JP2008024579A - 反応焼結窒化ケイ素基複合材料及びその製造方法 - Google Patents

反応焼結窒化ケイ素基複合材料及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008024579A
JP2008024579A JP2007069637A JP2007069637A JP2008024579A JP 2008024579 A JP2008024579 A JP 2008024579A JP 2007069637 A JP2007069637 A JP 2007069637A JP 2007069637 A JP2007069637 A JP 2007069637A JP 2008024579 A JP2008024579 A JP 2008024579A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon nitride
silicon
based composite
composite material
nitride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007069637A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5044797B2 (ja
Inventor
Hideki Hiuga
秀樹 日向
Naoki Kondo
直樹 近藤
Hidenori Kita
英紀 北
Takahiro Gama
隆弘 蒲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kubota Corp
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Kubota Corp
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kubota Corp, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST filed Critical Kubota Corp
Priority to JP2007069637A priority Critical patent/JP5044797B2/ja
Publication of JP2008024579A publication Critical patent/JP2008024579A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5044797B2 publication Critical patent/JP5044797B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

【課題】窒化ケイ素と比較して安価なケイ素を主原料として用いて、ケイ素の窒化過程を利用して作製した反応焼結窒化ケイ素基複合材料を提供する。
【解決手段】ケイ素を含む原料を用い、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結の行程を経た後、緻密化された窒化ケイ素基複合材料であって、Zrの酸化物及び/又は窒化物が分散した状態で含まれている、かつ、粒界相が少なくともAlとSiを含む酸化物又は酸窒化物の非晶質相である、ことを特徴とする窒化ケイ素基複合材料、その製造方法、及び出発原料として、ケイ素を含む原料を用い、酸化ジルコニウム及び焼結助剤を所定の配合によって混合、成形し、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結を行った後、昇温し、緻密化させることを特徴とするβサイアロン基セラミックスを含む窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
【効果】低コストで信頼性に優れた窒化ケイ素基複合材料を提供することができる。
【選択図】図2

