JP2008046632A - 積層周期構造の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1の材料の最終周期格子構造及び、最終周期格子構造における個々の構造(features)の間を充填する第2の材料で構成された構造層を形成する工程と、第1の化学プロセスを用いて第2の材料を除去する工程と、第2の化学プロセスを用いて第1の材料の少なくとも一部を第3の材料にアニールする工程と、を含む。
【選択図】なし
Description
Claims (22)
- 部材の周期格子構造を製造する方法であって、
第1の材料の最終周期格子構造及び、前記最終周期格子構造における個々の構造(features)の間を充填する第2の材料で構成された構造層を形成する工程と、
第1の化学プロセスを用いて前記第2の材料を除去する工程と、
第2の化学プロセスを用いて前記第1の材料の少なくとも一部を第3の材料にアニールする工程と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記第2の化学プロセスは酸化及び窒化からなるグループから選択されることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記アニール工程が、プラズマアシストプロセスを含むことを特徴とする請求項2記載の方法。
- 複数の構造層を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記第2の材料の絶縁層により、前記構造層から分離した追加構造層を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項4記載の方法。
- 前記第1の材料の窒化物濃度が第3の材料の窒化物濃度より低いことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記第3の材料の窒化物濃度が、前記周期格子構造の表面から前記周期格子構造の中心にかけて、実質的に減少することを特徴とする請求項6記載の方法。
- 前記第1の材料がAlであることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記第3の材料がAlOxNy(x≧0、y≧0)であり、
前記第2の化学プロセスは、プラズマアシスト窒化及びプラズマアシスト酸化を含むグループから選択されることを特徴とする請求項8記載の方法。 - 前記第1の材料がSiであり、
前記第3の材料がSiOxNy(x≧0、y≧0)であり、
前記第2の化学プロセスは、プラズマアシスト窒化及びプラズマアシスト酸化を含むグループから選択されることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 前記第1の材料がZrO2であり、
前記第3の材料がZrOxNy(x≧0、y≧0)であり、
前記第2の化学プロセスは、プラズマアシスト窒化及びプラズマアシスト酸化を含むグループから選択されることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 前記第1の材料がHfOx1Ny1であり、
前記第3の材料がHfOx2Ny2((y2/x2)≧(y1/x1))であり、
前記第2の化学プロセスは、プラズマアシスト窒化及びプラズマアシスト酸化を含むグループから選択されることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 前記第1の材料がNbOx1Ny1であり、
前記第3の材料がNbOx2Ny2((y2/x2)≧(y1/x1))であり、
前記第2の化学プロセスは、プラズマアシスト窒化及びプラズマアシスト酸化を含むグループから選択されることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 前記第1の材料がTiOx1Ny1であり、
前記第3の材料がTiOx2Ny2((y2/x2)≧(y1/x1))であり、
前記第2の化学プロセスは、プラズマアシスト窒化及びプラズマアシスト酸化を含むグループから選択されることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 前記第2の材料がSiであり、
前記第1の化学プロセスは、
プラズマアシスト酸化反応により、前記SiをSiOxにアニールする工程と、
前記SiOxをエッチングする工程と、
を含むことを特徴とする請求項1記載の方法。 - 前記構造層の表面と第4の材料の層の表面とを結合する工程を更に含むことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記構造層を形成する工程が、
前記第2の材料の犠牲層を基板材料の層上に提供する工程と、
前記犠牲層の表面から前記基板材料の層まで伸長する一つまたは複数の開口部により構成されるパターンを前記犠牲層に形成する工程と、
前記第1の材料で前記パターンを充填する工程と、
前記犠牲層を除去する工程と、
を有することを特徴とする請求項1記載の方法。 - 前記犠牲層は選択的エッチングにより除去されることを特徴とする請求項17記載の方法。
- 前記パターンは、原子層蒸着(atomic layer deposition)を用いて充填されることを特徴とする請求項17記載の方法。
- 前記パターンは、化学気相蒸着を用いて充填されることを特徴とする請求項17記載の方法。
- 部材の構造を製造する方法であって、
遷移材料層を形成する工程と、
前記遷移材料層をパターニングする工程と、
パターニングされた前記遷移材料層の間に犠牲層を充填する工程と、
前記犠牲層及びパターニングされた前記遷移材料層の表面を平らにする工程と、
絶縁層を形成する工程と、
第2の遷移材料層を形成する工程と、
前記第2の遷移材料層をパターニングする工程と、
第1の化学プロセスを用いて第1及び第2の犠牲層を除去する工程と、
第2の化学プロセスを用いて前記部材における遷移材料の一部を最終材料にアニールする工程と、
を含むことを特徴とする方法。 - 複数の構造層を有する部材を製造する方法であって、
透明基板の上に遷移材料の複数の構造層を配置する工程と、
前記複数の構造層を前記透明基板に結合する工程と、
前記構造層の前記遷移材料を最終材料にアニールする工程と、
を含むことを特徴とする方法。
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