JP2008003298A - 着色感光性樹脂組成物 - Google Patents
着色感光性樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008003298A JP2008003298A JP2006172581A JP2006172581A JP2008003298A JP 2008003298 A JP2008003298 A JP 2008003298A JP 2006172581 A JP2006172581 A JP 2006172581A JP 2006172581 A JP2006172581 A JP 2006172581A JP 2008003298 A JP2008003298 A JP 2008003298A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- photosensitive resin
- colored photosensitive
- compound
- composition according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 C(C1*C1)Oc1ccccc1 Chemical compound C(C1*C1)Oc1ccccc1 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N C(C1OC1)Oc1ccccc1 Chemical compound C(C1OC1)Oc1ccccc1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOXGADZNGVZOX-UHFFFAOYSA-N CCC1C(CC2)CC2C1CC Chemical compound CCC1C(CC2)CC2C1CC OFOXGADZNGVZOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0047—Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
【解決手段】光重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)と、着色剤(C)と、を含む着色感光性樹脂組成物において、前記光重合性化合物(A)は、エポキシ化合物(a−1)と、不飽和基含有カルボン酸(a−2)との反応物を、さらに多塩基酸無水物(a−3)と反応させることにより得られる樹脂を含み、前記樹脂は、ビフェニル骨格を有する化合物である着色感光性樹脂組成物である。
【選択図】なし
Description
光重合性化合物(以下「(A)成分」ともいう。)は、エポキシ化合物(a−1)と、不飽和基含有カルボン酸(a−2)との反応物を、さらに多塩基酸無水物(a−3)と反応させることにより得られる樹脂を含み、樹脂はビフェニル骨格を有する化合物である。以下、それぞれの成分について説明する。
本発明に用いられるエポキシ化合物(以下「(a−1)成分」ともいう。)は、ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物が好ましい。ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物は、主鎖に下記式(5)で表されるビフェニル骨格を少なくとも1つ以上有し、エポキシ基を1つ以上有している。また、この(a−1)成分としては、エポキシ基を2個以上有するものが好ましい。ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物を用いることにより、反応後の光重合性化合物中にビフェニル骨格を有するため、感度および溶解性のバランスに優れ、さらには画素エッジのシャープ性、密着性に優れた着色感光性樹脂組成物を提供することができる。
本発明において用いられる不飽和基含有カルボン酸(以下、「(a−2)成分」ともいう。)としては、分子中にアクリル基やメタクリル基等の反応性の不飽和二重結合を含有するモノカルボン酸が好ましい。このような不飽和基含有カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、β−スチリルアクリル酸、β−フルフリルアクリル酸、α−シアノ桂皮酸、桂皮酸等を挙げることができる。また、この(a−2)成分は、単独または2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
多塩基酸無水物(以下、「(a−3)成分」ともいう。)は、2個以上のカルボキシル基を有するカルボン酸の無水物である。この多塩基酸無水物としては、特に限定されないが、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、3−エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、4−エチルヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、3−メチルテトラヒドロ無水フタル酸、4−メチルテトラヒドロ無水フタル酸、3−エチルテトラヒドロ無水フタル酸、4−エチルテトラヒドロ無水フタル酸、下記式(3)、(4)で表される化合物を挙げることができる。また、この(a−3)成分は、単独または2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
また、使用量比は、(a−1)成分と(a−2)成分との反応後の成分中のOH基のモル数と、(a−3)成分の酸無水物基の当量比で、通常1:1〜1:0.1であり、好ましくは1:0.8〜1:0.2である。上記範囲とすることにより、現像液への溶解性が適度となる傾向があり好ましい。
本発明の着色感光性樹脂組成物には、エチレン性不飽和基を有するモノマーを添加することが好ましい。
エチレン性不飽和基を有するモノマーは、重合性官能基を複数有することが好ましい。エチレン性不飽和基を有するモノマーを添加したことによって、形成された膜の膜強度や、基板に対する密着性を向上させることが可能となる。
単官能モノマーとしては、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、tert−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、等が挙げられる。また、これらは単独または2種以上組み合わせて用いることが可能である。
また、光重合開始剤(以下「(B)成分」ともいう。)としては、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン等のアセトフェノン類や、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類や、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類や、ベンジルジメチルケタール、チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2−イソプロピルチオキサンテン等のイオウ化合物や、2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン類や、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物や、2−メルカプトベンゾイミダール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物や、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体等のイミダゾリル化合物や、p−メトキシトリアジン等のトリアジン化合物や、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン化合物、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1オン等のアミノケトン化合物が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独または2種以上を組み合わせてもよい。
