JP2008071788A - レーザアニール装置、半導体膜基板、素子基板、及び電気光学装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レーザアニール装置100は、単数又は複数のレーザ光発振源を備えてなり、水素化非晶質半導体膜20に対して、第1のレーザ光Xを照射して第1のレーザ光Xが照射された領域の水素濃度を低減させる第1のレーザ光源120と、第1のレーザ光源120のレーザ光発振源を兼ねていない単数又は複数のレーザ光発振源を備えてなり、水素化非晶質半導体膜20の第1のレーザ光Xが照射された領域の少なくとも一部に対して、第2のレーザ光Yを照射して第2のレーザ光Yが照射された領域を結晶化させる第2のレーザ光源130と、水素化非晶質半導体膜20に対して、第1のレーザ光X及び第2のレーザ光Yを同時に又は独立に相対走査する相対走査手段150とを備えたものである。
【選択図】図1
Description
本発明はまた、上記レーザアニール方法により製造された半導体膜基板、この半導体膜基板を用いて製造された素子基板、及びこの素子基板を用いた電気光学装置に関するものである。
例えば、非晶質シリコン膜の一部をレーザアニールにより選択的に結晶化することで、画素スイッチング用TFTの活性層が非晶質シリコン膜からなり、駆動回路用TFTの活性層が多結晶シリコン膜からなる電気光学装置を提供できると考えられる。
特許文献1に記載の技術では、画素部の形成領域は充分な水素濃度の水素化非晶質シリコンのまま残し、駆動部の形成領域のみを選択的に脱水素化及び結晶化することができる。
単数又は複数のレーザ光発振源を備えてなり、前記水素化非晶質半導体膜に対して、第1のレーザ光を照射して該第1のレーザ光が照射された領域の水素濃度を低減させる第1のレーザ光源と、
前記第1のレーザ光源の前記レーザ光発振源を兼ねていない単数又は複数のレーザ光発振源を備えてなり、前記水素化非晶質半導体膜の前記第1のレーザ光が照射された領域の少なくとも一部に対して、第2のレーザ光を照射して該第2のレーザ光が照射された領域を結晶化させる第2のレーザ光源と、
前記水素化非晶質半導体膜に対して、前記第1のレーザ光及び前記第2のレーザ光を同時に又は独立に相対走査する相対走査手段とを備えたことを特徴とするものである。
前記第1のレーザ光源及び前記第2のレーザ光源はいずれも、前記レーザ光発振源として半導体レーザを備えた半導体レーザ光源であることが好ましい。
前記第1のレーザ光源及び/又は前記第2のレーザ光源は、前記半導体レーザを複数備えると共に、該複数の半導体レーザからの出射光を合波する合波光学系とを備えた単数又は複数の合波半導体レーザ光源により構成することができる。
前記ユニット光源は、該ユニット光源の相対走査方向に対して常に前記第1のレーザ光源が前記第2のレーザ光源よりも先行するよう、該ユニット光源の相対走査方向が変わる際には、前記第1のレーザ光源及び前記第2のレーザ光源の互いの機能を交替する制御が行われるものであってもよい。
前記水素化非晶質半導体膜の所定領域に対して選択的に、前記第1のレーザ光と前記第2のレーザ光とを照射するものであることが好ましい。
上記の本発明のレーザアニール装置を用い、
前記水素化非晶質半導体膜に対して、前記第1のレーザ光を照射して該第1のレーザ光が照射された領域の水素濃度を低減させるレーザ照射(A)と、
前記水素化非晶質半導体膜の前記第1のレーザ光が照射された領域の少なくとも一部に対して、前記第2のレーザ光を照射して該第2のレーザ光が照射された領域を結晶化させる第2のレーザ照射(B)とを実施することを特徴とするものである。
前記水素化非晶質半導体膜においてレーザ照射(A)及びレーザ照射(B)が実施されなかった非結晶化領域内に形成された活性層を有する第1の半導体装置と、
前記水素化非晶質半導体膜においてレーザ照射(A)及びレーザ照射(B)が実施された結晶化領域内に形成された活性層を有する第2の半導体装置とを備えたことを特徴とするものである。
前記画素スイッチング用薄膜トランジスタが、前記水素化非晶質半導体膜においてレーザ照射(A)及びレーザ照射(B)が実施されなかった非結晶化領域内に形成された活性層を有し、
前記駆動回路用薄膜トランジスタが、前記水素化非晶質半導体膜においてレーザ照射(A)及びレーザ照射(B)が実施された結晶化領域内に形成された活性層を有すること特徴とするものである。
図面を参照して、本発明に係る実施形態のレーザアニール装置と、これを用いたレーザアニール方法について、説明する。
マトリクス状に配置された多数の画素電極と、これら画素電極のスイッチング素子として機能する多数の画素スイッチング用TFT(第1の半導体装置)とが形成され、表示等が行われる画素部と、
