JP2008028157A - 半導体実装用テープキャリア及びその半導体パッケージ及び半導体実装用テープキャリアの製造方法 - Google Patents
半導体実装用テープキャリア及びその半導体パッケージ及び半導体実装用テープキャリアの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】半導体実装用テープキャリアは、開口する導通孔を形成し、導通孔の領域内にある配線の一端側であるリード部が、螺旋状に成形(フォーミング)されたパターンに形成したことを特徴とする半導体実装用テープキャリア。
【選択図】図1
Description
に関する。
要な場合には、インナーリード部及びバンプランドにSn(錫)の薄膜、Ag、Auの薄膜等を形成する。最後にバンプランドにはんだバンプを装着する。以上により従来の半導体実装用テープキャリアが製造される。なお、スルーホールの形成方法、無電解めっき、電解めっき、又は導通孔、スルーホール用孔等の樹脂埋め込み等は、公知の材料、方法を利用する。
ため、テープキャリアと半導体チップのボンディングパッドとを正確な位置に接続するには、テープキャリアと半導体チップとの段差からを含む距離を一定に保たなければならない。そのため、位置のあわせこみ等の手間が必要となり問題である。
半導体実装用テープキャリアは、開口する導通孔を形成し、導通孔の領域内にある配線の一端側であるリード部が、螺旋状に成形(フォーミング)されたパターンに形成したことを特徴とする半導体実装用テープキャリアである。
前記半導体実装用テープキャリアの配線の一端側であるリード部が螺旋状に成形(フォーミング)された形状で、撓ませた状態でボンディングパッドと電気的に接続されていることを特徴とする半導体パッケージである。
少なくとも以下の工程を含む構成により半導体実装用テープキャリアを製造することを特徴とする半導体実装用テープキャリアの製造方法である。
(a)支持体である絶縁基材に導通孔を穿孔する工程。
(b)前記絶縁基材と配線用の金属箔を貼り合せる工程。
(c)前記導通孔の領域内の金属箔にエッチング処理により、渦巻き状のリード部を形成する工程。
(d)前記渦巻き状のリード部に所定の治具を押圧し、螺旋状に成形(フォーミング)する工程。
、加熱板62を350〜430℃に昇温し、1〜3分間密着させて、渦巻き状のリード部31を加熱する。
1a…導通孔付き絶縁基材
2…(開口する)導通孔
3…(一端側の)リード部、インナーリード部
3b…フライングリード部
4…バンプランドのリード部、
4a…バンプランド
5…ソルダーレジスト
6…金属配線
6a…金属箔付き絶縁基材
7…はんだバンプ
7a…半田ボール
8…スルーホール
8a…スルーホール孔
9…エッチング防止層
10…半導体実装用テープキャリア
12…ボンディングパッド
20…半導体チップ
21…エラストマ
22…封止樹脂
31…渦巻き状リード部
32…螺旋状リード部
33…所定の治具、フォーミング用治具
40…絶縁基板裏側
50…絶縁基板表側
61、61a…クランプ
62…加熱板
63…上下軸
Claims (3)
- 支持基材である絶縁基材の表面上に金属からなる配線の回路を形成した半導体実装用テープキャリアの、実装する半導体チップの表面上のボンディングパッドと電気的に接続するための配線の一端側であるリード部と、はんだバンプと電気的に接続するための配線の他端側であるバンプランドのリード部とを形成する半導体実装用テープキャリアにおいて、
半導体実装用テープキャリアは、開口する導通孔を形成し、導通孔の領域内にある配線の一端側であるリード部が、螺旋状に成形(フォーミング)されたパターンに形成したことを特徴とする半導体実装用テープキャリア。 - 半導体チップの表面上に接着剤(エラストマ)を用いて、テープキャリアが貼り付けられ、そのテープキャリアの配線の一端側であるリード部が半導体チップの表面上のボンディングパッドと電気的に接続され、且つテープキャリアの配線の他端側であるバンプランドのリード部がはんだバンプと電気的に接続した、前記請求項1記載の半導体実装用テープキャリアを用いた半導体パッケージであって、
前記半導体実装用テープキャリアの配線の一端側であるリード部が螺旋状に成形(フォーミング)された形状で、撓ませた状態でボンディングパッドと電気的に接続されていることを特徴とする半導体パッケージ。 - 半導体実装用テープキャリアの絶縁基材の表面上に金属からなる配線を形成し、絶縁基材裏面にはんだバンプを形成した前記請求項1記載の半導体実装用テープキャリアの製造方法であって、
少なくとも以下の工程を含む構成により半導体実装用テープキャリアを製造することを特徴とする半導体実装用テープキャリアの製造方法。
(a)支持体である絶縁基材に導通孔を穿孔する工程。
(b)前記絶縁基材と配線用の金属箔を貼り合せる工程。
(c)前記導通孔の領域内の金属箔にエッチング処理により、渦巻き状のリード部を形成する工程。
(d)前記渦巻き状のリード部に所定の治具を押圧し、螺旋状に成形(フォーミング)する工程。
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JP2006199166A JP2008028157A (ja) | 2006-07-21 | 2006-07-21 | 半導体実装用テープキャリア及びその半導体パッケージ及び半導体実装用テープキャリアの製造方法 |
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Citations (5)
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JPS63177434A (ja) * | 1987-01-19 | 1988-07-21 | Hitachi Ltd | 電子部品の接続構造とその製造方法 |
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2006
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