JP2008050181A - Si−SiC複合材料接合体の製造方法 - Google Patents

Si−SiC複合材料接合体の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 接合層中に、Si量が多い領域や含浸不良による欠陥がなく信頼性の高いSi−SiC複合材料接合体を提供する。
【解決手段】 複数の多孔質SiC成形体を作製する工程と、SiCを含有するフェノール樹脂系バインダーを調整する工程と、前記フェノール樹脂系バインダーを前記成形体の接着面に塗布して複数の多孔質成形体同士を接着する工程と、前記複数の成形体同士を接着させたフェノール樹脂系バインダーを加熱硬化処理してプリフォームを得る工程と、前記プリフォームを真空加熱処理により脱脂してフェノール樹脂を炭化させる工程と、前記プリフォームとSiを不活性ガス雰囲気中で加熱して溶融Siを非加圧で含浸させて複数のSi−SiC複合材料同士が接合層を介して一体化したSi−SiC複合材料接合体となす工程と、を含むことを特徴とするSi−SiC複合材料接合体の製造方法。
【選択図】 図1

Description

本発明は、Si−SiC複合材料接合体の製造方法に関するもので、さらに詳しくは、Si−SiC複合材料同士が接合層を介して一体化したSi−SiC複合材料接合体の製造方法に関するものである。
近年、半導体製造装置や液晶製造装置向け等の精密機械部品に関しては、軽量で高剛性な構成部品を製造する技術が求められている。
例えば、液晶製造装置用の部品として従来は、アルミニウム材料または鉄鋼材料が多く用いられてきたが、アルミニウム材料では剛性が小さすぎるし、鉄鋼材料では質量が重いという課題から、最近では軽量で高剛性な金属−セラミックス複合材料が注目されるようになってきている。
そこで、本発明者らは、Si金属マトリックス中にSiCセラミックスが強化材として複合されたSi−SiC複合材料を露光用反射鏡として応用する技術を提案している。(例えば、特許文献1を参照。)
しかしながら、近年、半導体製造装置や液晶製造装置向け等の精密機械部品に要求される構成部品の寸法が年々大きくなり、現在では1辺が2mを超える平板状の大型部品が必要とされるようになってきている。
ここで、金属−セラミックス複合材料の大型品を作製するためには、大型のプリフォームが必要とされるが、大型のプリフォームを一体物で作製しようとすると、強度不足のためにプリフォームの破損や欠陥を生じることが多かった。このため、部品寸法の大型化に限界があり、生産性良く大型品を作製することができなかった。
そこで、フェノール樹脂系接着剤で複数個のプリフォームを接着して大型のプリフォームを作製し、これに溶融Siを不活性ガス雰囲気中で非加圧で含浸させてSi−SiC複合材料の大型品を作製する試みがなされている。
特開2005−2179号公報
しかしながら、フェノール樹脂系接着剤で複数個のプリフォームを接着して大型のプリフォームを作製する方法では、加熱処理時にフェノール樹脂が発泡するため、溶融Siを含浸させた時に、接合層中にSi−SiC複合材料と比較してSi量が多い領域(所謂、Siリッチ層)ができるため、接合体の強度が低下するという課題を有していた。さらには、接合層への溶融Siの含浸不良による欠陥が発生するという信頼性の面での問題点も有していた。
本発明者らは前記の課題を解決するために鋭意検討を行い、接合層中に、Si量が多い領域や含浸不良による欠陥がなく信頼性の高いSi−SiC複合材料接合体を提供することを目的としている。
上記した本発明の目的は、下記した手段によって解決することができる。
(1)複数の多孔質SiC成形体を作製する工程と、SiCを含有するフェノール樹脂系バインダーを調整する工程と、前記フェノール樹脂系バインダーを前記成形体の接着面に塗布して複数の多孔質成形体同士を接着する工程と、前記複数の成形体同士を接着させたフェノール樹脂系バインダーを加熱硬化処理してプリフォームを得る工程と、前記プリフォームを真空加熱処理により脱脂してフェノール樹脂を炭化させる工程と、前記プリフォームとSiを不活性ガス雰囲気中で加熱して溶融Siを非加圧で含浸させて複数のSi−SiC複合材料同士が接合層を介して一体化したSi−SiC複合材料接合体となす工程と、を含むことを特徴とするSi−SiC複合材料接合体の製造方法。
