JP2008021979A - 電磁波遮断用光学部材、これを含んだ光学フィルタおよび表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】電磁波遮断用光学部材、これを含んだ表示装置用光学フィルタおよび前記電磁波遮断用光学部材を採用した表示装置に関する。
【解決手段】ベース基板と、前記ベース基板の一面に形成されて、金属層および高屈折率層を含む複数の反復単位膜で成された積層部材と、を備え、前記積層部材の最外側金属層のいずれか１つの金属層は、前記金属層のうちで最小の厚さを有することを特徴とする電磁波遮断用光学部材を提供する。また、本発明は、前記光学部材を採用した光学フィルタおよび表示装置を提供する。
【選択図】図１

Description

本発明は、電磁波遮断用光学部材、これを含んだ表示装置用光学フィルタおよびこれを採用した表示装置に関し、より詳細には、面抵抗が低くて電磁波遮断性能が優れており、剥離可能性が低くて再生性が優れている電磁波遮断用光学部材およびこれを含んだ表示装置用光学フィルタおよびこれを採用した表示装置に関する。

一般的にＰＤＰ装置とは、電極に印加される直流または交流電圧によって電極間のガスから放電が発生し、これに伴う紫外線の放射によって蛍光体を励起させて発光するものである。しかし、ＰＤＰ装置駆動の特性上、電磁波および近赤外線の放出量が多くて蛍光体の表面反射が高いだけでなく、封入ガスであるヘリウム（He）やキセノン（Xe）から放出されるオレンジ光によって色純度が陰極線管にまで及ばないという短所がある。

したがって、ＰＤＰ装置から発生する電磁波および近赤外線によって人体に有害な影響を及ぼしたり、無線電話やリモコンなどの精密機器の誤作動を誘発したりする恐れがある。このようなＰＤＰ装置を用いるためには、ＰＤＰ装置から放出される電磁波や近赤外線を所定値以下に抑制することが要求される。このため、電磁波および近赤外線を遮断するとともに反射光を減少させて色純度を向上させるために、電磁波遮断、近赤外線遮断、光の表面反射防止および／または色純度改善などの機能を有するＰＤＰフィルタを採用している。よって、ＰＤＰ装置は、ガス放電現象が起こる放電セルを含むパネルアセンブリと、電磁波および近赤外線を遮断するＰＤＰフィルタと、で構成されている。

また、このようなＰＤＰフィルタは、パネルアセンブリの前面部に装着されるため透明性を満たす必要もある。一方、ＰＤＰ装置において、駆動回路および交流電流電極に流れる電流とプラズマ放電のための電極間にかかる高電圧は、電磁波発生の主な原因となる。このとき発生する主な電磁波の周波数領域は３０〜２００ＭＨｚである。このような電磁波を遮断するための電磁波遮断層として、可視光線に対する高通過率および低反射率を維持する透明導電膜や導電性メッシュが主に用いられる。

まず、導電性メッシュで構成された電磁波遮断層は、電磁波を遮断するのに優れた特性を示す。また、単層導電性薄膜としてはＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウムスズ酸化物）が代表されるが、貴金属薄膜を用いた多層透明導電膜で構成された電磁波遮断層は、一般的に金属薄膜と高屈折透明薄膜とが交互にコーティングされる多層薄膜形態を帯びている。このとき、金属薄膜としては、銀（Ag）または銀を主成分とする合金が主に用いられる。

前記銀などの金属薄膜は薄いほど反射率特性が優れるものの、面抵抗の減少により電磁波遮断性能は悪化することがある。しかし、反射率および電磁波遮断性能を同時に満たし得る透明導電膜の構造はいまだ提示されてはいない。

前述の目的を達成し、上述した従来技術の問題点を解決するために、本発明は、電磁波遮断性能が優れていながら反射率低下特性が緩和された電磁波遮断用光学部材を提供することを目的とする。

また、本発明は、前記電磁波遮断用光学部材を含み、電磁波遮断性能および光学特性が優れた表示装置用光学フィルタを提供することを目的とする。

また、本発明は、前記電磁波遮断用光学部材を採用し、表示品質が優れた表示装置を提供することを目的とする。

前記の目的を達成するために、本発明の一実施形態に係る光学部材は、ベース基板と、積層部材と、を含む。前記積層部材は前記ベース基板の一面に形成されて、金属層および高屈折率層を含む複数の反復単位膜で成されている。前記積層部材の最外側に位置する金属層のいずれか１つの金属層は、前記金属層のうちで最小の厚さを有する。

