JP2007535810A - プレーナ型雪崩効果光ダイオード - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (54)
- プレーナ型雪崩効果光ダイオードであって、
第1の接点層と、
第1の半導体層よりも小さな領域を有し、第1の接点層に隣接した拡散領域を具備する第1の半導体層と、
第2の接点層を定める第2の半導体層と、
第1および第2の接点層の間に配置された半導体増幅層と、
半導体増幅層と第1の半導体層との間に配置された半導体吸収層とを含み、低キャパシタンスと吸収並びに増幅層の周辺部近くで低電界を有する前記光ダイオード。 - 請求項1記載の光ダイオードであって、第1の半導体層は、n−型であり、拡散領域は、p−型である前記光ダイオード。
- 請求項2記載の光ダイオードであって、第1の接点層は、p−型であり、第2の接点層は、n−型である前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、第1の半導体層は、p−型であり、拡散領域は、n−型である前記光ダイオード。
- 請求項4記載の光ダイオードであって、第1の接点層は、n−型であり、第2の接点層は、p−型である前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、第1の半導体層および拡散領域は、双方がp−p+接合を形成するp−型である前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、更に、半導体吸収層に隣接して配置された少なくとも1つのグレーディング層を含む前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、更に、半導体増幅層に隣接して配置されたp−型半導体電荷制御層を含む前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、第1の半導体層は、InAlAsである前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、第2の半導体は、InAlAsである前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、半導体増幅層は、InAlAsである前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、半導体吸収層は、InAlAsである前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、光ダイオードは、半導体吸収層の中に徐々に減じる方式で延びるp−ドープホール濃度を具備した拡散プロフィールを有し、疑似電界を生成し、電子転送を強化し、ホール集積時間を低減するようになされた前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、光ダイオードは、光ダイオードの配列の中に構成されている前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、光ダイオードは、導波管光ダイオードである前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、光ダイオードは、単一光子検出器である前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、さらに、集光を改善するために集積レンズを含む前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、第1の接点層または第2の接点層は、InPの1つのn−型である前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、光ダイオードは、2000時間を超える間、初期値に対して実質的に一定の暗電流を有する前記光ダイオード。
- 請求項1記載の光ダイオードであって、20年を超える寿命を有する前記光ダイオード。
- 光ダイオード製造方法であって、
第1の接点領域を定める第1の半導体層を提供し、
半導体増幅層を蒸着し、
半導体吸収層を蒸着し、
第2の半導体層を蒸着し、
第2の接点層を蒸着し、
第2の半導体層よりも小さな領域を有し、第2の接点層に隣接した拡散領域を拡散することを含む前記方法。 - 請求項21記載の方法であって、更に、少なくとも1つのグレーディング層を半導体吸収層に隣接して蒸着することを含む前記方法。
- 請求項21記載の方法であって、更に、半導体電荷制御層を半導体増幅層に隣接して蒸着することを含む前記方法。
- 請求項21記載の方法であって、更に、少なくとも1つのn−型接点層を蒸着するステップを含む前記方法。
- 請求項21記載の方法であって、第1の半導体層は、InAlAsである前記方法。
- 請求項21記載の方法であって、第2の半導体層は、InAlAsである前記方法。
- 請求項21記載の方法であって、半導体増幅層は、InAlAsである前記方法。
- 請求項21記載の方法であって、半導体吸収層は、InGaAsである前記方法。
- 請求項21記載の方法であって、第2の半導体層は、n−型であり、拡散領域は、p−型である前記方法。
- 請求項29記載の方法であって、第1の接点層は、n−型であり、第2の接点層は、p−型である前記方法。
- 請求項21記載の方法であって、第2の半導体層は、p−型であり、拡散領域は、n−型である前記方法。
- 請求項31記載の方法であって、第1の接点層は、p−型であり、第2の接点層は、n−型である前記方法。
- 請求項21記載の方法であって、第2の半導体層および拡散領域は、p−p+接合を形成するp−型である前記方法。
- プレーナ型雪崩効果光ダイオードであって、
第1の接点層と、
第1の接点層が半導体吸収層よりも小さな領域を有する半導体吸収層と、
半導体吸収層が第1の接点層と半導体増幅層の間に配置される半導体増幅層と、
半導体吸収層と半導体増幅層が第1および第2の接点層の間に配置されている第2の接点層を定める半導体層とを含み、
低キャパシタンスと吸収および増幅層の周辺部近くで低電界を有する前記光ダイオード。 - 請求項34記載の光ダイオードであって、更に、半導体吸収層に隣接して配置された少なくとも1つのグレーディング層を含む前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、更に、半導体増幅層に隣接して配置された半導体電荷制御層を含む前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、第2の接点層は、InAlAsである前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、半導体増幅層は、InAlAsである前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、半導体吸収層は、InAlAsである前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、第1の接点層は、InAlAs半導体層である前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、第1の接点領域は、p−型である前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、第2の接点層は、n−型である前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、第1の接点領域は、n−型である前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、第2の接点層は、p−型である前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、更に、第1の接点層と半導体吸収層との間に配置された半導体層を含む不動態化領域を含む前記光ダイオード。
- 請求項45記載の光ダイオードであって、不動態化領域は、第1のグレーディング層の部分と半導体吸収および増幅層の部分とを含む前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、光ダイオードは、半導体吸収層の中に徐々に減じる方式で延びるp−ドープホール濃度を具備した拡散プロフィールを有し、疑似電界を生成し、電子転送を強化し、ホール集積時間を低減するようになされた前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、光ダイオードは、光ダイオードの配列として構成されている前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、光ダイオードは、導波管光ダイオードである前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、光ダイオードは、単一光子検出器である前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、更に、集光を改善する集積レンズを含む前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、第1の接点層または第2の接点層は、InPの1つのn型である前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、光ダイオードは、2000時間を超える間、初期値に対して実質的に一定の暗電流を有する前記光ダイオード。
- 請求項34記載の光ダイオードであって、20年を超える寿命を有する前記光ダイオード。
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