上記画素部の外側に、画素部を駆動する、多数の駆動回路用TFT(第2の半導体装置)を用いて構成された駆動回路が形成された駆動部とが設けられるアクティブマトリクス基板を製造する場合を例として説明する。
図示するアクティブマトリクス基板40には、マトリクス状に配置された多数の画素電極33と、これら画素電極33のスイッチング素子として機能する多数の画素スイッチング用TFT30とが形成され、表示等が行われる画素部50と、これを駆動する駆動部80とが設けられている。この例では、画素部50の1つのドットDに対して、1個の画素電極33と1個の画素スイッチング用TFT30とが形成されている。1個の画素電極33に対して、複数のTFT30を設けることもできる。
反射ミラー125A,125Bにより反射されたレーザ光L1,L2が入射するビームスプリッタ126Aと、
反射ミラー125C,125Dにより反射されたレーザ光L3,L4が入射するビームスプリッタ126Bとが備えられている。
本実施形態では、第1のレーザ光源120及び第2のレーザ光源130は発振波長と単位時間あたりの出射エネルギー量が略同一であり、第1のレーザ光Xの単位時間あたりの照射面積が、第2のレーザ光Yの単位時間あたりの照射面積より大きい構成となっている。
本明細書において、第1のレーザ光源120及び第2のレーザ光源130の出射エネルギー量が「略同一である」とは、出射エネルギー量のずれが±5%以内であると、定義する。
第1のレーザ光源120と第2のレーザ光源130とはいずれも発振波長が略同一条件において、第1のレーザ光源120の単位時間あたりの第1のレーザ光Xの出射エネルギー量(出力)が、第2のレーザ光源130の単位時間あたりの第2のレーザ光Yの出射エネルギー量(出力)よりも小さい構成としてもよい。かかる構成でも、Ea1<Ea2を満たす構成とすることができる。
第1のレーザ光源120の発振波長が、第2のレーザ光源130の発振波長よりも長波長である構成としてもよい。長波長光の方が水素化非晶質シリコン膜20に吸収される吸収率が低くなる傾向にあるので、かかる構成でも、Ea1<Ea2を満たすことができる。
レーザアニール装置100を用いることで、水素化非晶質シリコン膜20に対して、第1のレーザ光Xを照射して第1のレーザ光Xが照射された領域の水素濃度を低減させるレーザ照射(A)と、水素化非晶質シリコン膜20の第1のレーザ光Xが照射された領域の少なくとも一部に対して、第2のレーザ光Yを照射して第2のレーザ光Yが照射された領域を結晶化させる第2のレーザ照射(B)とを効率よく実施することができる。
第1のレーザ光源120と第2のレーザ光源130とは互いの機能を交替可能とされ、レーザヘッド140は、レーザヘッド140の走査方向に対して常に第1のレーザ光源120が第2のレーザ光源130よりも先行するよう、レーザヘッド140の走査方向が変わる際には、第1のレーザ光源120及び第2のレーザ光源130の互いの機能を交替する制御が行われる構成としてもよい。
レーザヘッド140の走査方向が変わる際に、電気的制御部(電気的制御手段)162によって、第1のレーザ光源120及び第2のレーザ光源130の互いの出力を交替させるなどして、第1のレーザ光源120及び第2のレーザ光源130の互いの機能を交替させることができる。
本実施形態では、水素化非晶質シリコン膜20の所定領域を選択的に結晶化することができるが、水素化非晶質シリコン膜20の膜全体を結晶化することもできる。
上記実施形態では、水素化非晶質シリコン膜20に対してレーザ光X,Yを相対走査する相対走査手段として、レーザヘッド140を機械的に移動させるレーザヘッド移動手段150を備える場合について説明した。ステージ110を相対走査手段として機能する可動ステージとしてもよい。相対走査手段としては、ガルバノミラーなど、レーザヘッド140から出射されるレーザ光X,Yをそれぞれ光学的に走査するものであってもよい。相対走査手段は、これらの組み合わせであってもよい。
図面を参照して、本発明に係る実施形態の半導体膜基板、及びこれを用いたアクティブマトリクス基板(素子基板)の製造方法と構成について説明する。
以上の工程により、本実施形態のアクティブマトリクス基板40が製造される。
図面を参照して、本発明に係る実施形態の電気光学装置の構成について説明する。本発明は、EL装置や液晶装置等に適用可能であり、有機EL装置を例として説明する。図6は有機EL装置の分解斜視図である。
本実施形態の有機EL装置90は、以上のように構成されている。
21,22 シリコン膜(半導体膜)
23 活性層
30 画素スイッチング用TFT(第1の半導体装置)
40,41 アクティブマトリクス基板(素子基板)
50 画素部
