JP2008034705A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 共通の化合物半導体基板上に二つの保護ダイオードが形成され、二つの保護ダイオードの電極上に薄膜キャパシタがそれぞれ積層され、アンチシリーズに接続される二つの保護ダイオードのアノード電極に接続する二つの端子間に、並列に薄膜キャパシタが接続するように金属薄膜を接続する。
【選択図】 図2
Description
Claims (3)
- 薄膜キャパシタと、アンチシリーズに接続した二つのダイオードとを並列に接続した半導体装置であって、
半導体基板上にアノード電極を備えた二つのダイオードと、
該ダイオードのアノード電極上に、誘電体薄膜と金属薄膜を積層した薄膜キャパシタ部と、
前記二つのダイオードの前記アノード電極に接続する二つの端子間に、並列に前記薄膜キャパシタが接続するように、一方の前記ダイオードのアノード電極と他方の前記ダイオードのアノード電極上に積層した前記金属薄膜とを接続する接続手段とを備えていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、前記薄膜キャパシタ部は、前記アノード電極上に積層した前記誘電体薄膜及び金属薄膜上に、更に誘電体薄膜及び金属薄膜が積層しており、前記二つのダイオードの前記アノード電極が接続する二つの端子間に、並列に複数の前記薄膜キャパシタが接続するように、一方の前記ダイオード上に積層した前記金属薄膜と他方の前記ダイオード上に積層した前記金属薄膜とを接続する接続手段を備えていることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1または2いずれか記載の半導体装置において、前記ダイオードは化合物半導体のpn接合構造またはpin接合からなることを特徴とする半導体装置。
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