用の塩等を含んでいてもよい。

偏光子はヨウ素や二色性色素で染色されているため、回収される高分子フィルムがそれによって着色するのを避けるため、水系液中に還元剤を含有させ、ヨウ素や二色性色素による着色を脱色してしまうのが好ましい。使用する還元剤は、脱色可能なものであれば制限ない。その例には、チオ硫酸ナトリウム、アスコルビン酸、塩化第１鉄等が含まれる。還元剤の使用量は、水系液１ｋｇ中０．１〜１００ｇが好ましく、１〜２０ｇがより好ましく、４〜１０ｇがさらに好ましい。

また、後述するせん断力の作用によって、第一の高分子フィルムが偏光子から分離しやすくなるように、水系液は偏光子の少なくとも一部を溶解可能であるのが好ましい。偏光子は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系ポリマーがホウ酸のような架橋剤で架橋されたポリマーフィルム、又は鹸化度の高いＰＶＡからなるポリマーフィルムからなるのが一般的であり、これらは水系液に溶解し難い場合がある。そのような場合は、水系液中に、ポリビニルアルコール系ポリマーを分解する能力のあるポリビニルアルコール分解酵素を添加してもよい。また、水系液処理で剥離したポリビニルアルコール膜は水系液に溶解したり、膨潤した状態となり、そのまま排出すると河川を汚すおそれもあり、廃液処理にもポリビニルアルコール系ポリマーを分解し得る酵素を使用することが好ましい。ポリビニルアルコールの分解酵素としては、土肥義治代表編集「生分解性プラスティックハンドブック」生分解研究会編（（株）エヌ・ティー・エス発行）第７節 ポリビニルアルコール分解酵素（４６６〜４７６頁）に記載されている分解酵素を使用することができる。分解酵素によるポリビニルアルコールの分解に適した条件は、分解酵素によって異なるが、温度としては３０〜６５℃、ｐＨは６．５〜９．０である。分解されるポリビニルアルコールとしては、高重合度から低重合度のものまで、また完全鹸化のものから鹸化度の低いものまで、広範囲のポリビニルアルコールを容易に分解することができる。

偏光板を水系液で処理する際に、高分子フィルムと偏光子との界面に水系液を迅速に浸透させることを目的として、水系液中に界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性、両性及びノニオン性のいずれでもよい。アニオン性界面活性剤としては、例えばアルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エステル類、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキルタウリン類、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル類などを挙げることができ、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、燐酸エステル基等を有する化合物が好ましい。カチオン性界面活性剤としては、例えばアルキルアミン塩類、脂肪族あるいは芳香族第４級アンモニウム塩類、ピリジニウム、イミダゾリウムなどの複素環第４アンモニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスルホニウム塩類等が好ましい。両性界面活性剤としては、例えばアミノ酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシド類等が好ましい。ノニオン性界面活性剤としては、例えばサポニン（ステロイド系）、アルキレンオキサイド誘導体（例えばポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール／ポリプロピレングリコール縮合物、ポリエチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサイド付加物類）、グリシドール誘導体（例えばアルケニルコハク酸ポリセリド、アルキルフェノールポリグリセリド）、多価アルコール脂肪酸エステル類等のアルキルエステル類等が好ましい。

偏光板を水系液で処理する際に、偏光子からの高分子フィルムの分離を促進することを目的として、超音波処理を与えてもよい。超音波処理は、水系液中に偏光板を浸漬した状態で施すことができる。超音波の周波数及び出力は、容器の大きさ、あるいは処理量によって好ましい範囲も異なるが、一般的には２０〜５０Ｈｚの周波数で、出力は３０〜９００Ｗ程度であるのが好ましい。

次に、水系液で処理された偏光板にせん断力を作用させる。せん断力は、偏光板を水系液で処理した後、保護フィルムである第一及び第二の高分子フィルムが偏光子と自然剥離する前に作用させるのが好ましい。せん断力を作用させることにより、第一及び第二の高分子フィルムのうちいずれか一方（ここでは「第一の高分子フィルム」）と偏光子とが分離する。作用させるせん断力は、偏光子と第一の高分子フィルムとを分離可能であり、且つ偏光板を破壊しない程度の範囲であるのが好ましい。具体的には、偏光板の面積１ｃｍ²に対し１Ｎ〜２００Ｎであるのが好ましく、５〜１００Ｎであるのがより好ましく、１０〜８０Ｎであるのがさらに好ましい。なお、本発明では、「せん断力」とは、上下の偏光板保護膜である高分子フィルムに、フィルム面内に平行な方向であって、互いに逆のベクトル方向の力がかかっている状態での力を意味する。本発明では、せん断力を作用させる方法については特に制限はないが、例えば、周速の異なる二本のローラ間に処理対象の偏光板をはさみ搬送する、処理対象の偏光板の片側の保護フィルムである第一の高分子フィルムの端面を狭持し、横方向又は上方向に巻き取るように引くこと、等種々の方法によってせん断力を作用させることができる。

第一の高分子フィルムが除去された処理物を、さらに水系液に少なくとも接触させて、第二の高分子フィルムを偏光子と分離してもよい。この場合に使用する水系液は、上記の水系液と同一種であっても異種（例えば、混合液の場合は、混合した所定の有機化合物が異なる、その混合割合が異なる、又は異なる添加剤を含む）であってもよい。また、上記と同様、水系液を接触させる方法については特に制限されず、種々の方法を利用でき、及び処理時に水系液の温度を制御してもよい。第二の高分子フィルムを偏光子から分離する際に用いる水系液中には、上記した通り、脱色のための還元剤、界面活性剤、及びＰＶＡ分解酵素を添加するのが好ましく、さらに、分離を促進するため、水系液中に処理物を浸漬し、超音波処理を施すのが好ましい。

