JP2007538012A - 純トリエチレンジアミン(teda)の溶液の製造方法 - Google Patents
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Classifications
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Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
Description
前記の結晶質TEDAは、固液分離において、負荷された溶剤1(母液)から分離され、例えば引き続いてTEDAのさらなる加工に適した第二溶剤(溶剤2)中に溶解される。
そのうえ、晶析の際にTEDA結晶中に閉じ込められた溶剤1、ひいてはまた閉じ込められた望ましくない副成分は、常用の乾燥法により除去されることができない。
ジプロピレングリコール−モノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール−モノ−t−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール−モノ−メチルエーテル、モノエチレングリコール−モノ−メチルエーテル、モノエチレングリコール−モノ−エチルエーテル、モノエチレングリコール−モノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコール−モノ−メチルエーテル、トリプロピレングリコール−モノ−メチルエーテル、
モノエチレングリコール−ジメチルエーテル、モノエチレングリコール−ジエチルエーテル、ジエチレングリコール−ジメチルエーテル、ジエチレングリコール−ジエチルエーテル、トリプロピレングリコール−ジメチルエーテル、
グリセリン、1,3,5−ペンタントリオール、1,1,1−トリメチロールプロパン(TMP、1,1,1−トリス−(ヒドロキシメチル)−プロパン)、
ジエチルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサンである。
こうして回収されたTEDAは再び前記プロセス中へ返送されることができる。
そのようなリングノズルは、例えばZ. Gao他, Chemical Engineering Research and Design: 4th International Symposium on Mixing in Industrial Processes (ISMIP-4), 2001年5月14-16日, トゥールーズ, 仏国/Joel Bertrand, 編 (2001) 79(A8), 973-978, 及びZ.D. Chen他, Chem. Eng. Res. Des. (1999) 77(A2), 104-109, 及びW.-M. Lu他, Chem. Eng. J. (ローザンヌ) (1986) 33(2), 57-62から、当業者に公知である。
この場合に絶対圧は好ましくは0.1〜5bar、特に0.5〜1.5barである。
蒸発装置、例えば精留装置又は蒸留装置の出口でのTEDAの液体状態は回避され、蒸留の際に留出物の通常の液化は行われない。蒸気状TEDAはその代わりに直接的に液状溶剤中へ導入される。
極性非プロトン性溶剤[例えばアルキル−2−ピロリドン(例えばN−メチル−2−ピロリドン(NMP)、1−エチル−2−ピロリドン(NEP)、1,5−ジメチル−2−ピロリドン、1−イソプロピル−2−ピロリドン)、エーテル(例えばジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル)、ケトン(例えばアセトフェノン、プロピオフェノン)、ラクトン(例えばγ−ブチロラクトン)、スルホキシド(例えばジメチルスルホキシド)、カルボン酸エステル(例えばフマル酸ジメチルエステル)、ニトリル(例えばベンゾニトリル)及び尿素類(例えば1,3−ジメチル−イミダゾリジン−2−オン(DMEU)、テトラメチル尿素)]、
環式又は非環式の炭化水素、特に環式又は非環式の飽和炭化水素(例えばウンデカン、ドデカン、シス−デカリン、トランス−デカリン)、
塩素化脂肪族炭化水素(例えば1−クロロオクタン、1,1−ジクロロオクタン)、
芳香族炭化水素、ニトロ芳香族化合物及びフェノール(例えばナフタレン、n−ブチルベンゼン、フェノール、クレゾール、ニトロベンゼン、ニトロフェノール)、
塩素化芳香族炭化水素(例えば1,2−ジクロロベンゼン、塩化ベンジル、1,2,3,4−テトラメチルベンゼン、1,2,3,5−テトラメチルベンゼン)、
アルコール(例えばベンジルアルコール、2−エチルヘキサノール、1−オクタノール、イソデカノール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール)、
第一級、第二級及び第三級のアミン(例えばトリ−n−ブチルアミン、ベンジルアミン、アニリン、N−エチルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン)、
N−アルキルアミド(例えばN−メチルホルムアミド、N−メチルアセトアミド)
及びそれらの混合物が適している。
(EN T値の定義については、Ch. Reichardt, Solvents and solvent effects in organic chemistry, 第2版, VCH 1988を参照)。
塩素化脂肪族炭化水素(特に塩素化アルカン、例えばジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン)、
芳香族炭化水素(例えばベンゼン、トルエン、キシレン類)、塩素化芳香族炭化水素(例えばクロロベンゼン)、
アルコール、特にC1-4−アルコール(例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール)、
ケトン、特にC3-6−ケトン(特に脂肪族ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン)、
脂肪族カルボン酸エステル(例えば酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル)、
脂肪族ニトリル(例えばアセトニトリル、プロピオニトリル)、
エーテル(例えばジオキサン、THF、ジエチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル)
及びそれらの混合物が適している。
例えば、連続法における反応排出物として、気相反応器中での320〜420℃及び0.5〜1.5bar(絶対)で溶剤(例えば水)、キャリヤーガス(例えばN2又はAr)及びゼオライト触媒の存在でのエチレンジアミン及びピペラジンの反応により得られた(例えば国際公開(WO-A)第01/02404号パンフレットによる)、TEDAを含有している混合物は、例えば約15の理論段を有する蒸留塔を備えた蒸留装置中へ通される。ここでは、低沸成分(例えばアンモニア、エチルアミン、水)は95〜120℃の頂部温度及び好ましくは500mbar〜1.5barの絶対圧で頂部を経て分離される。缶出液は、例えば約30の理論段を有する別の蒸留塔へポンプ輸送される。140〜160℃の頂部温度及び好ましくは500mbar〜1.5barの絶対圧で、この塔中でピペラジンは頂部を経て分離され、かつ場合により再び合成反応器に返送される。
