JP5689918B2 - 試料の状態を評価するための装置及び方法 - Google Patents
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Description
(A=膜種、膜厚、表面粗さ、結晶方位、反り量から規定)
膜種、膜厚、表面粗さ、結晶方位、反り量はユーザーにて設定し、装置内にて演算する。
101…チャック
102…被検査物体移動ステージ
103…回転ステージ
104…並進ステージ
105…Zステージ
106…検査座標検出機構
107…上位CPU
108…ヘイズ判定機構
109…ヘイズ座標検出機構
110…照明・検出光学系
111…増幅器
112…A/D変換器
113…可変ローパスフィルタ
114…演算器
115…ヘイズ値データを参照メモリ
120…検出データ処理部
121…検出データ処理部
122…検出データ処理部
123…検出データ処理部
124…検出データ処理部
125…検出データ処理部
200…照明光の光源
201…照射ビーム
202…照射レンズ
203…照明スポット
206…異物・欠陥
205…集光レンズ
207…光検出器
210…光検出器
211…光検出器
212…光検出器
213…光検出器
214…光検出器
215…レーザ入射
500…散乱光強度の信号成分
501…欠陥信号の高周波数分が畳重したヘイズ周波数成分
502…異物・欠陥の高周波数分を除去したヘイズ周波数成分
503…従来しきい値
504…本実施例後しきい値
Claims (16)
- 試料に照明光を供給する照明光学系と、
前記試料からの光を検出し、信号を出力する検出光学系と、を有し、
前記検出光学系は、第1の信号を出力するための第1の光検出器、及び前記第1の光検出器とは異なる位置に配置された第2の信号を出力するための第2の光検出器を含み、
さらに、処理部を有し、
前記処理部は、前記第1の信号から第1の低周波数成分を得て、さらに前記第2の信号から第2の低周波数成分を得て、
前記第1の低周波数成分と予め定められた第1の検出閾値または正常と規定された第1のヘイズ値データである第1の値とを比較し、前記第2の低周波数成分と予め定められた第2の検出閾値または正常と規定された第2のヘイズ値データである第2の値とを比較し、
前記処理部は、前記第1の信号、及び前記第2の信号に対して、周波数フィルタリングを行うことで前記第1の低周波数成分、及び前記第2の低周波数成分を得、
前記試料を回転、及び直進させる搬送系を有し、
前記処理部は、前記第1の低周波数成分を得るための第1のカットオフ周波数、及び前記第2の低周波数成分を得るための第2のカットオフ周波数を前記搬送系に関する情報と前記照明光に関する情報と前記試料に関する情報を組み合わせて決定する、試料の状態を評価するための装置。 - 請求項1に記載の試料の状態を評価するための装置において、
前記第1の光検出器、及び前記第2の光検出器は前記第1の低周波数成分、及び前記第2の低周波数成分が前記試料からの光の反射方向ごとに特徴付くよう配置される、試料の状態を評価するための装置。 - 請求項2に記載の試料の状態を評価するための装置において、
前記処理部は、前記第1の信号、及び前記第2の信号に対して、周波数フィルタリングを行うことで前記第1の低周波数成分、及び前記第2の低周波数成分を得る、試料の状態を評価するための装置。 - 請求項3に記載の試料の状態を評価するための装置において、
前記試料を回転、及び直進させる搬送系を有し、
前記処理部は、前記第1の低周波数成分を得るための第1のカットオフ周波数、及び前記第2の低周波数成分を得るための第2のカットオフ周波数を前記搬送系に関する情報と前記照明光に関する情報と前記試料に関する情報を組み合わせて決定する、試料の状態を評価するための装置。 - 請求項4に記載の試料の状態を評価するための装置において、
前記処理部は、前記第1の値、及び前記第2の値を前記試料上の領域に応じて変更する、試料の状態を評価するための装置。 - 請求項5に記載の試料の状態を評価するための装置において、
前記処理部は、前記第1の値、及び前記第2の値を前記試料上の所定の面積に応じて変更する、試料の状態を評価するための装置。 - 請求項1に記載の試料の状態を評価するための装置において、
前記処理部は、前記第1の値、及び前記第2の値を前記試料上の領域に応じて変更する、試料の状態を評価するための装置。 - 請求項1に記載の試料の状態を評価するための装置において、
前記処理部は、前記第1の値、及び前記第2の値を前記試料上の所定の面積に応じて変更する、試料の状態を評価するための装置。 - 試料に照明光を供給する照明光学系と、
前記試料からの光を検出し、信号を出力する検出光学系と、を有し、
前記検出光学系は、第1の信号を出力するための第1の光検出器、及び前記第1の光検出器とは異なる位置に配置された第2の信号を出力するための第2の光検出器を含み、
さらに、処理部を有し、
前記処理部は、前記第1の信号から第1の低周波数成分を得て、さらに前記第2の信号から第2の低周波数成分を得て、
前記第1の低周波数成分と予め定められた第1の検出閾値または正常と規定された第1のヘイズ値データである第1の値とを比較し、前記第2の低周波数成分と予め定められた第2の検出閾値または正常と規定された第2のヘイズ値データである第2の値とを比較し、
前記処理部は、前記第1の信号、及び前記第2の信号に対して、周波数フィルタリングを行うことで前記第1の低周波数成分、及び前記第2の低周波数成分を得、
前記試料を回転、及び直進させる搬送系を有し、
前記処理部は、前記第1の低周波数成分を得るための第1のカットオフ周波数、及び前記第2の低周波数成分を得るための第2のカットオフ周波数を前記搬送系に関する情報と前記照明光に関する情報と前記試料に関する情報を組み合わせて決定する、試料の状態を評価するための方法。 - 請求項9に記載の試料の状態を評価するための方法において、
前記第1の光検出器、及び前記第2の光検出器は前記第1の低周波数成分、及び前記第2の低周波数成分が前記試料からの光の反射方向ごとに特徴付くよう配置される、試料の状態を評価するための方法。 - 請求項10に記載の試料の状態を評価するための方法において、
前記処理部は、前記第1の信号、及び前記第2の信号に対して、周波数フィルタリングを行うことで前記第1の低周波数成分、及び前記第2の低周波数成分を得る、試料の状態を評価するための方法。 - 請求項11に記載の試料の状態を評価するための方法において、
前記試料を回転、及び直進させる搬送系を有し
前記処理部は、前記第1の低周波数成分を得るための第1のカットオフ周波数、及び前記第2の低周波数成分を得るための第2のカットオフ周波数を前記搬送系に関する情報と前記照明光に関する情報と前記試料に関する情報を組み合わせて決定する、試料の状態を評価するための方法。 - 請求項12に記載の試料の状態を評価するための方法において、
前記処理部は、前記第1の値、及び前記第2の値を前記試料上の領域に応じて変更する、試料の状態を評価するための方法。 - 請求項13に記載の試料の状態を評価するための方法において、
前記処理部は、前記第1の値、及び前記第2の値を前記試料上の所定の面積に応じて変更する、試料の状態を評価するための方法。 - 請求項9に記載の試料の状態を評価するための方法において、
前記処理部は、前記第1の値、及び前記第2の値を前記試料上の領域に応じて変更する、試料の状態を評価するための方法。 - 請求項9に記載の試料の状態を評価するための方法において、
前記処理部は、前記第1の値、及び前記第2の値を前記試料上の所定の面積に応じて変更する、試料の状態を評価するための方法。
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