偏光子から分離された第一及び第二の高分子フィルムは、それぞれ回収される。回収された高分子フィルムは、所望により水系液等でさらに洗浄された後、そのまま再利用に供してもよいし、また有機溶媒等に溶解し、所望により精製処理を経た後、高分子材料として種々の用途に用いることができる。表面に、粘着剤層、ハードコート層や防眩層等が形成されている偏光板を処理すると、分離された高分子フィルムの表面に前記ハードコート層等が分離されないまま残っている場合がある。かかる場合は、任意の溶剤に溶解して、粘着剤、ハードコート層や防眩層などを分離して、高分子フィルム又は高分子として再利用することができる。諸条件については、上記特許文献２の記載を参考にすることができる。

［再生高分子フィルムの作製］
回収された高分子を利用して、再生高分子フィルムを作製してもよい。再生高分子フィルムは、前記回収された高分子フィルムを、任意の溶剤中に溶解又は溶融し、得られた溶液又は溶融物を用いて製膜することにより作製することができる。溶液を用いる製膜法としては、ソルベントキャスト法、塗布法等などがある。また溶融物を用いる製膜法には、溶融押出し法等がある。前記溶液等は、所望によりろ過等の精製処理を施された後、再生高分子フィルムの作製に用いてもよい。上記種々の製膜法の条件については特に制限はなく、一般的な条件により製膜を実施することができる。

第一及び第二の高分子フィルムは同一であっても、異なっていてもよいが、本発明の方法は、第一及び第二の高分子フィルムが、少なくとも透湿度が互いに異なる異種の高分子フィルムである偏光板を対象とする場合に特に有効である。勿論、第一及び第二の高分子フィルムが同一種の高分子フィルム（例えばＴＡＣフィルム）からなる偏光板を対象とする場合も、従来の方法と比較して、高分子フィルムの回収をより迅速に行うことができるので有効である。

第一及び第二の高分子フィルムの透湿度の差が４００ｇ／ｍ²以上であると、分離が容易となるので好ましく、６００ｇ／ｍ²以上であるのがより好ましく、１０００ｇ／ｍ²以上であるのがさらに好ましい。
なお、高分子フィルムの透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４ 共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができる。具体的には、フィルム試料７０ｍｍφを、６０℃・９５％ＲＨで２４時間調湿し、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で単位面積あたりの水分量（ｇ／ｍ²）により算出した値を用いることができる。

せん断力の作用により偏光子から分離する第一の高分子フィルム、及びその後に、水系液で処理することにより偏光子から分離する第二の高分子フィルムのうち、相対的に透湿度が高い高分子フィルムは、いずれであってもよい。相対的に透湿度が高い高分子フィルムの透湿度は、１０００〜２０００ｇ／ｍ²であるのが好ましく、相対的に透湿度が低い高分子フィルムの透湿度は１０〜１０００ｇ／ｍ²であるのが好ましいが、この範囲に限定されるものではない。

以下、第一及び第二の高分子フィルムとして使用可能な高分子フィルムの例について説明する。
セルロースアシレートフィルム：
セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他，「木材化学」，共立出版，１９６８年，１８０〜１９０頁に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位及び６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸及び触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロース及び系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。アシル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解及びエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウム又は亜鉛の炭酸塩、酢酸塩又は酸化物）の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度及び重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水又は希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水又は希硫酸を投入）してセルロースアシレートを凝集沈殿して分離し、洗浄及び安定化処理によりセルロースアシレートを得る。

セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、特に限定されるものではない。
前記セルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００が好ましく、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０がよりさらに好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルムを作製する場合には不都合が生じる場合がある。また、重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう場合がある。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
また、前記セルロースアシレートの分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価されたその多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることがよりさらに好ましい。

セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。

セルロースアシレートフィルム（再生セルロースアシレートフィルムを含む意味で用いる）としては、ソルベントキャスト法により作製されたものが好ましい。ソルベントキャスト法に用いるセルロースアシレート溶液は、有機溶媒にセルロースアシレートが１０〜３０質量％溶解していることが好ましいが、より好ましくは１３〜２７質量％であり、さらに好ましくは１５〜２５質量％である。これらの濃度にセルロースアシレートを調製する方法は、溶解する段階で所定の濃度になるようにしてもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として調製した後に、濃縮工程により所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度のセルロースアシレート溶液とした後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度のセルロースアシレート溶液としてもよい。

調製されたセルロースアシレート溶液を、スチールベルトやドラム、又は基材フィルム（一般的にはポリエステルの二軸配向フィルム）面上等に、流延製膜し、半乾きの状態で剥離する。次いでピンテンター乾燥機、ロール懸垂型乾燥機等により乾燥して、セルロースアシレートフィルムが得られる。所望により、延伸処理されたフィルムを用いてもよい。具体的には、乾燥されたフィルムを、２対の周速の異なるロール間で延伸する、空気浮遊式（エアーフローティング）乾燥機中で熱と張力をかけて延伸する、等により延伸処理を施した後、保護フィルムとして用いてもよい。その他、製膜条件、及び延伸条件については従来公知の方法を参考にすることができる。

ポリカーボネートフィルム：
一般に、ポリカーボネートとは、その合成手法において重縮合反応が用いられて主鎖が炭酸結合で結ばれているものを総称する用語であるが、ビスフェノール誘導体と、ホスゲンあるいはジフェニルカーボネートから重縮合反応により得られるものを意味する用語として用いられる場合もある。通常、ポリカーボネート系フィルムには、経済性及び物性面からビスフェノールＡと呼称されている２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンをビスフェノール成分とする繰り返し単位で表される芳香族ポリカーボネートが好ましく使用されるが、適宜各種ビスフェノール誘導体を選択することで、ポリカーボネート共重合体を構成することができる。

