JP2008016509A - 荷電ビーム描画装置用低振動ステージ駆動装置 - Google Patents
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Abstract
本発明は,従来の問題に対処し、粒子線ビーム描画装置などにおいて基板上にパターンを描画するにあたり,ステージの振動低減による位置決め精度の向上を図ることにより、基板のパターン描画位置精度を向上させるようにしたものである。
【解決手段】 本発明の荷電ビーム描画装置用ステージ駆動装置は、基板の表面に半導体装置の回路パターンを形成に荷電ビーム描画装置を用い、前記回路パターン形成時に前記基板が設置されるステージの位置決めを行う荷電ビーム描画装置用ステージ駆動装置において、前記ステージ105の駆動が摩擦駆動で、且つ、ステージとの動力伝達部304を有することを特徴とする。
【選択図】 図3
Description
通常、片面にCrを蒸着したガラス基板上にレジストを均一に塗布したものを使用する。集束した電子あるいはレーザ等を光源としたエネルギービームを使って所望の場所のレジストを感光させるため、設計データに従いビームスポットが基板の全面を走査する。この変質したレジストを使って、Crエッチングを場所によって抑止させて、所望のCrパターンを得る。
また、このとき絞られたビームスポットを繋いで一つのパターンを形成していくため、ビームのコントロール次第では高精度にパターンを形成することが可能となっている。
また、ビームのコントロール範囲は狭いため、基板全面にビームを照射するためには、基板そのものの位置を動かす必要がある。半導体装置のほとんどは2軸の直動ステージ(XYステージ)を利用しており、基板はこのステージ上に設置され、その駆動系には高精度な位置決めのため、摩擦駆動が用いられる(特許文献1)。
通常このようなステージ装置においては、動力伝達のため駆動系とステージは剛体接続構造であるので、駆動系や、他機器からの振動といった力外乱の影響を強く受けてしまい、高精度な位置決めが困難である。
図1において、電子ビーム描画装置100は、描画部の一例となる電子鏡筒102、描画演算回路111、描画室103と、XYステージ105、駆動部106、測定部の一例となるレーザ干渉計300、位置演算部109、フィルタ部110を備えている。電子鏡筒102内には、電子銃201、照明レンズ202、第1のアパーチャ203、投影レンズ204、偏向器205、第2のアパーチャ206、対物レンズ207、偏向器208を有している。レーザ干渉計300は、レーザ光源となるレーザヘッド107、ミラー104、光学系112、受光部108を有している。
基板101に描画する場合には、XYステージ105を駆動部106によりX方向に連続移動させながら、描画(露光)面を電子線200が、偏向可能な短冊状の複数のストライプ領域に仮想分割された試料101の1つのストライプ領域上を照射する。XYステージ105のX方向に移動は、連続移動とし、同時に電子線200のショット位置もステージ移動に追従させる。連続移動させることで描画時間を短縮させることができる。
そして、1つのストライプ領域を描画し終わったら、XYステージ105を駆動部106によりY方向にステップ送りしてX方向(今度は逆向き)に次のストライプ領域の描画動作を行なう。各ストライプ領域の描画動作を蛇行させるように進めることでXYステージ105の移動時間を短縮することができる。
102 電子鏡筒
103 描画室
104 ミラー
105 XYステージ
106 駆動部
107 レーザヘッド
108 受光部
109 位置演算部
110 フィルタ部
111 描画演算回路
112 光学系
200 電子線
201 電子銃
202 照明レンズ
203 アパーチャ
204 投影レンズ
205,208 偏向器
207 対物レンズ
300 レーザ干渉計
302 駆動部
303 動力伝達部
304 低剛性継ぎ部
305 描画室
Claims (4)
- 基板の表面に半導体装置の回路パターンを形成に荷電ビーム描画装置を用い、前記回路パターン形成時に前記基板が設置されるステージの位置決めを行う荷電ビーム描画装置用ステージ駆動装置において、前記ステージの駆動が摩擦駆動で、且つ、ステージとの動力伝達部を有することを特徴とする荷電ビーム描画装置用ステージ駆動装置。
- 前記動力伝達部の軸方向に、低剛性の継ぎ部を備えていることを特徴とする請求項1記載の荷電ビーム描画装置用ステージ駆動装置。
- 前記低剛性の継ぎ部は、材料減衰の大きい材料であることを特徴とする請求項2記載の荷電ビーム描画装置用ステージ駆動装置。
- 前記低剛性おける継ぎ部の材料減衰の大きい材料は、ゴム又はスポンジ状の絶縁体を用いることを特徴とする請求項2記載の荷電ビーム描画装置用ステージ駆動装置。
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