前記高屈折率層は五酸化ニオブ（Nb₂O₅）で成され、前記金属層は銀で成される。

前記反復単位膜は、前記金属層と隣合って接合した少なくとも１つの金属酸化物層をさらに含むことがある。例えば、前記反復単位膜それぞれは、金属層と隣合った第１金属酸化物層および第２金属酸化物層を含むことができる。

前記金属酸化物層は、アルミニウムがドーピングされた酸化亜鉛（Aluminum doped Zinc Oxide：AZO）などで成されている。

前記電磁波遮断用光学部材には３〜６つの反復単位膜が含まれ、特に４つの反復単位膜が含まれる。

前記反復単位膜内の金属層の厚さの合計は４８〜５２ｎｍであることが好ましく、前記最小の厚さを有する金属層の厚さは８〜１２．５ｎｍであることが好ましい。

一方、前記最小の厚さを有する金属層を除いた残りの金属層の厚さは互いに同じであることが好ましい。

本発明の一実施形態に係る光学フィルタは、光学部材と、カラーフィルムと、反射防止フィルムと、を含む。

前記光学部材は、ベース基板と、前記ベース基板の一面に形成されて、金属層および高屈折率層を含む複数の反復単位膜で成された積層部材と、を備える。前記積層部材の最外側に位置する金属層のいずれか１つの金属層は、前記金属層のうちで最小の厚さを有する。

前記ベース基板は、第１面と、前記第１面の反対面である第２面と、を含む。前記第１面は前記カラーフィルム上に接合しており、前記第２面の枠領域には黒色セラミックが形成されており、前記第２面上に前記電磁波遮断用光学部材が形成されている。

前記ベース基板、カラーフィルムおよび反射防止フィルムは、感圧粘着剤（PSA）によって互いに接合している。

前記表示装置用光学フィルタは、前記電磁波遮断用光学部材を保護するために、前記光学部材上に形成された保護フィルムをさらに含むことがある。

前記保護フィルムは、前記枠領域の一部が露出するように前記電磁波遮断用光学部材上に形成されている。

前記黒色セラミック上には導電性ペーストが形成されることがある。

前記ベース基板は半強化ガラス（semi-tempered glass）または透明高分子樹脂で成される。

上述とは異なり、前記ベース基板は、第１面と、前記第１面の反対面である第２面と、を含み、前記第１面上には前記電磁波遮断用光学部材が形成されており、前記電磁波遮断用光学部材は前記カラーフィルムと接合しており、前記第２面の枠領域には黒色セラミックが形成されることもある。

前記ベース基板および前記カラーフィルムの側部は導電性テープによって包まれている。

本発明の一実施形態に係る表示装置は、表示パネルと、光学フィルタと、を含む。

前記表示パネルは、電源が印加されると電気信号を映像信号に変換して映像を表示するものであり、前記光学フィルタは、前記表示パネルの一面上に配置されている。また、前記光学フィルタは、前記表示パネルと対向して配置されている。さらに、前記光学フィルタは、ベース基板と、前記ベース基板の一面に形成されて、金属層および高屈折率層を含む複数の反復単位膜で成された積層部材と、を備え、前記積層部材の最外側に位置する金属層のいずれか１つの金属層は、前記金属層のうちで最小の厚さを有することを特徴とする電磁波遮断用光学部材と、前記光学部材上に配置されたカラーフィルムと、前記カラーフィルム上に配置された反射防止フィルムと、を含む。

本発明に係る電磁波遮断用積層部材は、１つの反復単位膜内に１２．５ｎｍ未満の最小の厚さを有する金属層を１つだけ含み、電磁波遮断性能および面抵抗減少を誘導して、本積層部材を採用した光学フィルタの性能を向上させることができる。また、前記最小の厚さを有する金属層の位置条件を提供することで前記積層部材およびＰＳＡ付着境界面における反射率増加を緩和させ、薄い金属層を１つだけ用いることで反射率の問題を解決することができ、完製品光学フィルタの反射率特性を改善することができる。

また、本発明に係る電磁波遮断用積層部材は、１つの反復単位膜内の金属層の両側に２つの金属酸化物層を含むことで前記積層部材の結合力を強化することができ、これによって剥離可能性を低め、積層部材の交換時に再生性を向上させることができる。

また、本発明に係る光学フィルタは、視聴者側にカラーフィルムを接近させて配置した構造を提供することで、前記光学フィルタの反射率低下特性を緩和させることができる。

また、本発明に係る表示装置は、前記積層部材を採用することで光学フィルタの面抵抗が減少して電磁波遮断性能が向上し、これによって表示装置の優れた映像表示品質を得ることができる。