かかる共重合成分として、ビスフェノールＡ以外に、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）サルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン等を挙げることができる。さらに、これらのフェニル基の水素基が一部メチル基やハロゲン基で置換されているものも含む。

また、一部にテレフタル酸及び／又はイソフタル酸成分を含むポリエステルカーボネートを使用することも可能である。このような構成単位をビスフェノールＡからなるポリカーボネートの構成成分の一部に使用することによりポリカーボネートの性質、例えば、耐熱性又は溶解性を改良することができる。

前記ポリカーボネート系樹脂の分子量は、一般に、濃度０．７ｇ／ｄＬの塩化メチレン溶液中２０℃での粘度測定から求めた粘度平均分子量が、１０，０００以上２００，０００以下であるのが好ましく、２０，０００以上１２０，０００以下であるのがより好ましい。粘度平均分子量が１０，０００より低い樹脂を使用すると得られるフィルムの機械的強度が不足する場合があり、また２００，０００以上の高分子量になるとドープ粘度が高くなりすぎて取扱い上問題を生じる場合がある。

ポリカーボネート系フィルム（再生ポリカーボネート系フィルムを含む意味で用いる）としては、ソルベントキャスト法により作製されたフィルムが好ましい。ソルベントキャスト法に用いるポリカーボネート溶液の調製には、メチレンクロライドを主体とする溶媒と１，３−ジオキソランを主体とする溶媒とキシレンとからなる混合溶媒を用いるのが好ましい。キシレンはｐ−キシレン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレンを別個に用いてもよく混合して用いてもよい。ポリカーボネートを上記混合溶媒に溶解させて、ポリカーボネート溶液を調製する、キシレンの混合率は溶液に対して０．１〜２．０重量％とするのが好ましく、より好ましくは１．０〜１．３％である。キシレンの溶液に対する混合率が２．０重量％を越える場合には溶液が白化するので好ましくない。また、０．１重量％以下の場合は、流延製膜後のフィルムを一軸延伸する際に光学特性を均一化する効果がなくなるので好ましくない。ポリカーボネートの溶液を調製する具体的方法の例としては、例えば、２０％の溶液調製する場合、メチレンクロライド中にポリカーボネートを溶解するが、予めメチレンクロライドと少量のキシレンとを混合しておき、そこにポリカーボネートを投入して室温で攪拌溶解してもよい。この際溶液中に添加されるキシレンの量が溶液基準で０．１〜２．０質量％となるようにする。

得られたポリカーボネート溶液を用いて、ポリカーボネートフィルムを製膜する方法については、上記したセルロースアシレート溶液を用いたセルロースアシレートフィルムの製膜方法と同様である。

ポリエステルフィルム：
ポリエステルフィルムの作製に用いられるポリエステル樹脂については、特に構造的な限定はない。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート等を挙げることができる。中でも、コストや機械的強度の観点から、ポリエチレンテレフタレートを用いることが特に好ましい。その中で特に望ましいものは、芳香族系ジカルボン酸と、脂肪族系グリコールを用い縮重合させて得られる樹脂である。

芳香族ジカルボン酸としてはテレフタル酸のほか、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などがあり、またこれらの低級アルキルエステル（無水物、低級アルキルエステル等のエステル形成可能な誘導体）を使用することができる。
脂肪族系グリコールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ｐ−キシリレングリコールなどがある。
中でも、テレフタル酸とエチレングリコールとの反応により得られたポリエチレンテレフタレートを主成分とすることが好ましい。
主成分がポリエチレンテレフタレートであるとは、ポリエチレンテレフタレートの繰返し単位が８０モル％以上の共重合体、あるいはブレンドされている場合は、ポリエチレンテレフタレートを８０質量％以上含有していることをいう。

ポリエステル中にスルホン酸基を含有させるために用いられるスルホン酸及びその塩から選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸としては、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、２−ナトリウムスルホイソフタル酸、４−ナトリウムスルホイソフタル酸、４−ナトリウムスルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導体、及びこれらのナトリウムを他の金属（例えばカリウム、リチウムなど）で置換した化合物が用いられる。
また、グリコール中にスルホン酸及びその塩から選ばれる基を導入したものを用いてもよいが、ポリエステル中にスルホン酸基を含有させるために化合物として好ましいのは、前記スルホン酸基又はその塩を有する芳香族ジカルボン酸を用いることである。

これらのスルホン酸基又はその塩を有する芳香族ジカルボン酸成分が製造時に用いられる全芳香族ジカルボン酸の１０モル％を越えると延伸性が劣ったり、機械的強度が劣ったものとなる場合があり、また１モル％未満では、十分な乾燥性が得られない場合がある。

ポリエステルフィルムの作製に用いられるポリエステルには、さらに他の成分が共重合されていてもよいし、他のポリマーがブレンドされていてもよい。
上記以外の他の芳香族ジカルボン酸又はその誘導体として、２，７−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸及びその低級アルキルエステル（無水物、低級アルキルエステル等のエステル形成可能な誘導体）を用いることができる。また製造の際、シクロプロパンジカルボン酸、シクロブタンジカルボン酸及びヘキサヒドロテレフタル酸などの脂環式ジカルボン酸及びその誘導体（無水物、低級アルキルエステル等のエステル形成可能な誘導体）、アジピン酸、コハク酸、シュウ酸、アゼライン酸、セバシン酸及びダイマー酸などの脂肪族ジカルボン酸及びその誘導体（無水物、低級アルキルエステルなどのエステル形成可能な誘導体）を全ジカルボン酸の１０モル％以下の量で使用してもよい。