61 水平走査回路(駆動回路)
71 垂直走査回路(駆動回路)
80 駆動部
90 有機EL装置(電気光学装置)
100 レーザアニール装置
120 第1のレーザ光源
130 第2のレーザ光源
121、131 合波半導体レーザ光源
123(123A〜123D)、133(133A〜133D) LDパッケージ
140 レーザヘッド(ユニット光源)
150 レーザヘッド移動手段(相対走査手段)
160 コントローラ(制御手段)
161 走査制御部(走査制御手段)
162 電気的制御部(電気的制御手段)
LD 半導体レーザ(レーザ光発振源)
X 第1のレーザ光
Y 第2のレーザ光
AH 第1のレーザ光Xが照射されて脱水素処理が実施されたが、第2のレーザ光Yの照射を受ける前の領域
AC 第1のレーザ光Xの照射による脱水素処理と第2のレーザ光Yの照射による結晶化とが実施された領域
ATFT TFTの素子形成領域
W1 第1のレーザ光源による第1のレーザ光の走査方向に対して垂直方向の照射幅
W2 第2のレーザ光源による第2のレーザ光の走査方向に対して垂直方向の照射幅
Claims (22)
- 水素化非晶質半導体膜に対してレーザアニールを実施して、該水素化非晶質半導体膜の少なくとも一部を結晶化させるレーザアニール装置において、
単数又は複数のレーザ光発振源を備えてなり、前記水素化非晶質半導体に対して、第1のレーザ光を照射して該第1のレーザ光が照射された領域の水素濃度を低減させる第1のレーザ光源と、
前記第1のレーザ光源の前記レーザ光発振源を兼ねていない単数又は複数のレーザ光発振源を備えてなり、前記水素化非晶質半導体膜の前記第1のレーザ光が照射された領域の少なくとも一部に対して、第2のレーザ光を照射して該第2のレーザ光が照射された領域を結晶化させる第2のレーザ光源と、
前記水素化非晶質半導体膜に対して、前記第1のレーザ光及び前記第2のレーザ光を同時に又は独立に相対走査する相対走査手段とを備えたことを特徴とするレーザアニール装置。 - 前記第1のレーザ光源及び/又は前記第2のレーザ光源は、連続波出力のレーザ光源であることを特徴とする請求項1に記載のレーザアニール装置。
- 前記第1のレーザ光源及び前記第2のレーザ光源はいずれも、前記レーザ光発振源として半導体レーザを備えた半導体レーザ光源であることを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザアニール装置。
- 前記第1のレーザ光源及び/又は前記第2のレーザ光源は、前記半導体レーザを複数備えると共に、該複数の半導体レーザからの出射光を合波する合波光学系とを備えた単数又は複数の合波半導体レーザ光源からなることを特徴とする請求項3に記載のレーザアニール装置。
- 前記第1のレーザ光源と前記第2のレーザ光源とは、互いの相対的位置が固定されてユニット化されたユニット光源の形態で備えられており、
前記相対走査手段は、該ユニット光源を相対走査するものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のレーザアニール装置。 - 前記ユニット光源は、該ユニット光源の相対走査方向に対して常に前記第1のレーザ光源が前記第2のレーザ光源よりも先行するよう、該ユニット光源の相対走査方向に応じて、向きが制御されるものであることを特徴とする請求項5に記載のレーザアニール装置。
- 前記第1のレーザ光源と前記第2のレーザ光源とは、互いの機能を交替可能とされており、
前記ユニット光源は、該ユニット光源の相対走査方向に対して常に前記第1のレーザ光源が前記第2のレーザ光源よりも先行するよう、該ユニット光源の相対走査方向が変わる際には、前記第1のレーザ光源及び前記第2のレーザ光源の互いの機能を交替する制御が行われるものであることを特徴とする請求項5に記載のレーザアニール装置。 - 前記第1のレーザ光源による前記第1のレーザ光の相対走査方向に対して垂直方向の照射幅が、前記第2のレーザ光源による前記第2のレーザ光の相対走査方向に対して垂直方向の照射幅よりも広いことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のレーザアニール装置。
- 前記水素化非晶質半導体膜に吸収される前記第1のレーザ光の単位時間単位面積あたりの吸収エネルギー密度が、前記水素化非晶質半導体膜に吸収される前記第2のレーザ光の単位時間単位面積あたりの吸収エネルギー密度よりも小さいことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のレーザアニール装置。