以下、添付の図面および添付の図面に記載された内容に基づき、本発明の実施形態を詳細に説明するが、本発明がこれらの実施形態によって制限または限定されることはない。図中、同じ参照符号は同じ部材を示す。

図１は本発明の一実施形態に係る電磁波遮断用積層部材を示した断面図である。

図１を参照すれば、前記電磁波遮断用積層部材は、第１金属酸化物層１１、２１、３１、４１と、金属層１２、２２、３２、４２と、第２金属酸化物層１３、２３、３３、４３と、が順に積層されて形成された複数の反復単位膜１０、２０、３０、４０を含む。本実施形態において、前記電磁波遮断用積層部材は４つの反復単位膜１０、２０、３０、４０を含むがこれに限定さるものではなく、本発明に係る電磁波遮断用積層部材は２つ以上の多数の反復単位膜１０、２０、３０、４０を含むことができる。

本実施形態において、前記第１金属酸化物層１１、２１、３１、４１および第２金属酸化物層１３、２３、３３、４３は、アルミニウムがドーピングされた酸化亜鉛で成されている。また、前記金属層１２、２２、３２、４２には銀が用いられる。

前記反復単位膜１０、２０、３０、４０は、前記積層部材の最外側に位置した第１および第４反復単位膜１０、４０と、前記第１反復単位膜１０および第４反復単位膜４０の内部に位置した第２反復単位膜２０および第３反復単位膜３０とに区分される。

前記第１反復単位膜１０の外面には第１高屈折率層５１が形成されており、前記第４反復単位膜４０の外面には第５高屈折率層５５が形成されている。さらに、第１反復単位膜１０および第２反復単位膜２０の間には第２高屈折率層５２が形成されており、前記第２反復単位膜２０および第３反復単位膜３０の間には第３高屈折率層５３が形成されており、前記第３反復単位膜３０および第４反復単位膜４０の間には第４高屈折率層５４が形成されている。

本実施形態において、前記第１〜５高屈折率層５１、５２、５３、５４、５５は五酸化ニオブで成される。

第１〜４反復単位膜１０、２０、３０、４０それぞれは第１〜４金属層１２、２２、３２、４２を含む。本実施形態において、最外側に位置する反復単位膜の前記第１反復単位膜１０および第４反復単位膜４０のいずれか１つの反復単位膜１０、４０に含まれた金属層１２または４２の厚さは、すべての金属層１２、２２、３２、４２のうちで最小の厚さＨ_１を有する。

本実施形態においては、第１反復単位膜１０の第１金属層１２が最小の厚さＨ_１を有する。前記積層部材は後述するベース基板の一面に形成されて、ベース基板とともに１つの光学部材を形成する。この場合、前記積層部材は、前記最小の厚さＨ_１を有する第１金属層１２を含む前記第１反復単位膜１０の外面に形成された第１高屈折率層５１が前記ベース基板の一面に接するようにコーティングされて形成される。すなわち、前記積層部材は、最小の厚さＨ_１を有する第１金属層１２が前記ベース基板と接近するように前記ベース基板上にコーティングされて形成される。

本発明に係る前記反復単位膜１０、２０、３０、４０は、例えば、第１反復単位膜１０は２つの金属酸化物膜１１、１３を含む。すなわち、第１金属層１２の両側に第１および第２金属酸化物層１１、１３が挿入されており、前記積層部材の結合力を向上させることができる。前記第２金属酸化物層１３が存在しない場合、前記第１金属層１２は前記第２高屈折率層５２と直接付着することになるが、この場合には付着力が弱まり、前記電磁波遮断用積層部材を除去するときに前記第１金属層１２および前記第２高屈折率層５２の間で剥離が起こる可能性が極めて高くなる。これにより、電磁波遮断用積層部材を除去するときに、除去効率が低下することになる。しかし、第２金属酸化物膜１３を挿入することによって第１金属層１２および第２高屈折率層５２との付着力が強化し、さらには前記電磁波遮断用積層部材の除去の容易性を向上させることができる。すなわち、前記第２金属酸化物膜１３は付着強化層としての機能を行うものである。