グリコールとしてはエチレングリコール及び前記のグリコールの他、トリメチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールＡ、ｐ，ｐ’−ジヒドロキシフェニルスルフォン、１，４−ビス（β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ポリアルキレン（例、エチレン、プロピレン）グリコール、及びｐ−フェニレンビス（ジメチロールシクロヘキサン）などを挙げることができ、これらは用いられるグリコールの１０モル％以下の量で使用してもよい。

ポリエステルフィルムの作製に用いられるポリエステルは、例えば安息香酸、ベンゾイル安息香酸、ベンジルオキシ安息香酸、メトキシポリアルキレングリコールなどの１官能性化合物によって末端の水酸基及び／又はカルボキシル基を封鎖したものであってもよく、あるいは、例えば極く少量のグリセリン、ペンタエリスリトールの如き３官能、４官能エステル形成化合物で実質的に線状の共重合体が得られる範囲内で変性されたものでもよい。
また、本発明に使用可能なポリエステルフィルムは、ビスフェノール系化合物、ナフタレン環又はシクロヘキサン環を有する化合物が共重合されたポリエステルを用いて作製されたフィルムであってもよく、かかるフィルムは耐熱性が改善されている。

ポリエステルフィルム（再生ポリエステルフィルムを含む意味で用いる）は、溶融押出しにより製膜されたフィルムであるのが好ましく、溶融押出しにより得られた未延伸フィルムを二軸延伸処理して作製されたフィルムであるのが好ましい。以下、溶融製膜及び二軸延伸処理を利用したポリエステルフィルムの作製方法について説明するが、以下の方法に限定されるものではない。なお、以下の記載において、縦方向とは、フィルムの製膜方向（長手方向）を、横方向とはフィルムの製膜方向と直角方向のことをいう。
先ず、原料のポリエステルをペレット状に成型し、熱風乾燥又は真空乾燥した後、溶融押出し、Ｔダイよりシート状に押出し、静電印加法等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させて、未延伸シートを得る。次いで、得られた未延伸シートを複数のロール群及び／又は赤外線ヒーター等の加熱装置を介してポリエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）〜Ｔｇ＋１００℃の範囲内に加熱し、一段又は多段縦延伸する。次に、上記のようにして得られた縦方向に延伸されたポリエステルフィルムを、Ｔｇ〜Ｔｍ（融点）の温度範囲内で、横延伸し次いで熱固定する。熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ以上の温度範囲内で、横方向及び／又は縦方向に０．１〜１０％弛緩処理することが好ましい。冷却、弛緩処理する手段は特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の温度領域で順次冷却しながら、これらの処理を行うことが、フィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。

このようにして、二軸延伸されたポリエステルフィルムが得られる。二軸延伸されたポリエステルフィルムは、十分に分子配向が制御されているため非常に優れた機械強度を有する。なお、延伸倍率は特に制限されるものではないが、一方向に対する延伸倍率が１．５〜７倍であることが好ましく、より好ましくは２〜５倍程度である。特に、一軸方向あたりの延伸倍率を２〜５倍程度として二軸延伸させたフィルムは、分子配向がより効果的かつ効果的に制御されているので、非常に優れた機械強度を備え好適である。ただし、延伸倍率が１．５倍よりも小さいと充分な機械的強度が得られなくなる。一方で、延伸倍率が７倍を超えると均一な厚みを得ることが難しくなり問題である。
これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件のより最適な条件は、フィルムを構成するポリエステルにより異なるので、得られた延伸フィルムの物性を測定し、好ましい特性を有するように適宜調整して決定すればよい。

環状ポリオレフィン系フィルム：
本明細書において、「環状ポリオレフィン系樹脂」とは、環状ポリオレフィン構造を有する重合体樹脂を意味する。なお、本明細書において、環状ポリオレフィン系樹脂を環状ポリオレフィンと表記する場合がある。
フィルムの作製に用いる環状オレフィン構造を有する重合体樹脂の例には、（１）ノルボルネン系重合体、（２）単環の環状オレフィンの重合体、（３）環状共役ジエンの重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及び（１）〜（４）の水素化物などがある。中でも、下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を少なくとも１種以上含む付加（共）重合体環状ポリオレフィン、及び必要に応じ、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位の少なくとも１種以上を更に含んでなる付加（共）重合体環状ポリオレフィンが好ましい。また、一般式（ＩＩＩ）で表される環状繰り返し単位を少なくとも１種含む開環（共）重合体も好適に使用することができる。

式中、ｍは０〜４の整数を表す。Ｒ¹〜Ｒ⁶は各々水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基；Ｘ¹〜Ｘ³及びＹ¹〜Ｙ³は各々水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、−（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲ¹¹、−（ＣＨ₂）_nＯＣＯＲ¹²、−（ＣＨ₂）_nＮＣＯ、−（ＣＨ₂）_nＮＯ₂、−（ＣＨ₂）_nＣＮ、−（ＣＨ₂）_nＣＯＮＲ¹³Ｒ¹⁴、−（ＣＨ₂）_nＮＲ¹³Ｒ¹⁴、−（ＣＨ₂）_nＯＺ、−（ＣＨ₂）_nＷ、又はＸ¹とＹ¹あるいはＸ²とＹ²あるいはＸ³とＹ³から構成された（−ＣＯ）₂Ｏ、（−ＣＯ）₂ＮＲ¹⁵を示す。なお、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、及びＲ¹⁵は各々、水素原子、又は炭素数１〜２０の炭化水素基；Ｚは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基；ＷはＳｉＲ¹⁶ _pＤ_3-p（Ｒ¹⁶は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｄはハロゲン原子−ＯＣＯＲ¹⁶又は−ＯＲ¹⁶、ｐは０〜３の整数を示す）；及びｎは０〜１０の整数を示す。