Description

本発明は、反応焼結窒化ケイ素基複合材料及びその製造方法に関するものであり、更に詳しくは、構造部材として信頼性が高く、しかも安価な原料を用いて作製される窒化ケイ素基複合材料及びその製造方法に関するものである。本発明は、窒化ケイ素と比較して安価なケイ素を主原料として作製した高性能の反応焼結窒化ケイ素基複合材料、その製造方法及びその構造部材としての用途を提供するものである。
窒化ケイ素(Si)焼結体は、強度や耐熱衝撃性等に優れることから、エンジン用部品材料、ベアリング材料、工具材料等の各種構造用材料として開発が進められ、実用化が進められている。また、この窒化ケイ素焼結体の高性能化についても、様々な開発がなされ、高強度高靭性なものが得られている。
開発の例として、ジルコニア(ZrO)表面に焼結助剤を塗布後、焼結することによって、ジルコニアの窒化を抑制し、応力誘起変態による靭性を有効に発現させる手法もまた開発されている(特許文献1)。
また、先行技術文献においては、撥溶湯用部材用にZrOを分散させた反応窒化ケイ素焼結体(特許文献2)の開発例が示されているが、本材料は、密度が75−85%の多孔体であり、構造材料として使用するには、大きな気孔の存在が強度を低下させると類推できる。
窒化ケイ素粉末を使用した場合、高強度及び高靭性を有した高性能なセラミックス材料の作製が可能ではあるが、原料粉末の値段が高いため、部材としての値段は高くなる。また、焼結時の収縮が大きいために、品質管理が困難である。
一方、ケイ素粉末を使用した場合、原料コストは安価となるが、ケイ素の融点と反応焼結温度が近似しているため、発熱反応である窒化反応が進行することによって、ケイ素粉末の温度が融点以下となるように制御する必要があり、長い反応焼結時間が必要となる。また、通常、30ミクロン以上の粗大なケイ素粒子は、窒化されず、焼結体内部に存在し、機械的特性を損なうため、高強度及び高靭性を得ることが困難であった。
また、ケイ素の窒化を促す添加剤として、酸化鉄が知られている(非特許文献1)。しかし、酸化鉄は、ケイ素と反応し、ケイ化鉄を生成するが、同化合物は、窒化ケイ素粒子とぬれ難いため、欠陥となって、強度低下を生じてしまう。また、ケイ素も微細化すれば高強度化は可能となるが、もともと活性であるケイ素を長時間ボールミルによって粉砕する場合には、ケイ素と溶媒の反応を抑えるために、溶媒としてアルコールを使用せざるを得ない。
しかし、有機溶媒の使用は、コスト高になるだけでなく、環境負荷低減上の観点からも望ましいことではない。一方、水を使用する場合には、短時間の混合となり、その結果、ケイ素は微細化されず、粗粒のまま残ることとなる。通常、30ミクロン以上の粗大なケイ素粒子は、窒化されず、焼結体内部に存在し、機械的特性を損なうため、高強度及び高靭性を得ることが困難であった。
特開昭64−51377号公報 特開昭58−213677号公報 A. J. MOULSON, Review, Reaction-bonded silicon nitride: its formation and properties, JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE 14 (1979) pp.1017-1051
このような状況の中で、本発明者らは、上記従来技術に鑑みて、構造部材として信頼が高く、しかも安価に作製することが可能な新しい窒化ケイ素基複合材料を開発することを目標として鋭意研究を積み重ねた結果、粗いケイ素を主原料とする成形体を、できるだけ低温、短時間で、窒化と緻密化を完了する添加剤あるいは条件を明らかにすることにより、ケイ素を含む原料を用い、酸化ジルコニウムを添加して作製した窒化ケイ素基複合材料が実用構造部材として十分な特性を有することを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は、窒化ケイ素と比較して安価なケイ素を主原料として作製した高性能の反応焼結窒化ケイ素基複合材料、その製造方法及びその構造部材としての用途を提供することを目的とするものである。
上記課題を解決するための本発明は、以下の技術的手段から構成される。
(1)ケイ素を含む原料を用い、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結の行程を経た後、緻密化された窒化ケイ素基複合材料であって、1)Zrの酸化物及び/又は窒化物が分散した状態で含まれている、かつ、2)粒界相が少なくともAlとSiを含む酸化物又は酸窒化物の非晶質相である、ことを特徴とする窒化ケイ素基複合材料。
(2)マトリクスを形成する結晶相の主成分が、窒化ケイ素もしくは窒化ケイ素にAlが固溶したβ−サイアロン(Si6−ZAl8−Z)で構成され、かつそのZ値が0.5〜3である、前記(1)に記載の窒化ケイ素基複合材料。
(3)分散しているZrの酸化物及び/又は窒化物の粒径が、大きくても20ミクロンである、前記(1)又は(2)に記載の窒化ケイ素基複合材料。
(4)分散しているZrの酸化物及び/又は窒化物の体積分率が、20vol%を越えない、前記(1)から(3)のいずれかに記載の窒化ケイ素基複合材料。
(5)上記窒化ケイ素基複合材料において、粒界相にFeの酸化物もしくはケイ化物が分散された状態で含まれる、前記(1)から(4)のいずれかに記載の窒化ケイ素基複合材料。
(6)焼結体の密度が、95%以上の理論密度を有する、前記(1)から(5)のいずれかに記載の窒化ケイ素基複合材料。
(7)前記(1)から(5)のいずれかに記載の窒化ケイ素基複合材料を使用して高強度、高靭性及び高耐食性のいずれか一つ以上を付与したことを特徴とする構造部材。
(8)ケイ素を含む原料を用い、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結の行程を経た材料であって、Zrの酸化物及び/又は窒化物が分散した状態で含まれていることを特徴とする窒化ケイ素基複合材料。
(9)出発原料として、ケイ素を含む原料を用い、酸化ジルコニウム及び焼結助剤を所定の配合によって混合、成形し、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結を行った後、昇温し、緻密化させることを特徴とする窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
(10)酸化ジルコニウム2〜20重量部、スピネルを5〜10重量部をそれぞれ添加した混合粉末を、成形後、窒素を含む雰囲気中でケイ素を窒化ケイ素に転化した後、温度を上げ、緻密化する、前記(9)に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
(11)混合する酸化ジルコニウムが、Y、Mg又はCe元素の添加によって正方晶もしくは立方晶に少なくても90%が安定化されたジルコニアもしくは部分安定化ジルコニアである、前記(9)又は(10)に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
(12)酸化ジルコニウムが、酸化イットリウムにより部分的に安定化されている、前記(9)又は(10)に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
(13)酸化ジルコニウムが、2−3モルの酸化イットリウムの添加によって結晶相の少なくても90%が正方晶である、前記(12)に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
