JP2008032581A5 - - Google Patents

Claims (18)

1. 表面検査装置において、前記被検査物を走査可能に構成された回転移動手段と並進移動手段を有する被検査物移動ステージと、レーザ光源と、前記レーザ光源から発せられるレーザ光を被検査物表面上に照射する照明手段と、前記照明スポットからの光を検出して電気信号に変換する光検出手段と、前記電気信号をデジタルデータに変換するＡ／Ｄ変換器と、前記Ａ／Ｄ変換によって得られるデジタルデータから異物や欠陥の大きさを算出する粒径算出機構とを備え、前記Ａ／Ｄ変換手段はサンプリング時間間隔で前記電気信号をサンプリングし、前記粒径算出機構は前記Ａ／Ｄ変換器から得られるデジタルデータに低周波変動成分を除去する処理を施した結果を用いて異物・欠陥検出を行う構成としたことを特徴とする表面検査装置。
2. 請求項１記載の表面検査装置において、前記低周波変動成分を除去する処理は、前記照明スポット内を通過する時間内に前記電気信号からサンプリングされた複数のデジタルデータに対してデジタルフィルタ処理を施すことにより成されることを特徴とする表面検査装置。
3. 請求項２記載の表面検査装置において、前記デジタルフィルタ処理は、前記低周波変動成分を除去する周波数帯域制限フィルタ処理であることを特徴とする表面検査装置。
4. 請求項３記載の表面検査装置において、前記周波数帯域制限フィルタ処理は、前記低周波変動成分を抽出するローパスフィルタ処理であり、前記Ａ／Ｄ変換によって得られるデジタルデータから前記ローパスフィルタ処理の結果を差し引くように構成したことを特徴とする表面検査装置。
5. 請求項３記載の表面検査装置において、前記周波数帯域制限フィルタ処理は、前記低周波変動成分を除去するハイパスフィルタ処理またはバンドパスフィルタ処理であることを特徴とする表面検査装置。
6. 請求１に記載の表面検査装置において、前記デジタルフィルタ処理のＣｕｔ−ｏｆｆ周波数を可変にしたことを特徴とする表面検査装置。
7. 請求項６記載の表面検査装置において、前記粒径算出機構は、（１）被検査物移動ステージの回転速度、（２）前記座標検出手段から得られる座標位置、（３）照明スポットの大きさ、のいずれか一つまたは複数の組み合わせに基づいて前記周波数帯域制限フィルタ処理のＣｕｔ−ｏｆｆ周波数を決定し、前記情報に応じて随時設定されるよう構成したことを特徴とする表面検査装置。
8. 請求項７記載の表面検査装置において、前記粒径算出機構が前記周波数帯域制限フィルタ処理のＣｕｔ−ｏｆｆ周波数を決定する際に、更に被検査物表面上の、（１）作成された膜種や膜厚、（２）表面粗さ、（３）結晶方位、（４）反り量、のいずれか一つまたは複数の情報の組み合わせを用いるように構成したことを特徴とする表面検査装置。
9. 被検査物を走査しながら前記被検査物表面上または表面近傍内部に存在する異物や欠陥を検出する表面検査方法において、被検査物移動ステージと、レーザ光源と、前記レーザ光源から発せられるレーザ光を被検査物表面上の照明スポットに照射する照明手段と、前記照明スポットからの光を検出して電気信号に変換する光検出手段と、前記電気信号をデジタルデータに変換するＡ／Ｄ変換手段と、前記Ａ／Ｄ変換手段によって得られるデジタルデータから異物や欠陥の大きさを算出する粒径算出手段とを備え、前記Ａ／Ｄ変換手段は概略一定のサンプリング時間間隔で前記電気信号をサンプリングし、前記粒径算出手段は前記Ａ／Ｄ変換手段から得られるデジタルデータに低周波変動成分を除去する周波数帯域制限フィルタ処理を施した結果を用いて異物・欠陥検出を行い、前記周波数帯域制限フィルタ処理のＣｕｔ−ｏｆｆ周波数は可変であることを特徴とする表面検査方法。
10. 請求項９記載の表面検査方法において、前記周波数帯域制限フィルタ処理は、前記低周波変動成分を抽出するローパスフィルタ処理であり、前記Ａ／Ｄ変換手段によって得られるデジタルデータから前記ローパスフィルタ処理の結果を差し引くようにしたことを特徴とする表面検査方法。
11. 前記請求項９記載の表面検査方法において、前記周波数帯域制限フィルタ処理は、前記低周波変動成分を除去するハイパスフィルタ処理またはバンドパスフィルタ処理であることを特徴とする表面検査方法。
12. 請求項９から１１のいずれかに記載の表面検査方法において、前記周波数帯域制限フィルタ処理のＣｕｔ−ｏｆｆ周波数を、（１）被検査物移動ステージの主走査回転速度、（２）前記座標検出手段から得られる副走査方向の座標位置、（３）照明スポットの大きさ、（４）作成された膜種や膜厚、（５）被検査物の表面粗さ、（６）被検査物の結晶方位、（７）被検査物の反り量、のいずれか一つまたは複数の組み合わせに基づいて決定し、前記条件が変化する毎に設定するよう構成したことを特徴とする表面検査方法。
13. 被検査物から得られた検査信号に基づいて表面検査を行う表面検査装置において、得られた検査信号をデジタルフィルタリングするデジタルフィルタ部と、該デジタルフィルタリングのパラメータを検査中に動的に変化させるパラメータ変化部とを有することを特徴とする表面検査装置。
14. 被検査物から得られた検査信号に基づいて表面検査を行う表面検査装置において、得られた検査信号をデジタルフィルタリングするデジタルフィルタ部と、前記検査信号が得られた被検査物の位置情報を取得する位置情報取得部と、該位置情報取得部からの情報に基づいて、前記デジタルフィルタリングのパラメータを変化させるパラメータ変化部とを有することを特徴とする表面検査装置。
15. 請求項１４において、
    前記位置情報は、少なくとも得られた検査信号に対応した被検査物の半径位置情報であることを特徴とする表面検査装置。
16. 被検査物から得られた検査信号に基づいて表面検査を行う表面検査方法において、得られた検査信号をデジタルフィルタリングするデジタルフィルタ処理と、該デジタルフィルタリングのパラメータを検査中に動的に変化させるパラメータ変化処理とを有することを特徴とする表面検査方法。
17. 被検査物から得られた検査信号に基づいて表面検査を行う表面検査方法において、得られた検査信号をデジタルフィルタリングするデジタルフィルタ処理と、前記検査信号が得られた被検査物の位置情報を取得する位置情報取得処理と、該位置情報取得処理からの情報に基づいて、前記デジタルフィルタリングのパラメータを変化させるパラメータ変化処理とを有することを特徴とする表面検査方法。
18. 請求項１７において、
    前記位置情報は、少なくとも得られた検査信号に対応した被検査物の半径位置情報であることを特徴とする表面検査方法。