Ｘ¹〜Ｘ³、Ｙ¹〜Ｙ³の置換基に分極性の大きい官能基を導入することにより、光学フィルムの厚さ方向レターデーション（Ｒｔｈ）を大きくし、面内レターデーション（Ｒｅ）の発現性を大きくすることができる。Ｒｅ発現性の大きなフィルムは、製膜過程で延伸することによりＲｅ値を大きくすることができる。
ノルボルネン系付加（共）重合体は、特開平１０−７７３２号公報、特表２００２−５０４１８４号公報、ＵＳ２００４２２９１５７Ａ１号あるいはＷＯ２００４／０７０４６３Ａ１号公報等に開示されている。ノルボルネン系多環状不飽和化合物同士を付加重合することによって得られる。また、必要に応じ、ノルボルネン系多環状不飽和化合物と、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、イソプレンのような共役ジエン；エチリデンノルボルネンのような非共役ジエン；アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、無水マレイン酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイミド、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの線状ジエン化合物とを付加重合することもできる。このノルボルネン系付加（共）重合体は、三井化学（株）よりアペルの商品名で発売されており、ガラス転移温度（Ｔｇ）の異なる、例えばＡＰＬ８００８Ｔ（Ｔｇ７０℃）、ＡＰＬ６０１３Ｔ（Ｔｇ１２５℃）あるいはＡＰＬ６０１５Ｔ（Ｔｇ１４５℃）などのグレードがある。ポリプラスチック（株）よりＴＯＰＡＳ８００７、同６０１３、同６０１５などのペレットが発売されている。更に、Ｆｅｒｒａｎｉａ社よりＡｐｐｅａｒ３０００が発売されている。

ノルボルネン系重合体水素化物は、特開平１−２４０５１７号公報、特開平７−１９６７３６号公報、特開昭６０−２６０２４号公報、特開昭６２−１９８０１号公報、特開２００３‐１１５９７６７号公報あるいは特開２００４‐３０９９７９号公報等に開示されているように、多環状不飽和化合物を付加重合あるいはメタセシス開環重合した後、水素添加することにより製造することができる。前記ノルボルネン系重合体の中でも、Ｒ⁵〜Ｒ⁶が水素原子又は−ＣＨ₃が好ましく、Ｘ³、及びＹ³は水素原子、Ｃｌ、又は−ＣＯＯＣＨ₃が好ましく、その他の基は適宜選択される。このノルボルネン系樹脂は、ＪＳＲ（株）からアートン（Ａｒｔｏｎ）ＧあるいはアートンＦという商品名で発売されており、また日本ゼオン（株）からゼオノア（Ｚｅｏｎｏｒ）ＺＦ１４、ＺＦ１６、ゼオネックス（Ｚｅｏｎｅｘ）２５０あるいはゼオネックス２８０という商品名で市販されており、これらを使用することができる。

環状ポリオレフィン系フィルム（再生環状ポリオレフィン系フィルムを含む意味で用いる）は、溶液製膜法又は溶融製膜法により製膜するのが好ましい。

前記第一又は第二の高分子フィルムは、上記のポリマーフィルムの例に限定されず、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、などに優れる高分子からなる種々のフィルムから選択して用いることができる。例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどからなるフィルムがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーのブレンド物などからなるフィルムも用いることができる。前記第一又は第二の高分子フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、紫外線硬化型の樹脂の硬化層として形成されたものであってもよい。

［偏光板の作製］
作製した再生高分子フィルムは、種々の用途に供することができる。再生した第一及び第二の高分子フィルムを、偏光子の表面にそれぞれ貼り合わせて、偏光板を作製してもよい。
用いる偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用できる。偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等があげられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が好適である。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、５〜８０μｍ程度である。

ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいてもよいヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬してもよい。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行ってもよいし、染色しながら延伸してもよいし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。

前記偏光子と再生高分子フィルムとの接着処理は、特に限定されるものではないが、例えば、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリエステル等が用いられる。前記ポリビニルアルコール系接着剤等にはホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミン、シュウ酸などの水溶性架橋剤などを含有していてもよい。かかる接着層は、水溶液の塗布乾燥層などとして形成し得るが、その水溶液の調製に際しては、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒も配合することができる。
接着剤はアセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂でもよい。
ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニルをケン化して得られたポリビニルアルコール；その誘導体；更に酢酸ビニルと共重合性を有する単量体との共重合体のケン化物；ポリビニルアルコールをアセタール化、ウレタン化、エーテル化、グラフト化、リン酸エステル化等した変性ポリビニルアルコールがあげられる。前記単量体としては、（無水）マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、イタコン酸、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸及びそのエステル類；エチレン、プロピレン等のα−オレフィン、（メタ）アリルスルホン酸（ソーダ）、スルホン酸ソーダ（モノアルキルマレート）、ジスルホン酸ソーダアルキルマレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、アクリルアミドアルキルスルホン酸アルカリ塩、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン誘導体等があげられる。これらポリビニルアルコール系樹脂は一種を単独で又は二種以上を併用することができる。
前記ポリビニルアルコール系樹脂は特に限定されないが、接着性の点からは、平均重合度１００〜３０００程度、好ましくは５００〜３０００、平均ケン化度８５〜１００モル％程度、好ましくは９０〜１００モル％である。