本発明によれば、接合層中に、Si量が多い領域や含浸不良による欠陥がなく信頼性の高いSi−SiC複合材料接合体を提供できる効果がある。したがって、Si−SiC複合材料を用いた大型部品を作製することが可能となる。
図1に本発明のSi−SiC複合材料接合体を説明するための模式的断面図を示した。
図1に示すように、本発明に係るSi−SiC複合材料接合体は、複数(図1では2個)のSi−SiC複合材料1が接合層2を介して一体化された構造となっている。
なお、ここでは、接合層は拡大化されて模式的に図示されているが、実際の接合層の厚みとしては、厚くても、3mm以下である。
以下に、本発明をより具体的に説明する。
本発明では、複数の多孔質SiC成形体を作製する工程と、SiCを含有するフェノール樹脂系バインダーを調整する工程と、前記フェノール樹脂系バインダーを前記成形体の接着面に塗布して複数の多孔質成形体同士を接着する工程と、前記複数の成形体同士を接着させたフェノール樹脂系バインダーを加熱硬化処理してプリフォームを得る工程と、前記プリフォームを真空加熱処理により脱脂してフェノール樹脂を炭化させる工程と、前記プリフォームとSiを不活性ガス雰囲気中で加熱して溶融Siを非加圧で含浸させて複数のSi−SiC複合材料同士が接合層を介して一体化したSi−SiC複合材料接合体となす工程と、を含むことを特徴とするSi−SiC複合材料接合体の製造方法を提案している。
本発明において、Si−SiC複合材料を提案する理由は、前記したように軽量で、かつ、高剛性であるため半導体製造装置用の部材として好適に用いることができるからである。特に、Si−SiC複合材料は、熱膨張係数が小さく、熱伝導率も良いので、温度上昇による幾何精度への影響を大幅に低減できる特長を有するものである。
ここで、セラミックス強化材としてのSiC含有率は、30〜80体積%であるこが好ましい。その理由は、強化材であるSiCの含有率が30体積%より少ないと、Si−SiC複合材料の剛性が低くなり構造部材への適用が困難になるためであり、逆に、SiCの含有率が80体積%より多いと好ましくない理由は、80体積%を超える多孔質成形体自体の作製が困難だからである。
次に、本発明のSi−SiC複合材料用の多孔質SiC成形体を作製する工程としては、公知の方法が適用できる。即ち、SiC粉末に、必要に応じて炭素を添加したものに、バインダー(バインダーとしては、フェノール樹脂が好適に用いられる。)を添加したものを原料として用いて、これを金型によりプレス成形する方法などが挙げられる。
ここで、成形体におけるSiC含有率は、Si−SiC複合材料におけるSiC含有率と略して等しいことから、上記した理由により30〜80体積%であるこが好ましい。
次に、本発明では、SiCを含有するフェノール樹脂系バインダーを調整する工程と、前記フェノール樹脂系バインダーを前記成形体の接着面に塗布して複数の成形体同士を接着する工程を提案している。
ここで、バインダーとしてフェノール樹脂系バインダーを選定した理由は、150℃程度の温度で硬化するため、成形体の保形剤となるだけではなく、フェノール樹脂を炭化して得られる炭素が、溶融Siを不活性ガス雰囲気中で非加圧で含浸させる際の含浸促進剤となるからである。さらに、フェノール樹脂は熱硬化性を有する樹脂の中でも、特に残炭率が高いからである。また、フェノール樹脂系バインダー中にSiCを含有させる理由は、フェノール樹脂が熱処理により発泡してもSiC粉末がフェノール樹脂の間に介在することで、Siが多い領域がなくなるという作用があるからである。
また、SiCを含有するフェノール樹脂系バインダーを調整する工程に際しては、バインダー中に占めるSiCの含有率が、Si−SiC複合材料用の多孔質SiC成形体におけるSiC含有率と同等であることが好ましい。その理由は、バインダー中のSiC含有率が多孔質SiC成形体の含有率より低い場合、Siを含浸して得られる接合層の剛性が低くなり、その接合層を介して一体化したSi−SiC複合材料自体の信頼性が低下するからである。
ここで、フェノール樹脂系バインダーのSiCの含有率を所定の値に調整するためには、異なる粒度分布を有する複数のSiC粉末を混ぜて用いることが好ましい。例えば、市販の信濃電気製錬社製のSiC粉末(品番:♯180、平均粒径70μm)やSiC粉末(品番:♯800、平均粒径14μm)などを用いることができる。
