JP2008094090A - 光記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(1)レーザー光照射により記録・再生が行われる光記録媒体であって、表面にウォブルしたグルーブを有する基板上に、少なくとも記録層と反射層を有し、該記録層が、一般式(I)のシアニン色素化合物、一般式(II)のスクアリリウム金属キレート色素化合物、及び下記一般式(III)の化合物と金属との錯体であるホルマザン金属キレート色素化合物を主成分として含有する光記録媒体。
(2)シアニン色素化合物の重量をW1、スクアリリウム金属キレート色素化合物の重量をW2として、0.20≦W1/(W1+W2)≦0.75である(1)記載の光記録媒体。
【選択図】なし
Description
色素材料を用いた光記録媒体は枚挙に暇がなく、例えば特許文献1〜2などが挙げられるが、記録層材料として、シアニン色素、スクアリリウム色素、ホルマザン色素の混合物を用いた光記録媒体は、本発明者等の知る限り見当たらない。
1) レーザー光照射により記録・再生が行われる光記録媒体であって、表面にウォブルしたグルーブを有する基板上に、少なくとも記録層と反射層を有し、該記録層が、下記一般式(I)のシアニン色素化合物、下記一般式(II)のスクアリリウム金属キレート色素化合物、及び下記一般式(III)の化合物と金属との錯体であるホルマザン金属キレート色素化合物を主成分として含有することを特徴とする光記録媒体。
2) 光記録媒体が第1及び第2情報層を有し、第1情報層が前記一般式(I)〜(III)の色素化合物を主成分として含有する第1記録層と半透明反射層からなることを特徴とする1)記載の光記録媒体。
3) 一般式(I)のシアニン色素化合物の重量をW1、一般式(II)のスクアリリウム金属キレート色素化合物の重量をW2として、0.20≦W1/(W1+W2)≦0.75であることを特徴とする1)又は2)記載の光記録媒体。
4) 一般式(I)のシアニン色素化合物の熱分解温度が200〜240℃であり、一般式(II)のスクアリリウム金属キレート色素化合物の熱分解温度が270〜300℃であることを特徴とする1)〜3)の何れかに記載の光記録媒体。
5) 一般式(I)のシアニン色素化合物の、透過光の最大吸光度を示す波長λmaxが、610〜630nmであり、一般式(II)のスクアリリウム金属キレート色素化合物の、透過光の最大吸光度を示す波長λmaxが590〜620nmであることを特徴とする1)〜4)の何れかに記載の光記録媒体。
高速記録用光記録媒体の記録層の色素材料には、記録感度の改善や高速記録時のマークの拡がりの抑制が要求される。光に対する吸収量を増やすことにより記録感度は改善できるが、反射率が低下する為、記録・再生波長において最適な屈折率n、消衰係数kを有する材料を選定する必要がある。また、高速記録時の記録マークの拡がりを制御する為には、材料の熱分解温度・発熱量を最適な範囲に設定する必要がある。具体的には、分解温度220℃前後で発熱温度が低い材料が好ましい。また、記録層膜厚を薄く設定すれば、記録マークの拡がりを抑えることが可能であるが、変調度(信号振幅)を低速記録から高速記録までの広い範囲で満たすことが困難となる。
上記のような種々の要求を満たす色素材料としては、シアニン色素が最も好ましいが、保存安定性や耐光性が弱いという問題を抱えており、それを補うため、本発明では、スクアリリウム色素とホルマザン色素を混合することにした。
本発明では、記録層に隣接して、反射率を高めるために反射層を積層する。記録層と基板の間に下引き層又は保護層を設けてもよく、機能向上のために各層を2層以上の積層構成としても良い。最も普通に用いられるのは、第1基板/記録層/反射層/保護層/接着層/第2基板(保護基板)からなる構造であるが、記録層を2層有する2層光記録媒体、例えば光入射側から順に、第1基板/第1記録層/第1反射層(半透明反射層)/中間層(接着層)/第2記録層/第2反射層/第2基板とすることもできる。この場合、第1記録層に本発明の混合色素材料を用いる。
基板又は保護基板は、基板又は保護基板側から記録再生を行なう場合には使用レーザ光に対して透明でなければならないが、記録層側から記録再生を行なう場合、或いは単なる保護板として用いる場合には透明である必要はない。
基板、保護基板材料としては、例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などのプラスチック、或いは、ガラス、セラミック、金属などを用いることができる。
基板、保護基板の表面にはトラッキング用の案内溝や案内ピット、更にアドレス信号などのプリフォーマットが形成されていても良い。プリフォーマットの具体例としては、DVDにおいて、DVD−R/RWでランドプレピット方法、DVD+R/RWで高周波ウォブル方法が用いられている。何れの方法もディスク情報やアドレス情報が入力されていて、記録ドライブはこの情報を基に記録を行う。
記録層に必要なのは光学特性である。