- 前記第1のレーザ光源と前記第2のレーザ光源とはいずれも発振波長が略同一であり、前記第1のレーザ光源の単位時間あたりの前記第1のレーザ光の出射エネルギー量が、前記第2のレーザ光源の単位時間あたりの前記第2のレーザ光の出射エネルギー量よりも小さいことを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載のレーザアニール装置。
- 前記第1のレーザ光源及び前記第2のレーザ光源に搭載された前記レーザ光発振源は発振波長及び出力規格がすべて略同一であり、
前記第1のレーザ光源に搭載された前記レーザ光発振源の点灯数が、前記第2のレーザ光源に搭載された前記レーザ光発振源の点灯数より少ないことを特徴とする請求項10に記載のレーザアニール装置。 - 前記第1のレーザ光源と前記第2のレーザ光源とはいずれも発振波長が略同一であり、前記第1のレーザ光源から出射される前記第1のレーザ光の単位時間あたりの出射エネルギー量と、前記第2のレーザ光源から出射される前記第2のレーザ光の単位時間あたりの出射エネルギー量とが略同一であり、
前記水素化非晶質半導体膜に対する単位時間あたりの前記第1のレーザ光の照射面積が、前記水素化非晶質半導体膜に対する単位時間あたりの前記第2のレーザ光の照射面積より大きいことを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載のレーザアニール装置。 - 前記第1のレーザ光源の発振波長が、前記第2のレーザ光源の発振波長よりも長波長であることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載のレーザアニール装置。
- 前記相対走査手段による前記第1のレーザ光源及び前記第2のレーザ光源の相対走査を制御する走査制御手段と、前記第1のレーザ光源及び前記第2のレーザ光源に搭載された前記レーザ光発振源のオンオフを制御する電気的制御手段とを備え、
前記水素化非晶質半導体膜の所定領域に対して選択的に、前記第1のレーザ光と前記第2のレーザ光とを照射するものであることを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載のレーザアニール装置。 - 前記第1のレーザ光源と前記第2のレーザ光源とを複数組備えたことを特徴とする請求項1〜14のいずれかに記載のレーザアニール装置。
- 請求項1〜15のいずれかに記載のレーザアニール装置を用い、
水素化非晶質半導体膜に対して、前記第1のレーザ光を照射して該第1のレーザ光が照射された領域の水素濃度を低減させるレーザ照射(A)と、
前記水素化非晶質半導体膜の前記第1のレーザ光が照射された領域の少なくとも一部に対して、前記第2のレーザ光を照射して該第2のレーザ光が照射された領域を結晶化させる第2のレーザ照射(B)とを実施することを特徴とするレーザアニール方法。 - レーザ照射(A)を実施している間に、レーザ照射(B)を開始することを特徴とする請求項16に記載のレーザアニール方法。
- 基板上に水素化非晶質半導体膜が形成された半導体膜基板に対して、請求項16又は17に記載のレーザアニール方法を実施して、製造されたものであることを特徴とする半導体膜基板。
- 請求項18に記載の半導体膜基板を用いて製造され、
前記水素化非晶質半導体膜においてレーザ照射(A)及びレーザ照射(B)が実施された結晶化領域内に形成された活性層を有する半導体装置を備えたことを特徴とする素子基板。 - 請求項18に記載の半導体膜基板を用いて製造され、
前記水素化非晶質半導体膜においてレーザ照射(A)及びレーザ照射(B)が実施されなかった非結晶化領域内に形成された活性層を有する第1の半導体装置と、
前記水素化非晶質半導体膜においてレーザ照射(A)及びレーザ照射(B)が実施された結晶化領域内に形成された活性層を有する第2の半導体装置とを備えたことを特徴とする素子基板。 - 請求項18に記載の半導体膜基板を用いて製造され、
画素電極と画素スイッチング用薄膜トランジスタとがマトリクス状に複数組形成された画素部と、該画素部を駆動する、複数の駆動回路用薄膜トランジスタを用いて構成された駆動回路が形成された駆動部とを備えた素子基板であって、
前記画素スイッチング用薄膜トランジスタが、前記水素化非晶質半導体膜においてレーザ照射(A)及びレーザ照射(B)が実施されなかった非結晶化領域内に形成された活性層を有し、
前記駆動回路用薄膜トランジスタが、前記水素化非晶質半導体膜においてレーザ照射(A)及びレーザ照射(B)が実施された結晶化領域内に形成された活性層を有すること特徴とする素子基板。 - 請求項19〜21のいずれかに記載の素子基板を備えたことを特徴とする電気光学装置。
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