例1(比較例):
約2000質量ppmのペンタン含量(溶剤1)を有し、固液分離から得られるTEDAを、ロータリーエバポレーター(Rotavapor)中で45℃/1bar絶対で約2時間乾燥させた。その場合にペンタン含量は約400質量ppmに減少されることができるに過ぎなかった。TEDA損失はその場合に約10質量%であった。乾燥時間の延長及び/又は温度の増大は、ペンタン含量の顕著な減少をもたらさなかったが、しかし明らかにより高いTEDA損失をまねいた。
試験の実施を、例1に記載されたように行ったが、しかしながら固液分離後に、得られたTEDAを、撹拌容器中でジプロピレングリコール(=溶剤2)中に50℃で溶解させ、引き続いて窒素(700l/h)で50℃でストリッピングした。ガス導入を、容器の底部でリングノズルを経て0.6cm/sのガス速度(自由容器断面積に対して)で行った。2時間のストリッピング期間後に、ペンタン含量(=溶剤1)は10質量ppm未満であった(TEDAに対して)。TEDA損失は<1質量%であった。
Claims (25)
- TEDAを蒸発させ、蒸気状TEDAを液状溶剤1中へ導入し(急冷)、かつ前記TEDAを得られた溶液から晶出させ、かつ分離する(固液分離)ことによって純トリエチレンジアミン(TEDA)の溶液を製造する方法において、
前記の得られた結晶質TEDAを溶剤2中に溶解させ、かつ生じた溶液にストリッピングガスを通す(ストリッピング)ことを特徴とする、純トリエチレンジアミン(TEDA)の溶液の製造方法。 - ストリッピングガスが窒素、希ガス、窒素含有ガス又は希ガス含有ガスである、請求項1記載の方法。
- 溶剤2がアルコール及び/又はアルキルエーテルである、請求項1又は2記載の方法。
- 溶剤2がC2-9−ジオール、C2-9−ジオール−モノ(C1-4−アルキル)エーテル、C2-9−ジオール−ジ(C1-4−アルキル)エーテル、C3-8−トリオール、C2-8−ジアルキルエーテル及び/又はC3-12−脂環式エーテルである、請求項1又は2記載の方法。
- 溶剤2がジプロピレングリコール、モノエチレングリコール及び/又は1,4−ブタンジオールである、請求項1又は2記載の方法。
- ストリッピングを20〜100℃の範囲内の温度で行う、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- ストリッピングを40〜60℃の範囲内の温度で行う、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- ストリッピングを0.1〜5barの範囲内の絶対圧で行う、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- ストリッピングガスの導入をリングノズルを経て行う、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- ストリッピングガス速度が0.1〜5cm/s(自由容器断面積に対して)である、請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。
- ストリッピングの際に生じる排ガスが、溶剤1に関して0.1〜40質量%の範囲内の濃度を有する、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
- ストリッピングの際に生じた排ガス中に含まれるTEDAを吸収により回収する、請求項1から11までのいずれか1項記載の方法。
- ストリッピング後に生じるTEDA溶液が1質量%未満の溶剤1含量を有する、請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。
- ストリッピング後に生じるTEDA溶液が0.1質量%未満の溶剤1含量を有する、請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。
- 蒸気状TEDAが蒸留塔の頂部で又は側部取出し中で得られる、請求項1から14までのいずれか1項記載の方法。
- TEDAを溶剤又は希釈剤を含有している混合物から蒸発させ、その際に前記溶剤又は希釈剤は常圧で175〜250℃の範囲内の沸点を有する、請求項1から15までのいずれか1項記載の方法。
- 液状溶剤1が、環式又は非環式の炭化水素、塩素化脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、ケトン、脂肪族カルボン酸エステル、脂肪族ニトリル及びエーテルの群から選択される、請求項1から16までのいずれか1項記載の方法。
- 液状溶剤1(急冷溶剤)としてn−ペンタン、イソペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテル、エタノール、アセトン、トルエン又はこれらの混合物を使用する、請求項1から16までのいずれか1項記載の方法。
- 液状溶剤1中への導入(急冷)のための蒸気状TEDAが、95質量%を上回る純度を有する、請求項1から18までのいずれか1項記載の方法。
- 蒸発すべきTEDAが、触媒上で高められた温度でのモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ピペラジン、N−(2−ヒドロキシエチル)−ピペラジン、N,N′−ビス(2−ヒドロキシエチル)−ピペラジン、N−(2−アミノエチル)−ピペラジン、N,N′−ビス(2−アミノエチル)−ピペラジン、モルホリン又はこれらの混合物の反応により得られたものである、請求項1から19までのいずれか1項記載の方法。
- 触媒が金属リン酸塩又はゼオライトであった、請求項20記載の方法。
- 反応を250〜450℃の範囲内の温度で気相中で実施したものである、請求項20又は21記載の方法。
- 蒸発すべきTEDAを連続的に、国際公開(WO-A)第01/02404号パンフレットに従い、EDAからゼオライト触媒の使用下に310〜370℃の範囲内の反応温度で得て、その場合に出発物質流が、EDA 20〜70質量%を含有し、10〜60質量%の含水量を有し、かつゼオライトがペンタシル型であり、100〜700:1のSi:Al原子比を有し、かつ少なくとも部分的にH+及び/又はNH4 +型で存在する、請求項1から19までのいずれか1項記載の方法。
- 99.90質量%を上回るTEDA純度(溶剤なしで計算)を有するTEDAの溶液を製造する、請求項1から23までのいずれか1項記載の方法。
- 50質量ppm未満(TEDAに対して)の溶剤1含量を有するTEDAの溶液を製造する、請求項1から24までのいずれか1項記載の方法。
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