光学特性としては、記録再生波長近傍の波長域の光、即ち、記録再生光の波長±5nmの波長域の光に対する記録層単層の屈折率nが1.5≦n≦3.0であり、消衰係数kが0.02≦k≦0.2の範囲にあることが好ましい。nが1.5未満の場合には、十分な光学的変化を得にくく記録変調度が低くなるため好ましくなく、nが3.0を越えると、波長依存性が高くなり過ぎ、記録再生波長領域であってもエラーとなってしまうため好ましくない。また、kが0.02未満の場合には、記録感度が悪くなるため好ましくなく、kが0.2を越えると、50%以上の反射率を得ることが困難となるので好ましくない。
なお、DVDは、再生専用機では650nm付近で規格化されているが、記録型媒体の記録光の波長は、オーサリング専用媒体の635nmの他に、一般用途として650〜660nmで規格化されている。しかしながら、これらの波長はあくまで中心波長であり、LD(レーザダイオード)の製造のバラツキにより短波長側、長波長側に振れる。また、LDは、その特性上、一般的に温度が上昇すると波長が長波長側にシフトする。
有機色素の例としては、アゾ系、ホルマザン系、ジピロメテン系、(ポリ)メチン系、ナフタロシアニン系、フタロシアニン系、テトラアザポルフィリン系、スクアリリウム系、クロコニウム系、ピリリウム系、ナフトキノン系、アントラキノン系(インダンスレン系)、キサンテン系、トリフェニルメタン系、アズレン系、テトラヒドロコリン系、フェナンスレン系、トリフェノチアジン系色素、或いはそれらの金属錯体等が挙げられるが、本発明では、シアニン色素、スクアリリウム金属キレート色素、ホルマザン金属キレート色素を主成分として用いる。ここで、主成分とは、これら3種の有機色素を記録再生に必要十分な量で含有することを意味するが、通常は、これら3種の有機色素のみを用いる。
記録層の膜厚は100Å〜10μm、好ましくは200〜2000Åが適当である。
一般式(I)において、環A及び環Bで表される置換基を有してもよいベンゼン環又はナフタレン環の置換基としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン基;メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル等のアルキル基;フェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3−イソプロピルフェニル等のアリール基;メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第二ブトキシ、第三ブトキシ等のアルコキシ基;メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ等のアルキルチオ基;ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。
該アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル等が挙げられ、該3〜6員環基としては、シクロプロパン−1,1−ジイル、シクロブタン−1,1−ジイル、2,4−ジメチルシクロブタン−1,1−ジイル、3,3−ジメチルシクロブタン−1,1−ジイル、シクロペンタン−1,1−ジイル、シクロヘキサン−1,1−ジイル、テトラヒドロピラン−4,4−ジイル、チアン−4,4−ジイル、ピペリジン−4,4−ジイル、N−置換ピペリジン−4,4−ジイル、モルホリン−2,2−ジイル、モルホリン−3,3−ジイル、N−置換モルホリン−2,2−ジイル、N−置換モルホリン−3,3−ジイル等が挙げられ、そのN−置換基としては、前記環Aの置換基として例示したものが挙げられる。
Y1又はY2で表される炭素数1〜30の有機基としては、特に制限を受けるものではないが、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等のアルキル基;ビニル、1−メチルエテニル、2−メチルエテニル、プロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、1−フェニルプロペン−3−イル等のアルケニル基;フェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4−イソプロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−イソブチルフェニル、4−第三ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、4−ステアリルフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ第三ブチルフェニル、シクロヘキシルフェニル等のアルキルアリール基;ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロパン−2−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基、及びこれらの炭化水素基がエーテル結合、チオエーテル結合で中断されたもの、例えば、2−メトキシエチル、3−メトキシプロピル、4−メトキシブチル、2−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、3−メトキシブチル、2−フェノキシエチル、2−メチルチオエチル、2−フェニルチオエチルが挙げられ、更にこれらの基は、アルコキシ基、アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。