さらに、前記第２金属酸化物膜１３は、前記第１金属層１２の酸化を防ぐ機能も行う。

前記最小の厚さを有するように設計された第１金属層１２の厚さＨ_１が８ｎｍ未満であれば、金属特性が発揮されず電磁波遮断効率が低下するという問題が生じる。その反面、前記厚さＨ_１が１２．５ｎｍ以上であれば、前記積層部材の光通過率が低下するという問題が生じる。したがって、前記第１金属層１２の厚さＨ_１は８〜１２．５ｎｍであり、好ましくは９〜１２ｎｍである。すなわち、前記電磁波遮断用積層部材は１２．５ｎｍ未満の金属層を１つだけ含む構造を有する。

一方、前記光通過率を考慮すれば、前記第１〜４金属層１２、２２、３２、４２の厚さの合計、すなわちＨ_１＋Ｈ_２＋Ｈ_３＋Ｈ_４は４８〜５２ｎｍであるのが好ましい。

上述したように、ベース基板に最も接近する金属層１２の厚さＨ_１が他の金属層２２、３２、４２の厚さＨ_２、Ｈ_３、Ｈ_４に比べて薄く設計される場合は、電磁波遮断性能の向上および面抵抗の減少という効果を確保するとともに、前記積層部材が適用された光学フィルタの反射率増加を最小化して光学フィルタの光学特性を向上させることができる。前記第１金属層１２を除いた第２〜４金属層２２、３２、４２の厚さは同じであることが好ましい。

図２は本発明の一実施形態に係る表示装置用光学フィルタを示した概念図である。図２の電磁波遮断用積層部材２４０は、図１の電磁波遮断用積層部材と実質的に同じであるため、これについての重複した説明は省略する。

図２を参照すれば、表示装置用光学フィルタ２００は、反射防止フィルム（Anti-reflection film）２１０と、カラーフィルム２２０と、電磁波遮断用積層部材２４０が形成されたベース基板２３０と、保護用フィルム２５０と、を含む。前記ベース基板２３０および積層部材２４０は互いに接合して１つの光学部材を形成する。

前記反射防止フィルム２１０は、表示装置に適用されるときに視聴者側に配置される。また、前記反射防止フィルム２１０は、外部光源の反射を防止して表示装置の表示品質低下を防ぐことができる。

前記カラーフィルム２２０は、前記反射防止フィルム２１０上に接合する。また、前記カラーフィルム２２０は、感圧粘着剤（PSA）によって前記反射防止フィルム２１０に接合する。

前記ベース基板２３０は、視聴者側を基準として前記カラーフィルム２２０の背面に前記感圧粘着剤によって付着される。前記ベース基板２３０としては、半強化ガラス、ポリカーボネート（PC）、またはポリエチレンテレフタルレート（PET）などの透明高分子樹脂が用いられる。本実施形態では半強化ガラスが用いられる。

前記ベース基板２３０の枠領域には黒色セラミック２３２が印刷されている。前記黒色セラミック２３２は表示装置の表示パネル（図示せず）から出力される映像を遮断し、視聴者には黒く見える部分である。

前記黒色セラミック上２３２には銀ペースト２３４などの導電性ペーストが形成されている。前記銀ペースト２３４は電気的に接地されており、前記光学フィルタ２００から発生した電気を外部に放出する出口の役割をする。

前記電磁波遮断用積層部材２４０は、前記黒色セラミック２３２を含んだ前記ベース基板２３０全体に形成されている。前記電磁波遮断用積層部材２４０は、最小の厚さを有する金属層１２または４２を含む反復単位膜が前記ベース基板２３０に接近するように前記ベース基板２３０上に形成されている。これとは異なり、前記最小の厚さを有する金属層１２または４２を含む反復単位膜は、ベース基板２３０と最大離隔するように前記ベース基板２３０上に形成されることもある。また、前記電磁波遮断用積層部材２４０は、視聴者側を基準として前記ベース基板２３０の背面に形成されている。

再び図１を参照すれば、前記電磁波遮断用積層部材２４０の第１高屈折率層５１が前記ベース基板２３０面に接するように、前記電磁波遮断用積層部材２４０が前記ベース基板２３０上に形成されている。

前記保護用フィルム２５０は、前記電磁波遮断用積層部材２４０の酸化や不純物付着などを防ぐために、前記感圧粘着剤によって前記電磁波遮断用積層部材２４０に接合する。前記保護用フィルム２５０は、前記電磁波遮断用積層部材２４０よりも小さいサイズを有し、前記ベース基板２３０の枠領域の一部を露出させる。したがって、前記銀ペースト２３４が外部に接地される空間を設けることができる。