本発明に係る着色感光性樹脂組成物は、着色剤(以下、「(C)成分」ともいう。)を含有する。
C.I.ピグメントバイオレット1(以下、「C.I.ピグメントバイオレット」は同様で番号のみ記載する)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、50;
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37;
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25、C.I.ピグメントブラウン26、C.I.ピグメントブラウン28;
C.I.ピグメントブラック1、ピグメントブラック7。
なお、本発明の着色感光性樹脂組成物における着色剤の使用量は、着色感光性樹脂組成物の固形分に対して、5質量%以上70質量%以下が好ましく、25質量%以上55質量%以下がより好ましく、30質量%以上50質量%以下がさらに好ましい。上記の範囲にすることにより、目的とするパターンでブラックマトリクスや各着色層を形成することができ、好ましい。
特にブラックマトリクスを形成する場合には、膜厚1μmあたりのOD値が、4以上となるように着色感光性樹脂組成物における黒色顔料の量を調整することが好ましい。ブラックマトリクスにおける膜厚1μmあたりのOD値が4以上あれば、液晶ディスプレイのブラックマトリクスに用いた場合に、十分な表示コントラストを得ることができる。
本発明に係る着色感光性樹脂組成物では、必要に応じて添加剤を配合することができる。具体的には、増感剤、硬化促進剤、光架橋剤、光増感剤、分散助剤、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等が挙げられる。
以下、本発明に係る着色感光性樹脂組成物を用いてカラーフィルタを形成する方法を説明する。
まず着色感光性樹脂組成物(黒色の着色剤を含む)を、基板上にロールコータ、リバースコータ、バーコータ等の接触転写型塗布装置やスピンナー(回転式塗布装置)、カーテンフローコータ等の非接触型塗布装置を用いて塗布する。基板は、光透過性を有する基板が用いられる。
この形成されたブラックマトリクスは、そのパターン形状、厚さによっては、スペーサ、インクジェット用隔壁としても使用することができる。
上記ブラックマトリクスの形成された基板上に、通常R、G、Bの3原色の着色剤を含む着色感光性樹脂組成物を用いて、一色ごとに、上記ブラックマトリクスの形成と同様にして、順次着色層を形成する。これによりカラーフィルタを形成することができる。
インクジェット方式によりカラーフィルタを形成する際には、本発明に係る着色感光性樹脂組成物から形成されたインクジェット方式カラーフィルタ形成用隔壁(以後、単に隔壁と称する)を用いる。この隔壁は、黒色であるため、ブラックマトリクスとしての役割も同時に果たす。
具体的には、まず、R、G、Bのインクを、上記隔壁に囲まれた部位にインクジェット方式で吐出し、隔壁内に溜める。次いで、溜められたインクを熱あるいは光硬化させる。これにより、カラーフィルタを形成することができる。
ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物としてエピコートYX4000H(ジャパンエポキシレジン社製、エポキシ当量192)を400g、トリフェニルホスフィン4g、アクリル酸153g、3−メトキシブチルアセテート600gを混合し、90〜100℃で反応させた。その後、多塩基酸無水物としてテトラヒドロ無水フタル酸40gおよびビフェニルテトラカルボン酸二無水物360gを加え、さらに反応させることによりビフェニル骨格を有する樹脂Aを得た。この樹脂Aは、GPCで測定した質量平均分子量が7000であり、酸価が90mgKOH/gであった。
上記樹脂A150g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート30g、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)(商品名:IRGACURE OXE 02、チバスペシャルティケミカルズ社製)12g、メルカプトベンズイミダゾール6g、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェニルs−トリアジン4g、顔料液(商品名:CFブラック、カーボン24%含有、御国色素社製)700g、3−メトキシブチルアセテート500gを混合し、着色感光性樹脂組成物を製造した。
ビフェニル骨格を有するエポキシ化合物としてNC−3000(日本化薬社製、エポキシ当量188)を520g用い、3−メトキシブチルアセテートを650g用いた以外は、実施例1と同様にして樹脂Bを合成した。この樹脂Bの分子量は、6000であり、酸価が90mgKOH/gであった。この樹脂Bを用いて、着色感光性樹脂組成物を製造した。
多塩基酸無水物としてビフェニルテトラカルボン酸二無水物を420gのみを用いた以外は、実施例1と同様にして、樹脂Cを合成した。この樹脂Cの分子量は、29000であり、酸価が100mgKOH/gであった。この樹脂Cを用いて、着色感光性樹脂組成物を製造した。
エポキシ化合物として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂であるエピコート828(ジャパンエポキシレジン社製、エポキシ当量190)を390g用いた以外は、実施例1と同様にして樹脂Dを合成した。この樹脂Dの分子量は、4000であった。この樹脂Dを用いて、着色感光性樹脂組成物を製造した。
エポキシ化合物として、下記式(6)で表されるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(エポキシ当量283)を500g用いた以外は、実施例1と同様にして樹脂Eを合成した。この樹脂Eの分子量は、4500であった。この樹脂Eを用いて、着色感光性樹脂組成物を製造した。
実施例および比較例の着色感光性樹脂組成物をガラス基板に塗布して、90℃で120秒間ベークし、厚さ1.5μmの膜を形成した。その後、形成された膜を、マスクを介して露光(露光量を50〜120mJ/cm2で変化させた)し、アルカリ現像液(商品名:N−A3K、東京応化工業社製)で現像(現像時間を45〜70秒で変化させた)してパターンを形成した。その後、形成されたパターンを、220℃30分間循環式オーブンにてポストベークを行うことにより、線幅10μmのブラックマトリクスを形成した。
なお、ブラックマトリクスの形成においては、表1に示す露光量、現像時間にて行った。
上記実施例および比較例で調製した着色感光性樹脂組成物、ならびに形成されたブラックマトリクスについて、パターン直進性、密着性、着色感光性樹脂組成物を塗布した時の異物発生の確認をした。結果は表1に示す。
なお、評価方法は、以下のとおりである。
パターン直進性(直進性):形成された10μmラインのエッジにがたつきがあるかどうかを目視で判定し、がたつきのないものを○、がたつきのあるものを×とした。
密着性:露光部に剥れおよび欠けがないものを○、あるものを×とした。
残渣:現像後の未露光部における残渣の無いものを○、あるものを×とした。
塗布時の異物発生:着色感光性樹脂組成物をガラス基板(550mm×650mm)に塗布した直後に、形成された膜上の異物の数をカウントとし、20枚のガラス基板に塗布した際の平均値を求めた。
Claims (10)
- 光重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)と、着色剤(C)と、を含む着色感光性樹脂組成物において、
前記光重合性化合物(A)は、エポキシ化合物(a−1)と、不飽和基含有カルボン酸(a−2)との反応物を、さらに多塩基酸無水物(a−3)と反応させることにより得られる樹脂を含み、
前記樹脂は、ビフェニル骨格を有する化合物である着色感光性樹脂組成物。 - 前記エポキシ化合物(a−1)は、ビフェニル骨格を有する化合物である請求項1記載の着色感光性樹脂組成物。
- 前記エポキシ化合物(a−1)は、mが1未満である請求項3または4記載の着色感光性樹組成物。