上記Y1及びY2は、あまり大きいと、シアニン色素化合物のモル吸光係数が小さくなり、感度に影響を及ぼす場合があるので、炭素数1〜8の炭化水素基が好ましく、炭素数1〜8のアルキル基がより好ましい。
また、励起状態にある活性分子を脱励起させる(クエンチングさせる)機能を有するクエンチャーアニオンやシクロペンタジエニル環にカルボキシル基、ホスホン酸基、スルホン酸基等のアニオン性基を有するフェロセン、ルテオセン等のメタロセン化合物アニオン等も必要に応じて用いることができる。
前記一般式(I)で表されるシアニン色素化合物は公知の方法、例えば特開2005−54150号公報記載の方法で製造することができる。
前記アルキル基及びアルコキシ基におけるアルキル部分としては、直鎖若しくは分岐状の炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜8の環状アルキル基等が挙げられる。
具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
前記アラルキル基としては、炭素数7〜19のものが好ましく、7〜15のものがより好ましい。具体例としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。
前記アリール基としては、炭素数6〜18のものが好ましく、6〜14のものがより好ましい。具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基等が挙げられる。
R7とR8が相互に結合して形成する脂環式炭化水素環としては、炭素数3〜10の脂環式炭化水素環が挙げられ、飽和又は不飽和のものであってもよい。具体例としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロノナン環、シクロデカン環、シクロペンテン環、1,3−シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環等が挙げられる。
互いに隣り合う2つのR10がそれぞれ隣接する2つの炭素原子と一緒になって形成される置換基を有してもよい芳香族環としては、炭素数6〜14のものが好ましく、具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。
前記アルキル基の置換基としては、同一でも異なっていてもよい1〜3個の置換基、例えば、水酸基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アルコキシ基等が挙げられる。ハロゲン原子及びアルコキシ基としては、前記と同様のものが挙げられる。
前記アミノ基の置換基としては、同一でも異なっていてもよい1〜2個のアルキル基等が挙げられる。この場合のアルキル基としては前記と同様のものが挙げられる。
前記一般式(II)で表されるスクアリリウム金属キレート色素化合物は、例えば、特開2004−244342号公報に記載された方法で製造することができる。
特に、前記一般式(III)の化合物と金属との錯体であるホルマザン金属キレート色素化合物を含有させると、保存安定性が向上する。
前記式中、環Pは、置換若しくは無置換の含窒素5員環又は6員環を表し、Zは環Pを与える原子群を表す。このような原子群には、炭素原子の他、ヘテロ原子が包含されていても良い。また、ヘテロ原子には、窒素原子(−N−)、イオウ原子(−S−)、酸素原子(−O−)、セレン原子(−Se−)等が包含される。
環Pの具体例としては、チアゾール環、イミダゾール環、チアジアゾール環、オキサゾール環、トリアゾール環、ピラゾール環、オキサジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環等が挙げられる。
環Pには他の環P′が結合していてもよく、このような環P′には炭素環の他に複素環が包含される。炭素環の場合、その環構成炭素数は、好ましくは6〜20、より好ましくは6〜10である。具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロヘキサン環等が挙げられる。複素環の場合、その環構成原子数は、好ましくは5〜20、より好ましくは5〜14である。具体例としては、ピロリジン環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、キノリン環、インドリン環、カルバゾール環等が挙げられる。
前記式中、R12は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。この場合のアルキル基及びアルケニル基には、鎖状及び環状のものが包含される。アルキル基の炭素数は、好ましくは1〜15、より好ましくは1〜8であり、アルケニル基の炭素数は、好ましくは2〜8、より好ましくは2〜6である。アリール基の炭素数は、好ましくは6〜18、より好ましくは6〜14である。
酸素を介して他の炭化水素基で置換されているアルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基等のアルコキシ基やアリールオキシ基等で置換されたアルキル基が挙げられる。これらのアルコキシ基やアリールオキシ基は置換基を有していてもよい。
