JP2008002916A - サンプル液中の特定成分をインラインで除去する成分除去システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 サンプル液中の特定成分をインラインで除去する成分除去システムであって、前記サンプル液をラインに導入する導入手段と、当該サンプル液中の前記特定成分をライン内で沈殿させる手段と、沈殿した前記特定成分をライン内で濾過する濾過手段と、前記濾過手段からの濾液を排出する排出手段と、前記濾過手段に蓄積した前記特定成分を再溶解させて当該濾過手段を洗浄する洗浄手段とを有する、成分除去システム。
【選択図】 図1
Description
リン酸エッチング剤中のシリカ濃度を、以下のシステム及び条件で分析した。尚、FIAシステムにおける分析方法は、先行特許(特開2004−163191号公報)での測定方法に基づき行った。尚、比較のため、沈殿濾過を実施しない場合と、マトリックス成分を含まない超純水(UPW)の場合についても同様の試験を行った。
<前処理システム>
サンプル液(原液):15Mリン酸水溶液(85%濃度)(シリカ濃度:1000ppm、500ppm、300ppm)
希釈液:水
pH調整剤液(中和剤液):0.55Mアンモニア水
沈殿剤液:0.3M塩化カルシウム水溶液
濾過手段:外径3mmφ、内径2mmφ、カラム長さ200mmのテフロン(登録商標)ファイバー充填カラム(空隙率:50%){テフロン(登録商標)ウール:ジーエルサイエンス(株)、Cat.No.3001-12601}
前処理条件:サンプル流量(原液:希釈液=1:100)0.1ml/min、pH調整剤液流量0.1ml/min、沈殿剤液流量0.1ml/min、溶離剤液(洗浄剤液)流量0.25ml/min
<FIAシステム>
分析対象成分:シリカ
マスキング剤:4%シュウ酸
発色試薬:(1)0.042Mモリブデン酸アンモニウム、(2)6%アスコルビン酸
キャリア:水
測定条件:各液流量0.25ml/min
実施例1による分析を実施した後、十分に沈殿物が堆積した濾過手段を、流量0.25ml/minの1M塩酸で1ml(4分間)洗浄した。その後、次の測定のため、サンプル液(0.85%リン酸)0.5mlを流し、当該サンプル液流量を0.1ml/minまで落とすと同時に、pH緩衝液を流し、実施例1と同様にして再度測定を行った。尚、比較のため、洗浄しない場合も同様の試験を行った。
次に、海水サンプル液を濃縮し、当該サンプル液中に微量に存在する陽イオンを分析した。ここで、当該海水中にはナトリウムが多く含まれており、当該海水中の微量成分の測定に際しては、通常、溶媒である水を揮発させて濃縮する方法や、イオン交換樹脂を用いてナトリウムを取る方法がある。しかしながら、前者においては、析出した塩の中に当該微量成分が取り込まれてしまうという問題があり、後者においては、大量のナトリウムを取るために高イオン交換能のイオン交換樹脂を用いた場合、当該微量成分も一緒に取られてしまうという問題がある。そこで、以下の条件に従い、海水サンプル液を濃縮したところ、海水中の微量成分の量を実質的に維持しつつ、濃縮妨害成分であるナトリウムのみを選択的に除去することができた(100ppm未満)。
<前処理システム>
原液:海水
希釈液:水(10倍希釈)
pH調整剤液(中和剤液):無し
沈殿剤液:0.05Mクラウンエーテルヘキシル・リチウム塩水溶液
濾過手段:外径3mmφ、内径2mmφ、カラム長さ200mmのテフロン(登録商標)ファイバー充填カラム(空隙率:50%){テフロン(登録商標)ウール:ジーエルサイエンス(株)、Cat.No.3001-12601}
前処理条件:サンプル流量(原液:希釈液=1:100)0.1ml/min、pH緩衝剤液流量0.1ml/min、沈殿剤液流量0.1ml/min、溶離剤液流量0.25ml/min
Claims (5)
- サンプル液中の特定成分をインラインで除去する成分除去システムであって、前記サンプル液をラインに導入する導入手段と、当該サンプル液中の前記特定成分をライン内で沈殿させる手段と、沈殿した前記特定成分をライン内で濾過する濾過手段と、前記濾過手段からの濾液を排出する排出手段と、前記濾過手段に蓄積した前記特定成分を再溶解させて当該濾過手段を洗浄する洗浄手段とを有する、成分除去システム。
- 前記特定成分が、前記サンプル液中の分析対象成分の分析を妨害する分析妨害成分である、請求項1記載の成分除去システム。
- 前記特定成分が、前記サンプル液の濃縮を妨害する濃縮妨害成分である、請求項1記載の成分除去システム。
- 請求項1〜3のいずれか一項記載の成分除去システムを内装的又は外装的に有する、サンプル液中の分析対象成分を分析するための測定システム。
- 高感度分析システム、例えば、フローインジェクション分析装置(FIA)、シーケンシャルインジェクション分析装置(SIA)、高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置(ICP)、誘導結合プラズマ質量分析装置(ICP−MS)、原子吸光分析装置(AA)、気−液クロマトグラフ装置(GLC)、高速液体クロマトグラフ装置(HPCL)又はイオンクロマトグラフ装置(IC)である、請求項4記載の測定システム。
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