このようにしてフェノール樹脂系バインダーのSiCの含有率を所定の値に調整したバインダーを前記成形体の接着面に塗布して複数の成形体同士を接着する。
次に、前記複数の成形体同士を接着させたフェノール樹脂系バインダーを加熱硬化処理すれば、バインダーが加熱処理により硬化してプリフォーム同士の接着強度を増してハンドリング性が良好な保形性のあるプリフォームを得ることができる。この際の加熱硬化温度としては、フェノール樹脂が硬化する150℃程度の温度が用いられる。
次に、前記プリフォームをSiと一緒に炉内に設置して、真空加熱処理によりプリフォームの十分な脱脂(フェノール樹脂の炭化)工程を経た後に、溶融したSiを不活性ガス雰囲気中で非加圧で含浸させて複数のSi−SiC複合材料同士が接合層を介して一体化したSi−SiC複合材料接合体を得ることができる。
以下に、実施例と比較例により本発明を詳細に説明する。
(実施例)
(1)SiC多孔質成形体の作製
強化材としては、市販の信濃電気製錬社製のSiC粉末(配合質量比:品番♯180:品番♯800=60:40)を用い、これにフェノール樹脂(10質量%)を添加して、金型による熱プレスを行い500×100×10mmの形状に成形して、SiC含有率が70体積%である成形体を複数個用意した。
(2)フェノール樹脂系バインダーの調整
フェノール樹脂としては、市販の昭和高分子社製の液体フェノールを用いた。前記成形体と同様な配合比を有するSiC粉末に液体フェノールを30質量%添加したものを混合してフェノール樹脂系バインダーを調整した。
(3)成形体の接着とバインダーの加熱硬化
フェノール樹脂系バインダーを2個の成形体の接合面(500×10mmの端面)に塗布して成形体同士を接着し、次に、150℃で3時間加熱処理して硬化させ、保形性のあるプリフォームを得た。
(4)プリフォームの脱脂とSi−SiC複合材料接合体の作製
次に、当該プリフォームをSiとともに炉内に設置し、真空1200℃で12時間保持することで脱脂してフェノール樹脂を炭化した後に1550℃に昇温し、6時間加熱して溶融Siをプリフォームに含浸させた。その際、接合層にも、プリフォームと同様にSiが含浸し、本発明に係る複数のSi−SiC複合材料が接合層を介して一体化されたSi−SiC複合材料接合体を得た。
(5)評価
得られたSi−SiC複合材料接合体の接合層を目視し観察した結果、接合層に亀裂等の不良はなかった。また、接合層を含む断面を光学顕微鏡にて観察した結果、接合層中にSi−SiC複合材料と比較してSi量が多い領域(所謂、Siリッチ層)は、認められなかった。また、接合層への溶融Siの含浸不良も認められなかった。
(比較例)
比較のために、フェノール樹脂系バインダーにSiCを含有させなかった以外は、上記実施例と全く同様にしてSi−SiC複合材料接合体を作製した。
得られたSi−SiC複合材料接合体の接合層を目視し観察した結果、接合層に亀裂が観察された。また、接合層を含む断面を光学顕微鏡にて観察した結果、接合層中にSi−SiC複合材料と比較してSi量が多い領域が観察された。
以上説明したように、本発明によれば、接合層中に、Si量が多い領域や含浸不良による欠陥がなく信頼性の高いSi−SiC複合材料接合体が得られることが分かった。
したがって、本発明によりSi−SiC複合材料接合体を用いた大型部品を作製することが可能となり、産業上の利用分野を拡大することができる。
本発明のSi−SiC複合材料接合体を説明するための模式的断面図である。
符号の説明
1;Si−SiC複合材料
2; 接合層

Claims (1)

  1. 複数の多孔質SiC成形体を作製する工程と、SiCを含有するフェノール樹脂系バインダーを調整する工程と、前記フェノール樹脂系バインダーを前記成形体の接着面に塗布して複数の多孔質成形体同士を接着する工程と、前記複数の成形体同士を接着させたフェノール樹脂系バインダーを加熱硬化処理してプリフォームを得る工程と、前記プリフォームを真空加熱処理により脱脂してフェノール樹脂を炭化させる工程と、前記プリフォームとSiを不活性ガス雰囲気中で加熱して溶融Siを非加圧で含浸させて複数のSi−SiC複合材料同士が接合層を介して一体化したSi−SiC複合材料接合体となす工程と、を含むことを特徴とするSi−SiC複合材料接合体の製造方法。
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