硫黄を介して他の炭化水素基で置換されたアルキル基としては、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、エチルチオプロピル基、フェニルチオエチル基等のアルキルチオ基やアリールチオ基等で置換されたアルキル基が挙げられる。これらのアルキルチオ基やアリールチオ基は置換基を有していてもよい。
窒素を介して他の炭化水素基で置換されているアルキル基としては、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、フェニルアミノメチル基等のアルキルアミノ基やアリールアミノ基等で置換されたアルキル基が挙げられる。これらのアルキルアミノ基やアリールアミノ基は置換基を有していてもよい。
前記環P、R11、R12における各アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントラニル基、トリフェニレニル基、ピレニル基等が挙げられる。
前記アリール基は、アルキル基、アルケニル基、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、特定の置換基(例えばハロゲン原子、ニトロ基等)を有していてもよいアリール基、特定の置換基(例えばハロゲン原子、ニトロ基等)を有していてもよい複素環基で置換されていてもよい。ここで、アルキル基、アルケニル基、アリール基としては、前記と同様のものが挙げられ、ハロゲン原子、複素環基としては、後述するものと同様のものが挙げられる。
これらの複素環基は、水酸基、アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、特定の置換基(例えばハロゲン原子、ニトロ基等)を有していてもよいアリール基、特定の置換基(例えばハロゲン原子、ニトロ基等)を有していてもよい複素環基等で置換されていてもよく、また酸素、硫黄、窒素等のヘテロ原子を介して前記のアルキル基等の炭化水素基で置換されていてもよい。ここで、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基としては、前記と同様のものが挙げられ、ハロゲン原子としては、後述するものと同様のものが挙げられる。
前記環P、R11、R12における各ハロゲン原子の具体例としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子が挙げられる。
前記環Pにおける置換基を有していてもよいアリールオキシ基は、酸素原子に置換基を有していてもよいアリール基が直接結合されているものであれば良い。そのアリール基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。
前記環Pにおける置換基を有していてもよいアルキルチオ基は、硫黄原子に置換基を有していてもよいアルキル基が直接結合されているものであれば良い。そのアルキル基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。
前記環Pにおける置換基を有していてもよいアリールチオ基は、硫黄原子に置換基を有していてもよいアリール基が直接結合されているものであれば良い。そのアリール基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。
前記環Pにおける置換基を有していてもよいアルキルアミノ基は、窒素原子に置換基を有していてもよいアルキル基が直接結合されているものであれば良い。そのアルキル基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。また、アルキル基同士が結合し、酸素原子、窒素原子等を含んで、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジニル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基のような環を形成していても良い。
前記環Pにおける置換基を有していてもよいアリールアミノ基は、窒素原子に置換基を有していてもよいアリール基が直接結合されているものであれば良い。そのアリール基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。
前記環Pにおける置換基を有していてもよいアリールカルボニル基は、カルボニル基の炭素原子に置換基を有していてもよいアリール基が直接結合されているものであればよい。そのアリール基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。
前記環Pにおける置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基は、酸素原子に置換基を有していてもよいアルキル基が直接結合されているものであればよい。そのアルキル基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。
前記環Pにおける置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基は、酸素原子に置換基を有していてもよいアリール基が直接結合されているものであればよい。そのアリール基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。
置換基を有していてもよいアリールカルボキサミド基は、カルボキサミドの炭素原子に置換基を有していてもよいアリール基が直接結合されているものであればよい。そのアリール基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。
前記環Pにおける置換基を有していてもよいアルキルカルバモイル基は、カルバモイル基の窒素原子に置換基を有していてもよいアルキル基が直接結合されているものであれば良い。そのアルキル基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。また、アルキル基同士が結合し、酸素原子、窒素原子等を含んで、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジニル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基のような環を形成していても良い。
前記環Pにおける置換基を有していてもよいアリールカルバモイル基は、カルバモイル基の窒素原子に置換基を有していてもよいアリール基が直接結合されているものであればよい。そのアリール基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。
前記環Pにおける置換基を有していてもよいアルキルスルファモイル基は、スルファモイル基の窒素原子に置換基を有していてもよいアルキル基が直接結合されているものであればよい。そのアルキル基及び置換基の具体例としては、前述のものが挙げられる。
前記一般式(III)の化合物と金属との錯体であるホルマザン金属キレート色素化合物の配合量は、好ましくは5〜40重量%、より好ましくは10〜35重量%程度である。5重量%未満では十分な耐光性を得にくくなるし、40重量%を超えると、良好な記録特性を得にくくなるため好ましくない。
下引き層は、(1)接着性の向上、(2)水又はガスなどのバリアー、(3)記録層の保存安定性の向上、(4)反射率の向上、(5)溶剤からの基板の保護、(6)案内溝、案内ピット、プレフォーマットの形成などの目的で設けられる。
(1)の目的に対しては、アイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル樹脂、天然樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の高分子化合物、又はシランカップリング剤などを用いることができる。(2)及び(3)の目的に対しては、上記高分子材料以外に、SiO、MgF、SiO2、TiO、ZnO、TiN、SiNなどの無機化合物を用いることができ、更に、Zn、Cu、Ni、Cr、Ge、Se、Au、Ag、Alなどの金属又は半金属を用いることができる。(4)の目的に対しては、Al、Au、Ag等の金属や、メチン染料、キサンテン系染料などからなる金属光沢を有する有機薄膜を用いることができる。(5)及び(6)の目的に対しては、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。
下引き層の膜厚は、0.01〜30μm、好ましくは、0.05〜10μmが適当である。
反射層の材料としては、Au、Ag、Cr、Ni、Al、Fe、Snなどの単体で高反射率の得られる腐食され難い金属や半金属が挙げられるが、反射率や生産性の点からAu、Ag、Alが好ましい。また、これらの金属や半金属は単独で使用しても2種以上の合金として使用しても良い。
2層の記録層を有する光記録媒体の第1反射層(半透明反射層)は、通常、Au、Ag、Cuなどの金属を主成分とし、耐食性、耐候性改善のために0.1〜5重量%程度の添加元素を加える。中でも、Agを主成分とし、Cu、Pd、Pt、Au、Nd、Bi、Ga、In等を添加した合金が好ましい。ここで主成分とは、Agを95重量%以上、好ましくは98重量%以上含むことを意味する。
反射層、半透明反射層の成膜法としては蒸着、スッパタリングなどが挙げられる。
反射層の膜厚は、5〜500nm、好ましくは10〜300nmである。半透明反射層の膜厚は6〜30nm、好ましくは8〜20nmである。
保護層及び基板面ハードコート層は、(1)記録層の傷、ホコリ、汚れ等からの保護、(2)記録層の保存安定性の向上、(3)反射率の向上等を目的として使用される。
これらの目的に対しては、前記下引き層と同じ材料を用いることができる。また、ポリメチルアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、脂肪族炭化水素樹脂、天然ゴム、スチレンブタジエン樹脂、クロロプレンゴム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、熱溶融性樹脂などの有機材料を用いることもできる。最も好ましいのは生産性に優れた紫外線硬化樹脂である。
保護層又は基板面ハードコート層の膜厚は、0.01〜30μm、好ましくは0.05〜10μmである。