再生高分子フィルムと偏光子との密着を向上させるため、再生高分子フィルムの表面に、ケン化処理、コロナ放電処理、グロー放電処理等の表面処理を施してもよい。

偏光子と再生高分子フィルム（特にセルロースアシレートフィルム以外の再生高分子フィルム）に関しては、さらに密着性を向上させるために偏光子と再生高分子との間に易接着層（第一の下塗層）を形成することが好ましい。該易接着層は、アクリル酸エステル系ラテックス、メタクリル酸系ラテックス、又はスチレン系ラテックスから形成することが好ましい。これらのラテックスは、（ａ）ジオレフィン系単量体、（ｂ）ビニル単量体、（ｃ）１種以上の分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル又はアリル基を有する単量体からなる単量体混合物を、（ｄ）α−メチルスチレンダイマーと他の重合連鎖移動剤とからなる重合連鎖移動剤の存在下において、水性媒体中で乳化重合して得られる共重合体ラテックスであってもよい。

前記（ａ）ジオレフィン単量体の例には、共役ジエンであるブタジエン、イソプレン、クロロプレン、が含まれる。中でも、ブタジエンが好ましく用いられる。前記（ｂ）ビニル単量体としては、ビニル基を有する単量体なら何でもよいが、好ましい例には、スチレン、アクリロニトリル、メタクリル酸メチル、塩化ビニル、酢酸ビニル及びこれらの誘導体、アクリル酸のアルキルエステル、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクロレイン、メタアクロレイン、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、Ｎ−メチロール化アクリルアミド、Ｎ−メチロール化メタクリルアミド、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネートが含まれる。上記スチレンの誘導体としては、例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル等を挙げることができる。また、アクリル酸のエステルの中で好ましいものとしては、アクリル酸エステル、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを挙げることができる。

前記（ｃ）分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基を有する単量体としては、ジビニルベンゼン、１，５−ヘキサジエン−３−イン、ヘキサトリエン、ジビニルエーテル、ジビニルスルホン、ジアリルフタレート、ジアリルカルビノール、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート等の通常ビニル単量体の重合の際に添加されるいわゆる架橋剤を挙げることができる。

前記共重合体中の（ａ）ジオレフィン単量体の含有量が共重合体全体の１０〜６０質量％、特に１５〜４０質量％であることが好ましい。（ｂ）ビニル単量体としては全体の９０〜４０質量％であるが、特に、上記ビニル単量体、とりわけスチレン類が共重合全体の７０〜４０質量％であることが好ましい。（ｃ）分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基を有する単量体は、（ａ）ジオレフィン単量体と（ｂ）ビニル単量体との合計に対して０．０１〜１０質量％、特に０．１〜５質量％であることが好ましい。

前記（ｄ）重合連鎖移動剤中のα−メチルスチレンダイマーとしては、異性体として、（イ）２−４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン、（ロ）２−４−ジフェニル−４−メチル−２−ペンテン、（ハ）１−１−３−トリメチル−３−フェニルインダンがある。α−メチルスチレンダイマーとして好ましい組成は、（イ）成分が４０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が６０質量％以下、さらに好ましくは（イ）成分が５０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が５０質量％以下、特に好ましくは（イ）成分が７０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が３０質量％以下である。（イ）成分の組成比率が増加するに従って連鎖移動効果に優れる。α−メチルスチレンダイマーは、本発明の目的を損なわない範囲で、不純物、例えば、未反応のα−メチルスチレン、前記（イ）、（ロ）、（ハ）成分以外のα−メチルスチレンオリゴマー、α−メチルスチレンポリマーを含むものであってもよい。α−メチルスチレンダイマーを使用する場合、その目的を損なわないものであれば、α−メチルスチレンダイマーを合成後、これを未精製の状態で使用することができる。

前記（ｄ）重合連鎖移動剤中のα−メチルスチレンダイマーの割合は２〜１００質量％、好ましくは３〜１００質量％、さらに好ましくは５〜９５質量％である。このα−メチルスチレンダイマーの割合が２質量％未満では接着強度と耐ブロッキング性に優れた共重合体ラテックスを得ることができない。また、α−メチルスチレンダイマーと他の重合連鎖移動剤との併用により、重合時における反応性を高めることができる。

前記（ｄ）重合連鎖移動剤の使用量は、単量体混合物１００質量部当たり、０．３〜１０質量部、好ましくは０．５〜７質量部である。この（ｄ）重合連鎖移動剤の使用量が０．３質量部未満では耐ブロッキング性が劣り、一方１０質量部を越えると接着強度が低下して好ましくない。なお、α−メチルスチレンダイマーの使用量については、単量体混合物の１００質量部当り、０．１〜５質量部の範囲で使用することが好ましい。

次に、前記（ｄ）重合連鎖移動剤におけるα−メチルスチレンダイマーと併用する他の連鎖移動剤としては、一般の乳化重合に使用されている公知の重合連鎖移動剤を使用することができる。具体的には、例えば、オクチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−テトラデシルメルカプタン、ｔ−テトラデシルメルカプタンなどのメルカプタン類；ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィドなどのキサントゲンジスルフィド類；テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィドなどのチウラムジスルフィド類；四塩化炭素、臭化エチレンなどのハロゲン化炭化水素類；ペンタフェニルエタンなどの炭化水素類；及びアクロレイン、メタクロレイン、アリルアルコール、２−エチルヘキシルチオグリコレート、ターピノーレン、α−テルピネン、γ−テルピネン、ジペンテンなどを挙げることができる。これらは単独でも、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。これらのうち、メルカプタン類、キサントゲンジスルフィド類、チウラムジスルフィド類、四塩化炭素などが好適に使用される。