- 前記多塩基酸無水物(a−3)は、少なくともベンゼン環を2個有する化合物である請求項1から5いずれか記載の着色感光性樹脂組成物。
- 前記樹脂の重量平均分子量は、1000以上40000以下である請求項1から7いずれか記載の着色感光性樹脂組成物。
- 前記光重合性化合物(A)は、エチレン性不飽和基を有するモノマーを含む請求項1から8いずれか記載の着色感光性樹脂組成物。
- 前記着色剤(C)は、黒色顔料である請求項1から9いずれか記載の着色感光性樹脂組成物。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006172581A JP4745146B2 (ja) | 2006-06-22 | 2006-06-22 | 着色感光性樹脂組成物 |
TW096121567A TW200819912A (en) | 2006-06-22 | 2007-06-14 | Colored photosensitive resin composition |
CNA2007101125235A CN101093359A (zh) | 2006-06-22 | 2007-06-19 | 着色感光性树脂组合物 |
KR1020070060541A KR20070121551A (ko) | 2006-06-22 | 2007-06-20 | 착색 감광성 수지 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006172581A JP4745146B2 (ja) | 2006-06-22 | 2006-06-22 | 着色感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008003298A true JP2008003298A (ja) | 2008-01-10 |
JP4745146B2 JP4745146B2 (ja) | 2011-08-10 |
Family
ID=38991666
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006172581A Active JP4745146B2 (ja) | 2006-06-22 | 2006-06-22 | 着色感光性樹脂組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4745146B2 (ja) |
KR (1) | KR20070121551A (ja) |
CN (1) | CN101093359A (ja) |
TW (1) | TW200819912A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008003299A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
JP2008052069A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-03-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
JPWO2008140017A1 (ja) * | 2007-05-11 | 2010-08-05 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
JP2015078386A (ja) * | 2015-01-22 | 2015-04-23 | 日本化薬株式会社 | 反応性カルボキシレート化合物、それを用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、およびその用途 |
CN104950577A (zh) * | 2014-03-31 | 2015-09-30 | 新日铁住金化学株式会社 | 遮光膜用感光性树脂组合物、使其硬化而成的遮光膜及彩色滤光片 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5096814B2 (ja) * | 2007-07-04 | 2012-12-12 | 東京応化工業株式会社 | 着色感光性組成物 |
JP5415923B2 (ja) | 2009-12-14 | 2014-02-12 | 太陽ホールディングス株式会社 | 感光性樹脂組成物、そのドライフィルム及びそれらを用いたプリント配線板 |
JP5515714B2 (ja) * | 2009-12-16 | 2014-06-11 | Jsr株式会社 | 着色組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 |
JP5572737B1 (ja) * | 2013-06-04 | 2014-08-13 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化熱硬化性樹脂組成物、硬化物、及びプリント配線板 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0764281A (ja) * | 1993-08-30 | 1995-03-10 | Nippon Steel Corp | 感光性樹脂組成物及びその硬化物並びに画像形成材料 |
JP2000281738A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-10 | Nippon Kayaku Co Ltd | 新規不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂、樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2005126674A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-05-19 | Mitsubishi Chemicals Corp | 着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2005157311A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-06-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
WO2006030631A1 (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-23 | Toppan Printing Co., Ltd. | 着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物及び該着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタ |
JP2007003807A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 感光性樹脂組成物および該組成物を用いたソルダーレジスト |
JP2008003299A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
-
2006
- 2006-06-22 JP JP2006172581A patent/JP4745146B2/ja active Active
-
2007
- 2007-06-14 TW TW096121567A patent/TW200819912A/zh unknown
- 2007-06-19 CN CNA2007101125235A patent/CN101093359A/zh active Pending
- 2007-06-20 KR KR1020070060541A patent/KR20070121551A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0764281A (ja) * | 1993-08-30 | 1995-03-10 | Nippon Steel Corp | 感光性樹脂組成物及びその硬化物並びに画像形成材料 |