本発明で用いられ得る感圧粘着剤は１．４〜１．７の屈折率を有する。

前記表示装置用光学フィルタ２００の電磁波遮断用積層部材２４０は１２．５ｎｍ未満の薄い金属層を１つだけ有しており、電磁波遮断効率が優れていて面抵抗が低い反面、前記最小の厚さを有する金属層が前記ベース基板２３０に最大接近または最大離隔するように設計されていて、前記光学フィルタ２００の反射率増加を最小化することができる。

一般的に、１２．５ｎｍ未満の薄い銀層には空気穴が存在していて構造的に不完全であり、電荷流動度が減少することで電磁波遮断用光学部材の面抵抗を増加させ、電磁干渉遮断の効率を低下させることがある。ただし、前記銀層の厚さが薄いほど反射率面において有利である。また、２つの最外側に位置する金属層すべてが中央側の金属層の厚さに比べて薄い場合には、反射率はより一層減少するが薄い銀層数が多くなるため、すべての金属層の厚さが同じである場合と比較すると面抵抗は不利になる。したがって、本発明は、薄い金属層を１つだけ含むことによって反射率増加を最小化しながら、電磁波遮断効率の減少および面抵抗増加を抑制することができる。

図３は本発明の他の実施形態に係る表示装置用光学フィルタを示した概念図である。図３の電磁波遮断用光学部材は、図１の電磁波遮断用光学部材と実質的に同じであるため、これについての重複した説明は省略する。また、図２と同一部材について重複した説明も省略する。

図３を参照すれば、表示装置用光学フィルタ３００は、反射防止フィルム３１０と、カラーフィルム３２０と、電磁波遮断用積層部材３４０が形成されたベース基板３３０と、を含む。前記電磁波遮断用積層部材３４０は前記カラーフィルム３２０と対向する前記ベース基板３３０面に形成されており、前記電磁波遮断用積層部材３４０は感圧粘着剤によって前記カラーフィルム３２０と接合する。

前記ベース基板３３０の枠領域には黒色セラミック３３２が印刷されている。

前記電磁波遮断用積層部材３４０は、最小の厚さを有する金属層を含む反復単位膜が前記ベース基板３３０に接近するように前記ベース基板３３０上に形成されている。

再び図１を参照すれば、前記電磁波遮断用積層部材３４０の第１高屈折率層５１が前記ベース基板３３０面に接するように、前記電磁波遮断用積層部材３４０が前記ベース基板３３０上に形成されている。

本実施形態においては、前記電磁波遮断用積層部材３４０が露出されないため、前記光学フィルタ３００は保護用フィルムを含む必要がない。

前記電磁波遮断用積層部材３４０が形成された前記ベース基板３３０および前記カラーフィルム３２０の側部は、銅テープなどの導電性テープ３６２によって包まれている。前記導電性テープ３６２は、前記光学フィルタ３００から発生した電気を外部に放出する出口の役割をする。

図２および図３では本発明の一部の実施形態を説明したが、反射防止フィルム、カラーフィルムおよび電磁波遮断用積層部材が形成されたベース基板の接合順さえ維持されるのであれば、その他の部材の種類および構造に対しては多様な変形が可能である。

以下、本発明に係る光学フィルタの性能を説明するための各種の実験結果を提示する。

［反射特性評価］反射防止フィルム、カラーフィルム、ベース基板、電磁波遮断用積層部材および保護フィルムの順で積層された図２の光学フィルタを対象に、光学フィルタ完製品の反射率および前記積層部材に感圧粘着剤が付着する前後の反射率の増加率を分析した。

分析は、前記電磁波遮断用積層部材の金属層の厚さを多様に変化させながら、各厚さの組合せのうちで反射率低下に有利な厚さの組合せを求めたものである。

ベース基板には半強化ガラスが用いられ、電磁波遮断用積層部材の金属層には銀が用いられた。

具体的な実験条件は下記の通りであり、実験結果は下記の表１に示した。

１．フィルタ完製品の接合構造：［ＡＲフィルム／カラーフィルム／半強化ガラス／積層部材／保護フィルム］
２．カラーフィルムの視感平均透過率：４５％
３．ＡＲフィルム視感平均反射率：１．１％
４．感圧粘着層屈折率：１．４７（550nm）／反射率の計算時には波長による分散値を考慮
５．半強化ガラスの屈折率：１．５４（550nm）／反射率の計算時には波長による分散値を考慮
６．計算値算出の道具：コーティング多層設計およびシミュレーションプログラム（Essential Macleod version8.2；アメリカ Thin-Film Center製造）
７．感圧粘着剤付着後の反射率増加：感圧粘着剤付着コーティングガラス反射率−コーティングガラス反射率