前記易接着層の形成に使用可能な共重合体ラテックスは、上記の単量体混合物及び重合連鎖移動剤を使用する点を除けば、従来公知の乳化重合法によって製造することができる。すなわち、水等の水性媒体に単量体混合物及び重合開始剤、乳化剤、重合連鎖移動剤等を加えて乳化重合を行うことによって得られる。

前記易接着層は、上記共重合体ラテックスを、再生高分子フィルムの表面に塗布することで形成することができ、一般的には下塗層として形成されるものである。易接着層の膜厚については特に制限はないが、５０〜１０００ｎｍが好ましく、５０〜３００ｎｍがより好ましく、さらに好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍである。

前記易接着層を形成する際に、共重合体ラテックスに対してジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤を併用することが好ましい。ジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の併用により常湿条件下、高湿条件下、低湿条件下での接着力が著しく向上し、低湿条件下での亀裂が生じなくなり、その他、帯電防止性、耐傷性、耐水性、耐溶剤性等に優れた効果を付与できる。使用可能なジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤としては、下記一般式（２）又は（３）で表される化合物が挙げられる。

一般式（２）

一般式（２）中、Ａはアルキル基、環状アルキル基、アリール基、アルアルキル基、金属、又は水素原子である。

一般式（３）

一般式（３）中、Ｒ¹及びＲ²は、水素、アルキル基、環状アルキル基、アリール基、アルアルキル基、又は−ＮＨＲ³（Ｒ³はアルキル基、アシル基）であり、Ｒ¹とＲ²は結合してもよく、また、Ｏ、Ｓ、Ｎ−Ｒ⁴（Ｒ⁴はアルキル基）を含む５〜６員の環を形成していてもよい。

これらのジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤は、単量体混合物に対して０．１〜１００質量部添加するのが好ましい。ジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の添加量が０．１質量部より少ないと、接着力の向上が不充分となり、その他、低湿条件下での亀裂防止効果や帯電防止性、耐傷性、耐水性、耐溶剤性等効果が不充分となり易い。一方、ジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の添加量が１００質量部を超えると、未反応の架橋剤が多量に残り、上層のゼラチン層に移行して過硬膜となり、乳剤又はバック層との接着性が低下させ、好ましくない。

これらのジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の具体例としては、次に示すものがある。

偏光子と再生高分子フィルムとの接着性を向上させることを目的として、上記易接着層上に、親水性ポリマーを主バインダーとする第二の下塗層を形成してもよい。
ここで、親水性ポリマーとして、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチン等のアシル化ゼラチン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体、アクリル酸、メタクリル酸もしくはアミド等をゼラチンにグラフトさせたグラフト化ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシアルキルアクリレート、ポリビニルピロリドン、コポリ−ビニルピロリドン−酢酸ビニル、カゼイン、アガロース、アルブミン、アルギン酸ソーダ、ポリサッカライド、寒天、でんぷん、グラフトでんぷん、ポリアクリルアミド、Ｎ−置換アクリルアミド、Ｎ−置換メタクリルアミド等の単独もしくは共重合体、あるいはそれらの部分加水分解物等合成もしくは天然の親水性高分子化合物が用いられる。これらのものは、単独又は混合して使用される。好ましい親水性ポリマーとしては、ゼラチンあるいはその誘導体である。

前記第一の下塗層である易接着層及び第二の下塗層は、一般によく知られた塗布方法、例えば、ディップコート法、エアナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビヤコート法、あるいは米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョン法等を利用して、形成することができる。

第二の下塗層の厚みとしては０．０５〜１．０μｍの範囲が好ましい。０．０５μｍより薄いと十分な接着性が得られ難く、また、１．０μｍより厚いと接着性の効果は飽和する。

偏光子の片面又は両面に再生高分子フィルムを積層して偏光板とした後、偏光板の片面又は両面に、粘着剤層、ハードコート層又は防眩層等の機能層を形成してもよい。粘着剤層の形成に用いられる粘着剤については特に制限されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましい。前記粘着剤層のゲル分率が７０％以上のものを用いて形成するのが好ましい。ゲル分率は７５％以上、さらには８０％以上であるのが好ましい。防眩層、ハードコート層の材料についても特に制限はない。ハードコート層又は防眩層の硬化率７０％以上であるのが好ましく、７５％以上であるのがより好ましく、８０％以上であるのがさらに好ましい。各層が、上記範囲のゲル分率又は硬化率であると、さらに再生高分子フィルムを再利用する場合に、偏光子より剥離した再生高分子フィルムから、溶剤に溶解することにより、粘着剤、ハードコート層や防眩層などを分離して再び、再生高分子フィルムとして利用することができる。上記した通り、溶剤に溶解する際の諸条件については、上記特許文献２に記載の方法を参考にすることができる。

上記高分子フィルムの回収方法、再生高分子フィルムの作製方法及び偏光板の作製方法は、それぞれ別々に実施してもよいし、２以上の組み合わせで連続的に行ってもよい。また、本発明の高分子フィルムの回収方法に供される偏光板は、偏光板の製造工程の途中で発生する廃棄物、例えば裁断の際に発生する端部、貼り合せ不良等の不良品であっても、一旦実際に使用された偏光板であってもよい。

以下に、本発明を実施例及び比較例を挙げて詳しく説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
［偏光板１の作製］
高分子フィルム１（ＴＡＣフィルム）の作製：
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士写真フィルム製、ＴＤ８０）を４０℃で濃度５％の水酸化ナトリウム水溶液中に２分間浸漬し、さらに純水により３０℃で１分間水洗した後、１００℃で２分間乾燥してケン化処理し、高分子フィルム１として用いた。