(14)窒化のための焼結温度が、1300〜1500℃の範囲であり、反応焼結後の焼成温度が、1650〜1950℃の範囲である、前記(9)又は(10)に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
(15)出発原料として、窒化ケイ素粉末を配合した原料を用いる、前記(9)又は(10)に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
(16)上記ケイ素粉末が、0.2−5%のFe元素を含む、前記(9)又は(10)に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
(17)上記ケイ素粉末が、粒径30ミクロン又はそれを上回る大きさの粒子を5−40%含む、前記(9)又は(10)に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
次に、本発明について更に詳細に説明する。
本発明は、ケイ素を含む原料を用い、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結の行程を経た後、緻密化された窒化ケイ素基複合材料であって、Zrの酸化物及び/又は窒化物が分散した状態で含まれている、かつ、粒界相が少なくともAlとSiを含む酸化物又は酸窒化物の非晶質相である、ことを特徴とするものである。
また、本発明は、上記窒化ケイ素基複合材料を製造する方法であって、出発原料として、ケイ素を含む原料を用い、酸化ジルコニウム及び焼結助剤を所定の配合によって混合、成形し、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結を行った後、昇温し、緻密化させることを特徴とするものである。このとき、使用する酸化ジルコニウムは、酸化イットリウムが固溶された正方晶酸化ジルコニウムを使用することで、窒化完了までに要する時間、あるいは温度、そして、窒化後に生成するαとβの比率をコントロールすることができる。このα/β比は、二段目の焼結に影響を及ぼす。
本発明では、以下の手段が採用される。すなわち、窒化の促進効果を有し、かつ焼結体中に存在したときに、応力誘起変態と熱膨張係数差による弱い界面を形成する酸化ジルコニウムを添加するとともに、窒化ケイ素表面の酸化ケイ素成分と液相を形成する焼結助剤成分を添加する。このことで、ケイ素と窒素の反応により窒化ケイ素を効率よく生成し、その後の焼結過程においては、焼結助剤が緻密化を促進することが可能となる。
また、焼結後に粒界部に分散した酸化ジルコニウム及び窒化ジルコニウムが効率的な強靱化をすることによって、密度が95%以上においても、実用部品として十分な特性を有する窒化ケイ素基複合材料を得ることが可能となる。また、原料ケイ素中に含まれるFeの不純物は、酸化ジルコニウム及び窒化ジルコニウムと同様に、粒界部に分散し、弱い界面を形成するため、同様に強靱化に寄与する。
上記窒化ケイ素基複合材料を作製する方法として、主原料としてケイ素粉末を用い、ZrO及び焼結助剤を所定の配合によって、混合及び成形し、窒素中において、反応焼結、引き続き昇温し、緻密化を促進させる。
本発明で主原料として使用されるケイ素粉末としては、粒径が30ミクロン以上の粒子を含むことが好ましく、それにより、成形時の粉末の流動性が向上することに加えて、より安価なケイ素粉末を入手することが可能となる。また、上記ケイ素粉末が0.2−5%のFe元素を含むことが望ましい。上記ケイ素粉末として、好適には、例えば、半導体用途で使用されるシリコンウェハー作製時の低純度原料(いわゆる金属シリコン、純度99%以下)もしくは低純度シリコンウェハーの粉砕粉で、いわゆる#200から#600相当のケイ素粉末が例示される。
混合酸化ジルコニウム粉末としては、好適には、例えば、一次粒径が100nm程度の微細粉が望ましいが、平均粒径が3ミクロンの粉末においても同様の効果が得られるため、著しく粗大な粒子径の粉末を使用しなければ問題とはならない。混合するZrOは、Y、MgもしくはCe等の元素によって安定化された安定化ジルコニアもしくは部分安定化ジルコニアを使用しても同様の効果が得られ、中でも、3モル程度の酸化イットリウムの添加された正方晶ジルコニアを使用することが好適である。
窒化のための焼結は、肉厚品の場合、通常は、1350〜1500℃の範囲で十分な時間をかけて行うことが望ましい。肉厚によっては、1300℃で5時間程度でも窒化は可能である。1300℃以下の場合、その場反応が終了しないため、その後の焼結過程において、未反応のケイ素が溶融揮発し、焼結体に欠陥を生じるとともに、焼結体に亀裂が生じる可能性がある。また、反応焼結後の焼成は、1650〜1950℃程度で行うことが望ましい。
本発明では、出発原料として、主原料のケイ素、ZrO及び焼結助剤以外に窒化ケイ素粉末を配合して、窒化に伴う急激な発熱を制御することが適宜可能である。以上により、Zrの酸化物及び/又は窒化物が分散した状態で含まれ、かつ粒界相が少なくともAlとSiを含む酸化物又は窒化物の非晶質相であることを特徴とする窒化ケイ素基複合材料が製造される。
上記窒化ケイ素基複合材料において、分散しているZrの酸化物及び/又は窒化物の粒径は、20ミクロン以下であることが好ましい。また、分散しているZrの酸化物及び/又は窒化物の体積分率は、20vol%を超えないことが好ましい。
本発明の窒化ケイ素基複合材料は、粒界相にFeの酸化物もしくはケイ化物が分散された状態で含まれることで、弱い界面を形成するため、強靭性が向上することもあるが、基本的に、窒化ケイ素とぬれ難いため、量を多くすると欠陥となってしまう。
窒化ケイ素粉末を使用して作製した焼結体は、高強度で信頼性に優れるが、コストが高い。一方、反応焼結窒化ケイ素焼結体は、原料コストは安価であるが、十分な信頼性を有する強度を持つ焼結体を得ることが困難である。本発明では、窒化ケイ素と比較して安価なケイ素を主原料とし、ケイ素の窒化過程を含む反応焼結窒化ケイ素基複合材料を作製するに際して、ZrOを添加することで、ケイ素の窒化反応を促進するとともに、ZrOと窒化ケイ素の熱膨張係数差に起因する引っ張り応力の効果で界面が弱くなり亀裂先端の応力を緩和することで、焼結体自体の強度も大きく向上し、信頼性のおける材料が作製可能となる。また、同時にFeが添加されることでその効果は更に大きくなり、優れた信頼性を有する反応焼結窒化ケイ素基複合材料を得ることが可能となる。
本発明により、次のような効果が奏される。
(1)本発明は、ケイ素を主原料として用いて、構造部材としての信頼性が高く、実用構造部材として十分な特性を有する窒化ケイ素基複合材料を低コストで作製し、提供することを可能とする。
(2)本発明の窒化ケイ素基複合材料は、相対密度が95%程度においても、高強度、強靭性を有する構造部材として好適に使用することが可能な優れた特性を有している。
(3)本発明では、安価な原料を用いて、短い反応焼結時間で、省エネルギーで、高強度及び高靭性を備えた高品質の窒化ケイ素基複合材料を製造し、提供することができる。
(4)従来の窒化ケイ素粉末を原料として用いて作製される窒化ケイ素焼結体と比べて、安価な部材の提供が可能である、製造時の品質管理が容易である、等の利点が得られる。
(5)反応焼結という手法を用いているために、焼結時の収縮が従来の窒化ケイ素原料を使用した場合と比較して小さいために、製品作製時の焼成後のばらつきが減るため、歩留まりが向上する。
(6)粗大なケイ素粒子も短時間、低温で窒化可能であることから、混合時の溶媒として、アルコールではなく、水の使用も可能であるため、低環境負荷で材料を得ることが可能である。