表１に示すように、フィルタ完製品の場合、計算値および実測値すべてにおいて、感圧粘着剤が付着した積層部材によるＩ構造が反射率増加が最も低いと評価された。また、Ｊ構造も反射率増加が極めて低いと評価された。すなわち、ガラスに最も接近したり最も離隔している銀層の厚さが最も薄くて残りの銀層の厚さが同じである場合に、フィルタ完製品の反射率増加が最も低いものと表れた。ただし、Ｉ構造の場合は、積層部材にＰＳＡを付着した後は相対的に反射率増加幅が大きいものと表れた。しかし、本発明に係る光学フィルタは、前記積層部材が視聴者を基準としてカラーフィルムの背面に位置するため、外部から入射した光はカラーフィルムを一部透過して前記ＰＳＡおよび前記積層部材の境界面で反射した後、前記反射光は再びカラーフィルムによって一部の光が排泄されるため、前記積層部材およびＰＳＡ境界面における反射率増加の効果は実質的には極めて少ない。例えば、前記ＰＳＡおよび前記積層部材の境界面にて５％の反射率が増加したと仮定する場合、フィルタ完製品における反射率増加の効果は０．４５×０．４５×０．０５＝０．０１に該当するため、実質的には１％に過ぎない。すなわち、本発明の構造的特徴によって前記反射率増加の効果を緩和させることができる。この反面、本発明とは異なり、前記カラーフィルムが視聴者を基準として積層部材の背面に位置する場合には、５％の反射率増加の効果がそのまま反映される。

したがって、本発明の光学フィルタは、最小の厚さを有する金属層の意図された位置条件だけでなく、カラーフィルムおよび積層部材の位置関係によっても、感圧粘着剤および積層部材の界面における反射率増加の効果を最小化することができる。

［面抵抗評価］前記実験結果、反射率低下特性が優れていると評価された比較例の電磁波遮断用積層部材と、本発明の一実施形態に係る電磁波遮断用積層部材に対して、ドイツのナギー社（NAGY）の非接触式面抵抗測定器を用いてそれぞれの面抵抗を測定した。

比較例および実施形態に係る前記積層部材の具体的な金属層（Ag）の厚さ条件は次の通りである。

１．比較例：［１１．３／１３．５／１３．５／１１．３／ガラス］
２．実施形態：［１２．８／１２．８／１２．８／１０．７／ガラス］

面抵抗測定結果を下記表２に示した。

表２に示すように、本発明に係る積層部材の面抵抗は相対的に低かった。したがって、本発明に係る積層部材の電磁波遮断性能は、比較例の積層部材と比べて優れていることを知ることができた。

［剥離特性評価］反復単位膜内に第１酸化物層のみを含む電磁波遮断用積層部材（比較例）と、金属層の両側に第１酸化物層および第２酸化物層をすべて含む電磁波遮断用積層部材（実施形態）との剥離特性を評価した。比較例および実施形態はすべて、酸化物層としてＡＺＯ層を用いた。

前記剥離特性を評価するために、感圧粘着剤によって積層部材上に強度１０〜１５Ｎ／２５ｍｍであるフィルムを付着した製品を、圧搾機（auto clave）設備でそれぞれ７ｋｇｆ／ｃｍ^２および１４ｋｇｆ／ｃｍ^２の圧力で加圧して黒色セラミックと付着フィルムとの間の段差の気泡を除去した後、外部空気に８時間露出するように放置した。前記のような過程を数回行って付着フィルムの不良が発生した製品を検出し、各実験を実行するために比較例および実施形態でそれぞれ２４枚を収集した。また、再生機を用いて不良フィルムを除去して積層部材の剥離数を測定した。測定結果は下記表３に示した。

表３に示すように、比較例では圧搾条件下ですべてに積層部材が剥離された製品が発生された。しかし、実施形態では、７ｋｇｆ／ｃｍ^２の圧搾条件下で剥離された製品が発生せず、１４ｋｇｆ／ｃｍ^２の圧搾条件下でも剥離された製品の割合は８．３％と極めて低かった。したがって、本発明に係る積層部材では剥離が十分に成されないため、再生性が極めて優れていることを知ることができる。

以下、図２および図３の表示装置用光学フィルタを採用した表示装置について説明する。

図４は、本発明の一実施形態に係る表示装置を示した概念図である。図４の表示装置が含む図２の表示装置用光学フィルタについては図２で説明したため、重複した説明は省略する。