上記下引き層、保護層及び基板面ハードコート層には、記録層の場合と同様に安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤等を含有させることができる。
接着層の材料としては、基板や各層を接着できる材料ならば何でもよく、生産性を考慮すると、紫外線硬化型接着剤又はホットメルト型接着剤が好ましい。
《中間層》
記録層を2層有する2層光記録媒体では中間層を設けるが、通常の場合、中間層は接着剤層を兼ねるので、材料としては接着層と同様の材料を用いる。厚さは一般に50μm程度とする。
溝深さ160nm、溝幅(底部)0.23μm、トラックピッチ0.74μmの案内溝を形成した厚さ0.57mmのポリカーボネート製基板上に、色素化合物を2,2,3,3−テトラフルオルプロパノールに溶解し濃度0.5重量%に調整した塗布液をスピンコートして膜厚60nmの記録層を設け、85℃15分間アニールを行った。
色素化合物は、化合物1=〔化7〕のシアニン色素化合物、化合物2=〔化8〕のスクアリリウム金属キレート色素化合物、及び化合物3=〔化9〕のホルマザン金属キレート色素化合物を、表2に示す重量割合で混合して用いた。なお、化合物1〜3の分解温度、及びそれらの膜の最大吸収波長(λmax)を表1に示す。
次いでその上に、スパッタリング法によりAgからなる膜厚120nmの反射層を形成した。
次いでその上に、紫外線硬化樹脂(サンノプコ製NopcoCure134)をスピンコートして膜厚3μmの保護層を形成し、情報板を作製した。
次いで、その上に、厚さ0.6mmのダミー基板を接着剤(日本化薬製DVD700)で貼り合せて、実施例1〜5及び比較例1〜3の光記録媒体を作製した。
溝深さ160nm、溝幅(底部)0.23μm、トラックピッチ0.74μmの案内溝を形成した厚さ0.57mmのポリカーボネート製基板上に、色素化合物を、2,2,3,3−テトラフルオルプロパノールに溶解し濃度0.5重量%に調整した塗布液をスピンコートして膜厚60nmの記録層を設け、85℃15分間アニールを行った。
色素化合物は、化合物1=〔化7〕のシアニン色素化合物、化合物2=〔化8〕のスクアリリウム金属キレート色素化合物、及び化合物3=〔化9〕のホルマザン金属キレート色素化合物を、表2に示す重量割合で混合して用いた。
次いでその上に、スパッタリング法によりAgIn(99.5:0.5重量%)からなる膜厚9nmの半透明反射層を形成した。
次いでその上に、紫外線硬化樹脂(サンノプコ製NopcoCure134)をスピンコートして膜厚3μmの保護層を形成し、L0情報板を作製した。
一方、溝深さ30nm、溝幅(底部)0.26μm、トラックピッチ0.74μmの案内溝を形成した厚さ0.60mmのポリカーボネート製基板上に、スパッタリングによりAgからなる厚さ120nmの反射層を形成した。
次いでその上に、色素化合物を、2,2,3,3−テトラフルオルプロパノールに溶解し濃度1.4重量%に調整した塗布液をスピンコートして膜厚60nmの記録層を設け、85℃15分間アニールを行った。色素化合物は、化合物1=〔化7〕のシアニン色素化合物と、化合物2=〔化8〕のスクアリリウム金属キレート色素化合物を、重量比50:50で混合して用いた。
更にその上に、ZnS(80モル%)SiO2(20モル%)をスパッタリングで10nm堆積させて、L1情報板を作製した。
続いて、上記L0情報板とL1情報板を、接着剤(日本化薬製DVD802)で貼り合せて実施例6〜7の2層型光記録媒体を作製した。
また、信頼性評価として保存安定性、耐光性を調べた。保存安定性は、記録済みの光記録媒体を80℃85%RHの環境下に投入して、エラーがDVD規格(<280)を越えた時間を確認した。耐光性も同様に、記録済みの光記録媒体に対して50000Luxの光を入射し、エラーがDVD規格(<280)を越えた時間を確認した。
1x、2.4x、16x記録のジッタ特性としては、9.0%以下が好ましく、耐光性は60時間以上、保存安定性は500時間以上が望ましい。また反射率は16%以上とする必要がある。
評価結果は表3に示す通りであり、反射率、1x/16x記録特性、信頼性(耐光性、保存安定性)を確保する為には、シアニン色素化合物、スクアリリウム色素化合物、ホルマザン金属キレート色素化合物の3種を混合する必要があり、これらの配合比は、シアニン色素化合物の重量をW1、スクアリリウム金属キレート色素化合物の重量をW2として、0.20≦W1/(W1+W2)≦0.75とする必要があることが分かる。
Claims (5)
- レーザー光照射により記録・再生が行われる光記録媒体であって、表面にウォブルしたグルーブを有する基板上に、少なくとも記録層と反射層を有し、該記録層が、下記一般式(I)のシアニン色素化合物、下記一般式(II)のスクアリリウム金属キレート色素化合物、及び下記一般式(III)の化合物と金属との錯体であるホルマザン金属キレート色素化合物を主成分として含有することを特徴とする光記録媒体。
- 光記録媒体が第1及び第2情報層を有し、第1情報層が前記一般式(I)〜(III)の色素化合物を主成分として含有する第1記録層と半透明反射層からなることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