高分子フィルム２（ＰＥＴフィルム）の作製：
常法により合成したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）をチップ状とし、ヘンシェルミキサー及びパドルドライヤー乾燥機内で含水率５０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、ヒーター温度を２８０度〜３００度に設定した押し出し機内で溶融させた。溶融させたポリエステル樹脂を、ダイ部より静電印加されたチラーロール上に吐出させ、非結晶ベースを得た。この非結晶ベースをベース流れ方向に延伸比３．３倍に延伸後、ベース幅方向に延伸比３．９倍に延伸し、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを作製した。

このＰＥＴフィルムの偏光子との接着面に、コロナ放電処理を行い、以下の塗布液ＳＳ１を乾燥膜厚が９０ｎｍとなるように塗布し、第一の下塗層を形成した。
塗布液ＳＳ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
スチレンブタジエンラテックス（固形分４３％） ３００ｇ
２，４−ジクロロ−６ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩（８％） ４９ｇ
蒸留水 １６００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
さらに、第一の下塗層を形成した後、その表面をコロナ放電処理し、以下の塗布液ＳＳ２を乾燥膜厚１００ｎｍとなるように塗布し、第二の下塗層を形成した。
塗布液ＳＳ２
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ゼラチン ３０ｇ
酢酸（２０％） ２０ｇ
蒸留水 １９００ｇ
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第一及び第二の下塗層を形成したＰＥＴフィルムを、高分子フィルム２として用いた。

偏光子の作製：
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素１質量部、ヨウ化カリウム２質量部、及びホウ酸４質量部を含む水溶液に浸漬し、５０℃で４倍に延伸し偏光子を作製した。
偏光板１の作製：
上記高分子フィルム１のケン化処理面、及び高分子フィルム２の第二の下塗層の表面を、上記偏光子のそれぞれの表面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として貼合し、偏光板１を作製した。

［偏光板２〜４の作製］
偏光板１の作製において、高分子フィルム１及び２として、下記表１に示す高分子フィルムを用いた以外は、偏光板１の作製と同様にして、偏光板２〜４をそれぞれ作製した。

［実施例１］
偏光板１を粉砕機で粉砕してチップとし、偏光板に対し重量比で１００倍の水系液中に浸漬し、下記表２の条件で所定時間加温撹拌し、その後それぞれのチップを周速の異なる二本のローラ間に挟みこみ、偏光板１ｃｍ²当り１００Ｎのせん断力を作用させ、まず高分子フィルム２を偏光子より分離した。さらに、高分子フィルム２が分離された対象試料を、水系液中に３０分間浸漬することにより高分子フィルム１を分離した。回収されたＴＡＣフィルム及びＰＥＴフィルムはそれぞれ分離されていた。回収されたＴＡＣフィルムは、塩化メチレンに溶解後、ろ過し再度流延することによりフィルム化し、再生ＴＡＣフィルムを作製可能であり、及び回収されたＰＥＴフィルムも、再度溶融しフィルム化することで再生ＰＥＴフィルムが作製可能であること、再生ＴＡＣフィルム及びＰＥＴフィルムは、偏光板保護膜として充分な性能を示すことを確認した。

［実施例２〜６］
実施例１と同様にして、表２の条件に従ってそれぞれのフィルムを分離し、回収した高分子フィルムから、再生高分子フィルムを作製できること、及び再生高分子フィルムが偏光板保護膜として使用できることを確認した。
［実施例７］
ＴＡＣフィルムを両面の保護フィルムに使用した偏光板４の場合にも、せん断力を作用させることにより、せん断力を作用させる工程を含まない方法と比較して、高速でＴＡＣフィルムを分離・回収できることを確認した。

［比較例１〜３］
せん断力を作用させずに、表２の条件で高分子フィルムの回収を試みた。高分子フィルム１及び２を分離することができず、再利用ができなかった。

［比較例４〜６］
偏光板を表２の条件で水系でない溶媒に溶解し、高分子フィルムの回収を試みた。高分子フィルム１及び２共に溶解してしまい、それぞれを分離することができなかった。

結果を下記表２に示す。なお、評価は以下の基準で行った。
〔評価〕
〈分離可否〉
◎：高分子フィルム１及び２がほとんど混合することなく分離
○：高分子フィルム１及び２が９０％以上の純度で分離
×：高分子フィルム１及び２が混合

Claims (9)

1. 偏光子とその両面に第一及び第二の高分子フィルムとを有する偏光板を水系液に少なくとも接触させること、及びその後に偏光板にせん断力を作用させて、偏光子と第一の高分子フィルムとを少なくとも分離することを含む高分子の回収方法。
2. 第一及び第二の高分子フィルムの透湿度が互いに異なる偏光板を用いる請求項１に記載の方法。
3. 偏光板の面積１ｃｍ²に対し、１Ｎ以上２００Ｎ以下のせん断力を作用させる請求項１又は２に記載の方法。
4. 水系液が、水である請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
5. 水系液が、水と、少なくとも一つの水酸基を有し且つ炭素原子数１〜６の水と相溶性を有する化合物との混合液である請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
6. 水系液に少なくとも接触させる前に、偏光板を無定型もしくは四角に粉砕又は断裁することをさらに含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
7. 第一の高分子フィルムを偏光子と分離した後、水系液に接触させて偏光子と第二の高分子フィルムとを分離することをさらに含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法によって回収された高分子を、溶剤に溶解又は溶融すること、及び得られた溶液又は溶融物を用いて製膜することを含む再生高分子フィルムの製造方法。
9. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法により回収された高分子を、溶剤に溶解又は溶融すること、得られた溶液又は溶融物を用いて製膜し、再生高分子フィルムを製造すること、該再生高分子フィルムを、偏光子の少なくとも片面に積層することを含む偏光板の製造方法。