図４を参照すると、表示装置１０００は、図２の表示装置用光学フィルタ２００と、表示パネル５００と、を含む。

前記表示パネル５００は、前記光学フィルタ２００を基準として視聴者側と反対面に配置される。前記表示パネル５００は、外部から電源の供給を受けて前記信号を映像信号に変換して映像を表示し、前記映像を前記光学フィルタ２００に出射する。前記表示装置１０００のカラーフィルム２２０は、積層部材２４０より視聴者側にさらに接近して配置されているため、前記積層部材２４０と前記積層部材に付着した感圧粘着剤の界面から発生する反射率増加を緩和させることができる。すなわち、カラーフィルム２２０が積層部材２４０よりも前記表示パネル５００に接近した構造とは異なり、本発明の表示装置１０００は、前記反射特性評価で説明したように、外部光源がカラーフィルム２２０、積層部材２４０／感圧粘着剤界面およびカラーフィルム２２０に移動しながら、前記積層部材２４０／感圧粘着剤界面から発生する反射率増加を緩和させることができる。

図５は本発明の他の実施形態に係る表示装置を示した概念図である。図５の表示装置は図３の表示装置用光学フィルタを含んでいる。表示装置用光学フィルタについては前述したため、重複した説明は省略する。

図５を参照すれば、表示装置１１００は、表示装置用光学フィルタ３００と、表示パネル５００と、を含む。

前記表示装置１１００の視聴者側からそれぞれ、反射防止フィルム３１０と、カラーフィルム３２０と、電磁波遮断用積層部材３４０と、ベース基板３３０と、表示パネル５００と、が順に配置されている。前記積層部材３４０およびベース基板３３０は接合して１つの光学部材を成す。

反射率緩和の特徴は、前述した図４の表示装置１０００と同じである。

上述したように、本発明の好ましい実施形態を参照して説明したが、該当の技術分野において熟練した当業者にとっては、特許請求の範囲に記載された本発明の思想および領域から逸脱しない範囲内で、本発明を多様に修正および変更させることができることを理解することができるであろう。すなわち、本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲に基づいて定められ、発明を実施するための最良の形態により制限されるものではない。

本発明に係る電磁波遮断用光学部材は、特にプラズマ表示装置の適用において優れた性能が発揮される。

本発明の一実施形態に係る電磁波遮断用光学部材を示した断面図である。 本発明の一実施形態に係る電磁波遮断用光学フィルタを示した概念図である。 本発明の他の実施形態に係る表示装置用光学フィルタを示した概念図である。 図２の表示装置用光学フィルタが採用された表示装置を示した概念図である。 図３の表示装置用光学フィルタが採用された表示装置を示した概念図である。

符号の説明

１０、２０、３０、４０：反復単位膜
１１、２１、３１、４１：第１金属酸化物層
１２、２２、３２、４２：金属層
１３、２３、３３、４３：第２金属酸化物層
５１、５２、５３、５４、５５：高屈折率層
２００、３００：表示装置用光学フィルタ
２１０、３１０：反射防止フィルム
２２０、３２０：カラーフィルム
２３０、３３０：ベース基板
２３２、３３２：黒色セラミック
２３４：導電性ペースト
２４０、３４０：電磁波遮断用積層部材
２５０：コーティング保護フィルム
３６２：導電性テープ
５００：表示パネル
１０００、１１００：表示装置

Claims (25)