- 一般式(I)のシアニン色素化合物の重量をW1、一般式(II)のスクアリリウム金属キレート色素化合物の重量をW2として、0.20≦W1/(W1+W2)≦0.75であることを特徴とする請求項1又は2記載の光記録媒体。
- 一般式(I)のシアニン色素化合物の熱分解温度が200〜240℃であり、一般式(II)のスクアリリウム金属キレート色素化合物の熱分解温度が270〜300℃であることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の光記録媒体。
- 一般式(I)のシアニン色素化合物の、透過光の最大吸光度を示す波長λmaxが、610〜630nmであり、一般式(II)のスクアリリウム金属キレート色素化合物の、透過光の最大吸光度を示す波長λmaxが590〜620nmであることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の光記録媒体。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002358658A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-12-13 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体およびその光記録方法 |
JP2003305958A (ja) * | 2002-02-12 | 2003-10-28 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体、これを用いる光記録方法及び光記録装置 |
JP2005054150A (ja) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Asahi Denka Kogyo Kk | シアニン化合物、光学記録材料及び光学記録媒体 |
JP2005053875A (ja) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Asahi Denka Kogyo Kk | シアニン化合物、光学記録材料及び光学記録媒体 |
JP2005319728A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体、並びにこれを用いる記録再生方法及び光記録装置 |
JP2005342917A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Tdk Corp | 光記録材料及び光記録媒体 |
JP2006044241A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-02-16 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体、並びに記録再生方法及び光記録装置 |
-
2007
- 2007-09-13 JP JP2007237514A patent/JP2008094090A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002358658A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-12-13 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体およびその光記録方法 |
JP2003305958A (ja) * | 2002-02-12 | 2003-10-28 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体、これを用いる光記録方法及び光記録装置 |
JP2005054150A (ja) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Asahi Denka Kogyo Kk | シアニン化合物、光学記録材料及び光学記録媒体 |
JP2005053875A (ja) * | 2003-08-07 | 2005-03-03 | Asahi Denka Kogyo Kk | シアニン化合物、光学記録材料及び光学記録媒体 |
JP2005319728A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体、並びにこれを用いる記録再生方法及び光記録装置 |
JP2005342917A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Tdk Corp | 光記録材料及び光記録媒体 |
JP2006044241A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-02-16 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体、並びに記録再生方法及び光記録装置 |
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