次に、実施例に基いて本発明を具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例によって何ら限定されるものではない。
高純度ケイ素1.8gに対して、Al、MgAl、MgO、Y、Fe、m−ZrO、3Y−ZrO、8Y−ZrOの粉末を、それぞれ0.2g添加し、エタノールを10mL加え、ボールミル混合を行った。混合後、乾燥した後、ケイ素の窒化挙動を確認するために、窒素中において、熱重量分析(TG)を行った。
熱重量分析の条件は、試料30mg、10℃/minで1400℃まで昇温し、保持時間無しで室温まで冷却した。なお、試験時の雰囲気は、N中であり、流量20ml/minで試験中は流し続けた。試験後の重量増化率を図1に示す。明らかにジルコニアを添加したものについては、いずれのジルコニアにおいても、重量増加が大きいことが確認された。ケイ素が窒化ケイ素になる場合は、以下の反応である。
3Si+2N→Si
この場合、質量は約1.67倍に増加する。すなわち、本試験結果は、ZrOの添加がケイ素の窒化を促進していることを示している。
表1に、使用した原料粉末の配合比を示す。これらの原料を秤量し、粉末総重量の1.5倍のエタノールとポリビニルブチラールを1%加え、ボールミルで約6時間、混合することによりスラリー化した後、スプレードライヤーを用いて、造粒粉を作製した。次に、内寸法が20×80mmの金型内に造粒粉を入れ、8.3MPaで加圧し、予備成形した後、ナイロン製の袋に入れ、内部を減圧することによって密封した。
これを、CIP装置にて200MPaの圧力で加圧し、成形体を得た。次に、0.2MPaのN雰囲気内において、550℃まで加熱することで脱脂処理を行い、0.93MPaのN雰囲気内において、最高1300℃まで加熱して反応焼結させた。また、その後、引き続き昇温を行い、1750℃で4時間の本焼結を行った。
図2に、1300℃まで昇温し、反応焼結を行った場合のX線回折を示す。また、図3に、その場合の重量増加より算出した窒化率を示す。ZrOを添加した開発材の場合、安定化剤であるYの添加量に依存せず、本温度において、すべての試料で窒化率が95%以上となるのに対して、比較材は、窒化率が60%以下であり、未反応のケイ素が大量に残っていることが確認された。また、本条件で、反応焼結体を1750℃で本焼成したところ、開発材は、いずれの場合も良好な焼結体が得られたのに対して、比較材は、いずれもケイ素が溶融し、焼結体の作製ができなかった。
表2に、使用した原料粉末の配合比を示す。これらの原料を秤量し、粉末総重量の1.5倍のエタノールとポリビニルブチラールを1%加え、ボールミルで約6時間、混合することによりスラリー化した後、スプレードライヤーを用いて、造粒粉を作製した。次に、内寸法が20×80mmの金型内に造粒粉を入れ、8.3MPaで加圧し、予備成形した後、ナイロン製の袋に入れ、内部を減圧することによって密封した。
これを、CIP装置にて200MPaの圧力で加圧し、成形体を得た。次に、0.2MPaのN雰囲気内において、550℃まで加熱することで脱脂処理を行い、0.93MPaのN雰囲気内において、最高1450℃まで加熱して反応焼結させた。また、その後、引き続き昇温を行い、1750℃で4時間の本焼結を行った。得られた焼結体を加工後、JISR1601に沿って4点曲げ強度の評価を行った。
図4に、その結果を示す。ZrOを添加した開発材の場合、いずれの試料も600MPa以上の強度を示し、比較材と比べて、高い強度を示すことが確認された。また、ZrOの添加量は、焼結体中の分率で1vol%以下(開発材11、ZrO約0.45vol%)においても、高強度化に寄与し、20vol%(開発材14、ZrO約20vol%)まで強靱化の挙動を示す。
しかしながら、20vol%以上の添加(開発材15、ZrO約26vol%)の添加においては、強度が低下する傾向を示す。また、強度に関しては、焼結助剤がMgAl(スピネル)の場合がAlと比較して、わずかに高い傾向を示すが、大きな優位性はなく、いずれの場合においても、高強度を示していた。
図5に、焼結体の微構造を示す。ジルコニアは、従来の窒化ケイ素の助剤と同様な粒界相成分として働くのではなく、分散した状態で焼結体中に存在していることが確認された。また、窒化ケイ素粒子は、従来の窒化ケイ素セラミックスの場合と同様に、柱状であることが確認された。図6に、TEMで観察した微構造を示す。窒化ケイ素のマトリクス中にジルコニウムの化合物が分散していることが確認された。また、界面には、熱膨張係数差に起因する剥離等は存在していないことも確認された。
表1に示した開発材1の組成を用い、これらの原料を秤量し、粉末総重量の1.5倍のエタノールとポリビニルブチラールを1%加え、ボールミルで約6時間、混合することによりスラリー化した後、スプレードライヤーを用いて、造粒粉を作製した。同様に、粉末総重量の1.5倍の蒸留水とポリビニルアルコールを1%加え、ボールミルで約6時間、混合することによりスラリー化した後、スプレードライヤーを用いて、造粒粉を作製した。次に、内寸法が20×80mmの金型内に造粒粉を入れ、8.3MPaで加圧し、予備成形した後、ナイロン製の袋に入れ、内部を減圧することによって密封した。
これを、CIP装置にて200MPaの圧力で加圧し、成形体を得た。次に、0.2MPaのN雰囲気内において、550℃まで加熱することで脱脂処理を行い、0.93MPaのN雰囲気内において、最高1400℃まで加熱して反応焼結させた。また、その後、引き続き昇温を行い、1750℃で4時間の焼結を行った。得られた焼結体を加工後、JISR1601に沿って、4点曲げ強度の評価を行った。
水で混合した場合と、アルコールで混合した場合の結晶相の違いを確認した場合、水で混合した場合は、ZrOが多く生じているのに対して、アルコールで混合した場合は、
ZrNの生成量が多いことが確認されたが、いずれの場合においても、800MPa程度の高い強度を示していた。これは、ZrOの応力誘起変態が、強靱化の主因子ではなく、マトリクスである窒化ケイ素と熱膨張差に起因する弱い界面が粒界で形成されるため、亀裂が界面に沿って進行し、強靱化を行っていることによると考えられる。
表3に、使用した原料粉末の配合比を示す。これらの原料を秤量し、粉末総重量の1.5倍のエタノールとポリビニルブチラールを1%加え、ボールミルで約6時間、混合することによりスラリー化した後、スプレードライヤーを用いて、造粒粉を作製した。次に、内寸法が20×80mmの金型内に造粒粉を入れ、8.3MPaで加圧し、予備成形した後、ナイロン製の袋に入れ、内部を減圧することによって密封した。
これを、CIP装置にて200MPaの圧力で加圧し、成形体を得た。次に、0.2MPaのN雰囲気内において、550℃まで加熱することで脱脂処理を行い、0.93MPaのN雰囲気内において、最高1450℃まで加熱して反応焼結させた。また、その後、引き続き昇温を行い、1750℃で4時間の本焼結を行った。得られた焼結体を加工後、JISR1601に沿って、4点曲げ強度の評価を行った。得られた焼結体内部では添加したFeがFe化合物(ケイ化物、FeSi)になっており、図7に示すように、界面には剥離している部分も確認された。
図8に、Feの添加量と強度の関係を示す。Feの添加量が5wt%までは700MPa以上の高い強度を示していたが、5wt%を越えると強度が大幅に低下した。これは、添加したFeが、焼結時にFe化合物になった場合、マトリクス界面との結合が弱く、少量の場合は亀裂を引き込み強靱化に寄与するが、ある一定量以上の添加をした場合、弱い界面同士が結合し、大きな欠陥となるためと考えられる。このため、5wt%以上添加することは望ましくない。
粒度の異なるケイ素粉末として、平均粒径2、30、80ミクロンの粉末を用いて、それぞれのケイ素粉末84.25gに対して、Al及び部分安定化ジルコニア3Y−ZrOをそれぞれ7.83gずつ添加し、粉末総重量の1.5倍のエタノールとポリビニルブチラールを1%加え、ボールミルで約6時間、混合することによりスラリー化した後、スプレードライヤーを用いて、造粒粉を作製した。同様に、粉末84.25gに対して、Al及びYをそれぞれ7.83gずつ添加した混合粉末も、また、同様に作製した。
次に、内寸法が20×80mmの金型内に造粒粉を入れ、8.3MPaで加圧し、予備成形した後、ナイロン製の袋に入れ、内部を減圧することによって密封した。これを、CIP装置にて200MPaの圧力で加圧し、成形体を得た。次に、0.2MPaのN雰囲気内において、550℃まで加熱することで脱脂処理を行い、0.93MPaのN雰囲気内において、最高1300℃まで加熱して反応焼結させた。
反応焼結後のケイ素の窒化率を比較すると、3Y−ZrOを添加した場合、いずれの粒径のケイ素粉末を使用した場合も、本反応焼結条件で90%以上の窒化率を示したのに対して、3Y−ZrOを添加していない場合、窒化率は、ケイ素の粒径が大きくなるにつれて低くなり、80ミクロンの出発原料を使用した場合には、窒化率約30%しか得られなかった。
図9に、Y量違いZrO添加がケイ素の窒化に及ぼす影響を調査した結果を示す。窒素気流中1300℃で保持した条件での重量増加挙動を熱天秤によって測定した。同図より、ケイ素のみを窒化した場合、一気に窒化が進行するのに対して、ジルコニアと共存させた試料では、いずれも窒化に伴う重量増加が緩慢となっていることがわかる。このことは、反応焼結過程の速度を速め、短時間で窒化できる可能性を示している。また、3モルのイットリアで安定化したジルコニアを使用すると、窒化に伴う重量増加も多くなっていることがわかった。
図10に、Si+助剤でなるペレットを成形、1300℃まで昇温し、ただちに降温、炉冷後、取り出し、重量を測定した結果を示す。種々の組み合わせの中で、スピネルとの同時添加も含めて、ジルコニアを含んだ助剤は、1300℃でも窒化促進に効果が認められることがわかった。特に、スピネルは、低温で液相を形成することが知られており、窒化と二段目の緻密化過程の低温化を考えた場合には、ジルコニアとスピネルの組み合わせは効果的である。
図11に、Y量違いZrO添加Si粉末の窒化後の生成相をXRDを使って調査した結果を示す。処理条件は、遊星ミル500rpm 1h粉砕粉、ZrO添加量:5wt%、窒化:1450℃×4H、とした。α(102)、α(210)、β(101)、β(210)ピーク強度からα比を算出した。いずれの試料も、窒化は完了していること、ケイ素の窒化により生成したα率は、ジルコニアの組成により異なることがわかった。これは、窒化と同時に窒化ケイ素の焼結メカニズムの一つである溶解再析出挙動が生じるためと考えられる。
つまり、通常、窒化後のケイ素の多くは、気相反応を経由して生成されるため、α相が主成分となるが、この反応焼結過程においても、少量のSiOを主成分とする液相が形成されている。本液相にα相の窒化ケイ素粒子は溶解し、β相として再析出する機構も同時に進行している。また、本試験で用いた3Y−ZrOに添加されている酸化イットリウムは、この溶解再析出にα相からβ相への変化を促進する効果を有しているため、添加されている酸化イットリウムが多い場合に、β相が多く生じていると考えられる。
図12に、窒化に及ぼす温度、時間の影響を明らかにするために、1300、1450℃で窒化した後の重量変化を測定した結果を示す。同図より、ZrO+MgAl添加系では、1300℃に到達した時点で、ほぼ窒化は完了していることがわかった。この結果は、先の熱天秤を使って得られた結果と矛盾しない。上述した試験結果から、窒化過程におけるジルコニア添加の効果を推定した。ケイ素粗粉末のみでは、反応速度速く、短時間表面が窒化され、その後、律速になる。なお、微粉末使用時には、発熱が伴うため、健全な制御は困難となる。
一方、ジルコニアを添加した系では、下記の反応が段階的に生じ、緩慢な反応で窒化が進む。それにより、昇温速度を高めることができ、窒化時間の短縮に繋がる。
0.5N[g]+ZrO[sl]=O[g]+ZrN[sl]
2SiO[sl]+ZrN[sl]=0.5N[g]+2SiO[g]+ZrO[sl]
2N[g]+3SiO[g]=1.5O[g]+Si[s]
表4に、本実施例で使用した原料粉末の配合比を示す。これらの原料を秤量し、粉末総重量の1.5倍のエタノールとポリビニルブチラールを1%加え、ボールミルで約6時間、混合することによりスラリー化した後、スプレードライヤーを用いて造粒粉を作製した。次に、内寸法が45×45mmの金型内に造粒粉を入れ、2MPaで加圧し、予備成形した後、ナイロン製の袋に入れ、内部を減圧することによって密封した。
これをCIP装置にて200MPaの圧力で加圧し、成形体を得た。次に、0.2MPaのN雰囲気内において、550℃まで加熱することで脱脂処理を行い、0.1MPaのN雰囲気内において、最高1450℃まで加熱して反応焼結させた。また、その後、引き続き昇温を行い、1750℃で8h、0.9MPaの窒素中において、本焼結を行った。
得られた焼結体の密度、開気孔率等をアルキメデス法において、測定を行った。また、加工後JISR1601に沿って4点曲げ強度の評価を行った。また、CFガスを用いたプラズマエッチング装置によって、対プラズマ性の評価を行った。図13に、焼結体の密度と開気孔率を示す。ZrOを添加しない場合、いずれの試料も密度が低く、開気孔率も大きく緻密化していなかった。一方で、ZrOを添加した場合は、密度も高くなり、開気孔率も小さな緻密体を得ることができた。
図14に、SiAlONのZ値と強度の関係を示す。ZrOを添加した試料では、無添加のものと比較して、明らかに強度が高いことが確認された。図15に、対プラズマ性を評価した試料のSEM像を示す。従来の窒化ケイ素セラミックスは、粒子自体がプラズマによって腐食されているのに対して、ZrOを添加したSiAlONの場合粒子等の腐食は、全く確認されず、従来のSiAlONセラミックスと同等の特徴を有していた。
以上詳述したように、本発明は、反応焼結窒化ケイ素基複合材料及びその製造方法に係るものであり、本発明により、低コストで、構造部材として信頼性に優れた、窒化ケイ素基複合材料を製造し、提供することが可能となる。本発明の反応焼結窒化ケイ素基複合材料は、安価な原料を用いて作製することが可能であり、本発明は、高強度及び高靭性を有し、構造部材として好適に使用することができる高性能なセラミックス材料及び高耐食性を有する高性能なセラミックスを提供することを可能とするものである。
TG後の粉末の窒化率を示す。 1300℃反応焼結体のX線回折を示す。 1300℃まで昇温した場合のケイ素の窒化率を示す。 焼結体の4点曲げ強度を示す。 焼結体のエッチング面(3Y−ZrO、MgAl添加)を示す。 焼結体TEM像(3Y−ZrO、MgAl添加)を示す。 Feの添加量と強度の関係を示す。 焼結体内部のFe化合物粒子を示す。 Y量違いZrO添加がケイ素の窒化に及ぼす影響を調査した結果を示す。 Si+助剤でなるペレットを成形、1300℃まで昇温し、ただちに降温、炉冷後、取り出し、重量測定した結果を示す。 Y量違いZrO添加Si粉末の窒化後の生成相をXRDを使って調査した結果を示す。 窒化に及ぼす温度、時間の影響を明らかにするために、1300、1450℃で窒化した後の重量変化を測定した結果を示す。 開発材及び比較材を同温度で焼結した場合の密度と開気孔率を示す。 開発材及び比較材を同温度で焼結した場合の四点曲げ強度を示す。 プラズマエッチング後の試料表面のSEM写真を示す。

Claims (17)

  1. ケイ素を含む原料を用い、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結の行程を経た後、緻密化された窒化ケイ素基複合材料であって、(1)Zrの酸化物及び/又は窒化物が分散した状態で含まれている、かつ、(2)粒界相が少なくともAlとSiを含む酸化物又は酸窒化物の非晶質相である、ことを特徴とする窒化ケイ素基複合材料。
  2. マトリクスを形成する結晶相の主成分が、窒化ケイ素もしくは窒化ケイ素にAlが固溶したβ−サイアロン(Si6−ZAl8−Z)で構成され、かつそのZ値が0.5〜3である、請求項1に記載の窒化ケイ素基複合材料。
  3. 分散しているZrの酸化物及び/又は窒化物の粒径が、大きくても20ミクロンである、請求項1又は2に記載の窒化ケイ素基複合材料。
  4. 分散しているZrの酸化物及び/又は窒化物の体積分率が、20vol%を越えない、請求項1から3のいずれかに記載の窒化ケイ素基複合材料。
  5. 上記窒化ケイ素基複合材料において、粒界相にFeの酸化物もしくはケイ化物が分散された状態で含まれる、請求項1から4のいずれかに記載の窒化ケイ素基複合材料。
  6. 焼結体の密度が、95%以上の理論密度を有する、請求項1から5のいずれかに記載の窒化ケイ素基複合材料。
  7. 請求項1から5のいずれかに記載の窒化ケイ素基複合材料を使用して高強度、高靭性及び高耐食性のいずれか一つ以上を付与したことを特徴とする構造部材。
  8. ケイ素を含む原料を用い、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結の行程を経た材料であって、Zrの酸化物及び/又は窒化物が分散した状態で含まれていることを特徴とする窒化ケイ素基複合材料。
  9. 出発原料として、ケイ素を含む原料を用い、酸化ジルコニウム及び焼結助剤を所定の配合によって混合、成形し、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結を行った後、昇温し、緻密化させることを特徴とする窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
  10. 酸化ジルコニウム2〜20重量部、スピネルを5〜10重量部をそれぞれ添加した混合粉末を、成形後、窒素を含む雰囲気中でケイ素を窒化ケイ素に転化した後、温度を上げ、緻密化する、請求項9に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
  11. 混合する酸化ジルコニウムが、Y、Mg又はCe元素の添加によって正方晶もしくは立方晶に少なくても90%が安定化されたジルコニアもしくは部分安定化ジルコニアである、請求項9又は10に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
  12. 酸化ジルコニウムが、酸化イットリウムにより部分的に安定化されている、請求項9又は10に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
  13. 酸化ジルコニウムが、2−3モルの酸化イットリウムの添加によって結晶相の少なくても90%が正方晶である、請求項12に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
  14. 窒化のための焼結温度が、1300〜1500℃の範囲であり、反応焼結後の焼成温度が、1650〜1950℃の範囲である、請求項9又は10に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
  15. 出発原料として、窒化ケイ素粉末を配合した原料を用いる、請求項9又は10に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
  16. 上記ケイ素粉末が、0.2−5%のFe元素を含む、請求項9又は10に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
  17. 上記ケイ素粉末が、粒径30ミクロン又はそれを上回る大きさの粒子を5−40%含む、請求項9又は10に記載の窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
JP2007069637A 2006-03-31 2007-03-16 反応焼結窒化ケイ素基複合材料の製造方法 Active JP5044797B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007069637A JP5044797B2 (ja) 2006-03-31 2007-03-16 反応焼結窒化ケイ素基複合材料の製造方法

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006100311 2006-03-31
JP2006100311 2006-03-31
JP2006174491 2006-06-23
JP2006174491 2006-06-23
JP2007069637A JP5044797B2 (ja) 2006-03-31 2007-03-16 反応焼結窒化ケイ素基複合材料の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008024579A true JP2008024579A (ja) 2008-02-07
JP5044797B2 JP5044797B2 (ja) 2012-10-10

Family

ID=39115598

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007069637A Active JP5044797B2 (ja) 2006-03-31 2007-03-16 反応焼結窒化ケイ素基複合材料の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5044797B2 (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008247716A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 反応焼結窒化ケイ素基焼結体及びその製造方法
JP2009293787A (ja) * 2008-06-09 2009-12-17 Ntn Corp 電磁クラッチ用転がり軸受および電磁クラッチ
JP2010235421A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 窒化ケイ素フィルターの製造方法及び窒化ケイ素フィルター
US7829491B2 (en) * 2004-11-26 2010-11-09 Kyocera Corporation Silicon nitride sintered body and manufacturing method thereof, member for molten metal, member for hot working, and member for digging
JP2011063497A (ja) * 2009-09-18 2011-03-31 Kubota Corp セラミックフィルター及びセラミックフィルターの製造方法
KR101155549B1 (ko) * 2009-11-24 2012-06-19 한국기계연구원 다공성 반응소결질화규소의 제조 방법 및 그에 의해 제조된 다공성 반응소결질화규소
JP2013049595A (ja) * 2011-08-30 2013-03-14 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 窒化ケイ素焼結体の製造方法
US8992651B2 (en) 2012-03-28 2015-03-31 Kubota Corporation Ceramic filter and method for manufacturing the same
CN104591763A (zh) * 2015-02-11 2015-05-06 汤炼芳 一种煅烧窑用燃烧器预制件及制备方法
US11485686B2 (en) * 2017-11-10 2022-11-01 Ferrotec Material Technologies Corporation Ceramic, probe guiding member, probe card, and socket for package inspection
WO2024070470A1 (ja) * 2022-09-27 2024-04-04 株式会社 東芝 窒化珪素焼結体、耐摩耗性部材、半導体装置用基板、及び窒化珪素焼結体の製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58213677A (ja) * 1982-06-02 1983-12-12 品川白煉瓦株式会社 窒化珪素質複合焼結体
JPS6389462A (ja) * 1986-10-02 1988-04-20 日産自動車株式会社 窒化珪素質焼結体の製造方法
JPH06279125A (ja) * 1993-03-30 1994-10-04 Kanagawa Kagaku Gijutsu Akad 窒化ケイ素基複合材料の製造方法
JP2005282753A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Kubota Corp 地中埋設物用切断防御部材

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58213677A (ja) * 1982-06-02 1983-12-12 品川白煉瓦株式会社 窒化珪素質複合焼結体
JPS6389462A (ja) * 1986-10-02 1988-04-20 日産自動車株式会社 窒化珪素質焼結体の製造方法
JPH06279125A (ja) * 1993-03-30 1994-10-04 Kanagawa Kagaku Gijutsu Akad 窒化ケイ素基複合材料の製造方法
JP2005282753A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Kubota Corp 地中埋設物用切断防御部材

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7829491B2 (en) * 2004-11-26 2010-11-09 Kyocera Corporation Silicon nitride sintered body and manufacturing method thereof, member for molten metal, member for hot working, and member for digging
JP2008247716A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 反応焼結窒化ケイ素基焼結体及びその製造方法
JP2009293787A (ja) * 2008-06-09 2009-12-17 Ntn Corp 電磁クラッチ用転がり軸受および電磁クラッチ
JP2010235421A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 窒化ケイ素フィルターの製造方法及び窒化ケイ素フィルター
JP2011063497A (ja) * 2009-09-18 2011-03-31 Kubota Corp セラミックフィルター及びセラミックフィルターの製造方法
KR101155549B1 (ko) * 2009-11-24 2012-06-19 한국기계연구원 다공성 반응소결질화규소의 제조 방법 및 그에 의해 제조된 다공성 반응소결질화규소
JP2013049595A (ja) * 2011-08-30 2013-03-14 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 窒化ケイ素焼結体の製造方法
US8992651B2 (en) 2012-03-28 2015-03-31 Kubota Corporation Ceramic filter and method for manufacturing the same
CN104591763A (zh) * 2015-02-11 2015-05-06 汤炼芳 一种煅烧窑用燃烧器预制件及制备方法
US11485686B2 (en) * 2017-11-10 2022-11-01 Ferrotec Material Technologies Corporation Ceramic, probe guiding member, probe card, and socket for package inspection
WO2024070470A1 (ja) * 2022-09-27 2024-04-04 株式会社 東芝 窒化珪素焼結体、耐摩耗性部材、半導体装置用基板、及び窒化珪素焼結体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5044797B2 (ja) 2012-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5044797B2 (ja) 反応焼結窒化ケイ素基複合材料の製造方法
JPWO2006057232A1 (ja) 窒化珪素質焼結体およびその製造方法、並びに金属溶湯用部材、熱間加工用部材、掘削用部材
JP2001328869A (ja) 耐摩耗性部材およびその製造方法
US9546114B2 (en) SiAlON bonded silicon carbide material
JP5046221B2 (ja) 高い信頼性を持つ高熱伝導窒化ケイ素セラミックスの製造方法
JP5062402B2 (ja) 反応焼結窒化ケイ素基焼結体及びその製造方法
JP4903431B2 (ja) 窒化珪素質焼結体とその製造方法、これを用いた半導体製造装置用部材および液晶製造装置用部材
KR102086570B1 (ko) 제어된 경도와 인성을 가지는 절삭공구용 사이알론 세라믹스 소재의 제조방법 및 이에 의해 제조된 소재
Iizuka et al. Microstructures and Properties of Mo5Si3‐Particle‐Reinforced Si3N4‐Matrix Composites
JP2015086125A (ja) 窒素・ケイ素系焼結体およびその製造方法
JP2507480B2 (ja) SiC−Al▲下2▼O▲下3▼複合焼結体及びその製造法
JP4348429B2 (ja) 窒化ケイ素多孔体及びその製造方法
JP3537241B2 (ja) 窒化珪素焼結体の製造方法
JP5224293B2 (ja) 反応焼結基窒化ケイ素セラミックス及びその製造方法
JP2008156142A (ja) 窒化アルミニウム焼結体およびその製造方法
JP2690571B2 (ja) ジルコニア系切削工具とその製造法
JPH09142935A (ja) 窒化珪素質焼結体およびその製造方法
JP5001567B2 (ja) 耐食性セラミック部材
KR102086571B1 (ko) α-사이알론을 주로 가지는 절삭공구용 사이알론 세라믹스 소재의 제조방법 및 이에 의해 제조된 소재
JP2581128B2 (ja) アルミナ−サイアロン複合焼結体
JP3124867B2 (ja) 窒化珪素質焼結体及びその製造方法
JPH1029869A (ja) 窒化珪素/炭化珪素複合焼結体及びその製造方法
JP2985512B2 (ja) 粒子分散型ZrO2系セラミックス材料及びその製造方法
JP2024053480A (ja) 窒化ケイ素焼結体の製造方法
JP4385122B2 (ja) α−サイアロン焼結体の製造方法およびα−サイアロン焼結体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091015

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20091016

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110901

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110908

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111107

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111220

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120220

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120529

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120622

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150727

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5044797

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250