1. ベース基板と、
   前記ベース基板の一面に形成されて、金属層および高屈折率層を含む複数の反復単位膜で構成された積層部材とを具備し、
   前記積層部材の最も外側に位置する金属層のいずれか１つの金属層が、前記金属層のうちで最小の厚さを有することを特徴とする電磁波遮断用光学部材。
2. 前記積層部材の最も外側に位置する前記金属層のうち、前記ベース基板に隣接する側の金属層の厚さが、前記金属層のうちで最小であることを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮断用光学部材。
3. 前記高屈折率層は五酸化ニオブで形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電磁波遮断用光学部材。
4. 前記金属層は銀で形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電磁波遮断用光学部材。
5. 前記反復単位膜は、前記金属層と隣合って接合した少なくとも１つの金属酸化物層をさらに含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の電磁波遮断用光学部材。
6. 前記反復単位膜それぞれは、前記金属層と隣合った第１金属酸化物層および第２金属酸化物層を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の電磁波遮断用光学部材。
7. 前記金属酸化物層は、アルミニウムがドーピングされた酸化亜鉛で形成されていることを特徴とする請求項５又は６に記載の電磁波遮断用光学部材。
8. 前記電磁波遮断用光学部材は、３〜６つの前記反復単位膜を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の電磁波遮断用光学部材。
9. 前記電磁波遮断用光学部材は、４つの前記反復単位膜を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の電磁波遮断用光学部材。
10. 前記積層部材に含まれる前記金属層の厚さの合計が４８〜５２ｎｍであることを特徴とする請求項９に記載の電磁波遮断用光学部材。
11. 前記最小の厚さを有する前記金属層の厚さが８〜１２．５ｎｍであることを特徴とする請求項９又は１０に記載の電磁波遮断用光学部材。
12. 前記最小の厚さを有する前記金属層を除いた残りの前記金属層の厚さは互いに同じであることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の電磁波遮断用光学部材。
13. ベース基板と、前記ベース基板の一面に形成されて、金属層および高屈折率層を含む複数の反復単位膜で構成された積層部材とを備え、前記積層部材の最も外側に位置する金属層のいずれか１つの金属層が、前記金属層のうちで最小の厚さを有することを特徴とする電磁波遮断用光学部材と、
    前記電磁波遮断用光学部材の一面上に隣合って配置されたカラーフィルムと、
    前記カラーフィルム上に配置された反射防止フィルムと、
    を含むことを特徴とする表示装置用光学フィルタ。
14. 前記積層部材の最も外側に位置する金属層のうち、前記ベース基板に隣接する側の金属層の厚さが、前記金属層のうちで最小であることを特徴とする請求項１３に記載の表示装置用光学フィルタ。
15. 前記ベース基板は、第１面および前記第１面の反対面である第２面を含み、前記第１面が前記カラーフィルム上に接合しており、前記第２面の枠領域には黒色セラミックが形成されており、前記第２面上に前記積層部材が形成されていることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の表示装置用光学フィルタ。
16. 前記ベース基板、前記カラーフィルムおよび前記反射防止フィルムは、感圧粘着剤によって互いに接合されていることを特徴とする請求項１５に記載の表示装置用光学フィルタ。
17. 前記電磁波遮断用光学部材を保護するために前記電磁波遮蔽用光学部材上に形成された保護フィルムをさらに含むことを特徴とする請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の表示装置用光学フィルタ。
18. 前記保護フィルムは、前記枠領域の一部が露出するように前記電磁波遮断用光学部材上に形成されていることを特徴とする請求項１７に記載の表示装置用光学フィルタ。
19. 前記黒色セラミック上には導電性ペーストが形成されていることを特徴とする請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の表示装置用光学フィルタ。
20. 前記金属層は銀で形成されていることを特徴とする請求項１３〜１９のいずれか１項に記載の表示装置用光学フィルタ。
21. 前記高屈折率層は五酸化ニオブで形成されていることを特徴とする請求項１３〜２０のいずれか１項に記載の表示装置用光学フィルタ。
22. 前記ベース基板は半強化ガラスまたは透明高分子樹脂で成されていることを特徴とする請求項１３〜２０のいずれか１項に記載の表示装置用光学フィルタ。
23. 前記ベース基板は、第１面および前記第１面の反対面である第２面を含み、前記第１面上には前記積層部材が形成されており、前記積層部材が前記カラーフィルムと接合しており、前記第２面の枠領域には黒色セラミックが形成されていることを特徴とする請求項１３に記載の表示装置用光学フィルタ。
24. 前記ベース基板および前記カラーフィルムの側部は導電性テープによって包まれていることを特徴とする請求項２３に記載の表示装置用光学フィルタ。
25. 電源が印加されると電気信号を映像信号に変換して映像を表示する表示パネルおよび前記表示パネルの一面上に配置された光学フィルタを含む表示装置において、前記光学フィルタは、
    前記表示パネルと対向しており、
    ベース基板と、前記ベース基板の一面に形成されて、金属層および高屈折率層を含む複数の反復単位膜で構成された積層部材とを備え、前記積層部材の最も外側に位置する金属層のいずれか１つの金属層が、前記金属層のうちで最小の厚さを有することを特徴とする電磁波遮断用光学部材と、
    前記電磁波遮断用光学部材に隣合って配置されたカラーフィルムと、
    前記カラーフィルム上に配置された反射防止フィルムを備えた光学フィルタと、
    を含むことを特徴とする表示装置。

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