JP2000281738A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-10 | Nippon Kayaku Co Ltd | 新規不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂、樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2005126674A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-05-19 | Mitsubishi Chemicals Corp | 着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2005157311A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-06-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
WO2006030631A1 (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-23 | Toppan Printing Co., Ltd. | 着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物及び該着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタ |
JP2007003807A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 感光性樹脂組成物および該組成物を用いたソルダーレジスト |
JP2008003299A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008003299A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
JP2008052069A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-03-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
JPWO2008140017A1 (ja) * | 2007-05-11 | 2010-08-05 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
JP4985768B2 (ja) * | 2007-05-11 | 2012-07-25 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
CN104950577A (zh) * | 2014-03-31 | 2015-09-30 | 新日铁住金化学株式会社 | 遮光膜用感光性树脂组合物、使其硬化而成的遮光膜及彩色滤光片 |
KR20150113863A (ko) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 | 차광막용 감광성 수지 조성물, 이것을 경화한 차광막 및 컬러 필터 |
JP2015200881A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-12 | 新日鉄住金化学株式会社 | 遮光膜用感光性樹脂組成物、これを硬化した遮光膜及びカラーフィルター |
KR102344138B1 (ko) * | 2014-03-31 | 2021-12-28 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 차광막용 감광성 수지 조성물, 이것을 경화한 차광막 및 컬러 필터 |
JP2015078386A (ja) * | 2015-01-22 | 2015-04-23 | 日本化薬株式会社 | 反応性カルボキシレート化合物、それを用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、およびその用途 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200819912A (en) | 2008-05-01 |
KR20070121551A (ko) | 2007-12-27 |
JP4745146B2 (ja) | 2011-08-10 |
CN101093359A (zh) | 2007-12-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4745110B2 (ja) | 感光性組成物及びこの感光性組成物により形成されたカラーフィルタ | |
JP4745093B2 (ja) | 黒色感光性組成物 | |
JP4745146B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP4448381B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP5096814B2 (ja) | 着色感光性組成物 | |
CN106980230B (zh) | 感光性树脂组合物、使用该感光性树脂组合物的滤色器和显示装置 | |
JP4633582B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP4794870B2 (ja) | 遮光層形成用感光性樹脂組成物ならびに遮光層およびカラーフィルタ | |
JP4657808B2 (ja) | 感光性組成物および該感光性組成物から形成されたカラーフィルタ | |
JP2008003299A (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP4510672B2 (ja) | 感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ | |
JP5843907B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | |
KR20070027446A (ko) | 감광성 조성물 | |
JP2008052069A (ja) | 着色感光性樹脂組成物 | |
JP4745092B2 (ja) | 黒色感光性組成物、この黒色感光性組成物より製造された遮光膜及びel素子 | |
JP2008249822A (ja) | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | |
JP2009173560A (ja) | オキシムエステル系化合物及び感光性組成物 | |
JP4855312B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP2010037542A (ja) | 着色感光性樹脂組成物及びオキシム系光重合開始剤 | |
JP2008003322A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた液晶配向制御用バンプ | |
KR20160089735A (ko) | 착색 감광성 수지 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090402 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101214 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110209 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110510 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110511 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4745146 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |